抗变红层的制作方法

1.本技术要求基于于2019年3月29日提交的韩国专利申请第10
‑
2019
‑
0037454号的优先权的权益，其公开内容通过引用整体并入本文。
2.本技术涉及抗变红层和包括其的光学层合体。


背景技术：

3.越来越多地，显示装置在更苛刻的条件下驱动和/或保持。例如，用于诸如导航装置或车辆仪表盘的车辆显示器的显示装置在夏季在非常高的温度下保持和/或驱动。
4.根据显示装置的用途，诸如偏光板的光学层合体可以与被称为盖板玻璃(cover glass)的玻璃基底接触而使用。通常，盖板玻璃等与光学层合体相比具有优异的导热特性。因此，热量更好地传递到与盖板玻璃接触的光学层合体。
5.因此，诸如偏光板的光学层合体也需要在比常规条件苛刻得多的条件(特别是在比常规温度显著更高的温度下保持的条件)下保持耐久性。


技术实现要素：

6.技术问题
7.本技术提供抗变红层、光学层合体和显示装置。
8.技术方案
9.在本说明书中提及的物理特性中，除非另有说明，否则测量温度和/或测量压力影响结果的物理特性为在室温和/或常压下测量的结果。
10.术语室温为没有加温和冷却的自然温度，其意指例如在10℃至30℃范围内的任一温度，或者23℃或约25℃左右的温度。在本说明书中，除非另有说明，否则温度的单位为℃。
11.术语常压为没有加压和减压的自然压力，其通常意指约1atm左右的大气压。
12.在本说明书中，除非另有说明，否则其中测量湿度影响结果的物理特性为在室温和常压状态下未单独控制的自然湿度下测量的物理特性。
13.本技术涉及光学层合体、显示装置或抗变红层。光学层合体或显示装置可以包括抗变红层。在本技术中，术语抗变红层可以意指应用于包括光学功能层的各种光学层合体以能够防止、减轻、减少、抑制和/或延迟光学层合体或应用于光学层合体的光学功能层的变红的各种各样的层。特别地，即使当在诸如高温的极其苛刻的条件下使用并保持对于热非常脆弱的光学功能层例如下面将描述的偏振层(特别地，基于碘的偏振层)时，抗变红层也可以有效地防止、减轻、减少、抑制和/或延迟光学功能层的变红。
14.变红意指其中光学层合体或光学功能层变红的现象。例如，可以通过所谓的cie l*a*b*颜色空间的a*值来确定变红的发生。在cie l*a*b*颜色空间中，a*值在正方向上的增加意指物体变得更红。此外，其意指随着a*值在负方向上的绝对值增加，物体变得更绿。因此，光学功能层或光学层合体的a*值变化相对于初始a*值在正方向上增加的事实意指光学功能层或光学层合体已经变红。
15.在本技术中，术语抗变红层可以意指应用于光学层合体或与光学功能层一起应用以能够防止、减轻、减少、抑制和/或延迟光学层合体和/或光学功能层的a*值在正方向上变化或增加的各种各样的层。
16.变红主要在向光学层合体和/或光学功能层施加热时容易发生，因此，在将光学层合体和/或光学功能层在高温下保持时容易发生变红。
17.在本技术中，术语抗变红层可以是指在耐热测试之后光学层合体或光学功能层的a*值变化量的绝对值可以为2或更小的层。耐热测试意指这样的测试：将光学层合体和/或光学功能层在约95℃下保持约750小时左右或在约105℃下保持约250小时。a*值变化量可以为通过从耐热测试之后的a*值(a*
a
)中减去耐热测试之前的a*值(初始a*值)(a*
i
)而获得的值(a*
a
‑
a*
i
)，或者相反，可以为通过从初始a*值(a*
i
)中减去耐热测试之后的a*值(a*
a
)而获得的值(a*
i
‑
a*
a
)。根据抗变红层的目的，a*值变化量可以为通过从耐热测试之后的a*值(a*
a
)中减去初始a*值(a*
i
)而获得的值(a*
a
‑
a*
i
)。
18.耐热测试可以为在比通常的耐热测试更苛刻的条件下进行的耐热测试。例如，耐热测试可以为在光学层合体和/或光学功能层的上表面和下表面(例如，上部整个表面和下部整个表整面)与玻璃基底接触的状态下进行的耐热测试。玻璃基底为与光学层合体或光学功能层相比通常传热良好的材料，因此在与玻璃基底接触的状态下进行耐热测试时，施加的热对光学层合体和/或光学功能层的影响变得更大。应用于耐热测试的玻璃基底的类型没有特别限制，但在本说明书中，其基于厚度为约1.1mm的钠钙玻璃基底的应用。通常已知玻璃基底具有约0.6w/mk至1.38w/mk的热导率，其中本技术的光学层合体或光学功能层即使当在具有如上的高热导率的玻璃基底与其接触的状态下进行耐热测试时也可以防止、减轻、减少、抑制和/或延迟变红。本文所提及的与耐热测试相关的色坐标和/或透射率值基于厚度为1.1mm左右的钠钙玻璃的应用，其中在耐热测试中，接触可以意指光学功能层或包含其的光学层合体与玻璃基底(厚度为1.1mm左右的钠钙玻璃板)直接接触的状态。
19.本技术的光学层合体可以包括光学功能层；和形成在光学功能层的至少一个表面上的抗变红层。由于光学层合体包括抗变红层，因此可以防止、减轻、减少、抑制和/或延迟光学层合体或光学功能层的变红。
20.例如，对于光学层合体或包括在其中的光学功能层，在耐热测试之后根据以下等式1，cie l*a*b*的色坐标a*值的变化量(δa*)的绝对值可以在2以内。本技术中所提及的色坐标是使用jasco v
‑
7100分光光度计测量的结果。
21.[等式1]
[0022]
δa*＝a*
a
‑
a*
i
[0023]
在等式1中，δa*为色坐标a*的变化量，a*
a
为在耐热测试之后的色坐标a*值，以及a*
i
为在耐热测试之前的色坐标a*值(初始a*值)。
[0024]
在另一实例中，变化量(δa*)的绝对值也可以在约1.9以内、约1.8以内、约1.7以内、约1.6以内、约1.5以内、约1.4以内、约1.3以内、约1.2以内、约1.1以内、约1.0以内、约0.9以内、约0.8以内、约0.7以内、约0.6以内、约0.5以内、约0.4以内、约0.3以内、约0.2以内、或约0.1以内。下限值没有限制，因为变化量(δa*)的绝对值意指该值越低，越少发生变红。在一个实例中，变化量(δa*)的绝对值可以为0或更大。在一个实例中，变化量(δa*)的绝对值可以为与初始阶段相比a*值在正方向上变化时的变化量。
[0025]
如上所述，耐热测试是将光学层合体和/或光学功能层保持在约95℃下约750小时左右，或保持在约105℃下约250小时的过程。该耐热测试可以在其中相关光学层合体和/或光学功能层的上表面和下表面(上部整个表面和下部整个表面)与玻璃基底(厚度为1.1mm左右的钠钙玻璃板)接触的状态下进行。接触可以为直接接触。该a*值变化量可以以本文实施例中描述的方式测量。
[0026]
当在光学层合体和/或光学功能层中发生变红时，出现其中透射率通常降低的现象。由于本技术的光学层合体具有优异的抗变红性，因此透射率的变化也是不存在或被最小化的。
[0027]
例如，在与用于确定等式1的相同的耐热测试中，对于光学层合体或光学功能层，根据以下等式2的透射率(当光学层合体为偏光板或光学功能层为偏振层时的单透射率(single transmittance))的变化量(δts)的绝对值可以在5以内。透射率为对于可见光区域中的光，例如在约380nm至780nm范围内的光使用jasco v
‑
7100分光光度计测量的结果。
[0028]
[等式2]
[0029]
δts＝t
a
‑
t
i
[0030]
在等式2中，δts为透射率(当光学层合体为偏光板或光学功能层为偏振层时的单透射率)的变化量，t
a
为耐热测试之后的透射率(当光学层合体为偏光板或光学功能层为偏振层时的单透射率)(耐热耐久性测试之后的透射率)，t
i
为耐热测试之前的透射率(当光学层合体为偏光板或光学功能层为偏振层时的单透射率)。
[0031]
在另一实例中，变化量(δts)的绝对值可以为约4.9或更小、约4.8或更小、约4.7或更小、约4.6或更小、约4.5或更小、约4.4或更小、约4.3或更小、约4.2或更小、约4.1或更小、约4或更小、约3.9或更小、约3.8或更小、约3.7或更小、约3.6或更小、约3.5或更小、约3.4或更小、约3.3或更小、约3.2或更小、约3.1或更小、约3或更小、约2.9或更小、约2.8或更小、约2.7或更小、约2.6或更小、约2.5或更小、约2.4或更小、约2.3或更小、约2.2或更小、约2.1或更小、约1.9或更小、约1.8或更小、约1.7或更小、约1.6或更小、约1.5或更小、约1.4或更小、约1.3或更小、约1.2或更小、约1.1或更小、约1.0或更小、约0.9或更小、约0.8或更小、约0.7或更小、约0.6或更小、约0.5或更小、约0.4或更小、约0.3或更小、约0.2或更小、或者约0.1或更小。透射率的变化越小，变红越少，使得变化量(δts)的绝对值的下限为0。在另一实例中，这样的变化量(δts)的绝对值也可以近似大于0。
[0032]
用于测量透射率变化量的耐热测试可以在与用于测量a*值变化量的耐热测试的条件相同的条件下进行。可以以本文实施例中描述的方式测量透射率。
[0033]
光学层合体包括光学功能层。术语光学功能层为表现出至少一种光学预期功能的层。光学预期功能的实例为产生偏振光(例如线偏振光或圆偏振光)、反射、折射、吸收、散射和/或相位延迟。在光学领域中，具有这样的功能的各种层是已知的，其中作为本技术中将应用的光学功能层的实例，可以包括在已知的光学功能层中具有变红问题的各种各样的层。
[0034]
在一个实例中，光学功能层可以为偏振层或延迟层。在本说明书中，描述了光学功能层为偏振层的情况，但是光学功能层的种类不限于偏振层。此外，当光学功能层为偏振层时，光学层合体可以为偏光板。
[0035]
在本说明书中，术语偏振层和偏光板是指其他物体。术语偏振层可以是指例如仅
表现出偏振功能的多层或单层，以及偏光板可以是指包括不具有偏振功能的其他元件以及偏振层的层合体。在此，与偏振层一起被包括在内的其他元件可以例示为偏振层的保护膜或保护层、抗变红层、延迟层、粘合剂层、压敏粘合剂层、硬涂层或低反射层等，但不限于此。
[0036]
基本上，本技术中应用的偏振层的类型没有限制。已知的最普通的偏振层为线性吸收偏振层，其为所谓的聚(乙烯醇)(下文中，可以被称为pva)偏振层。在本说明书中，除非另有说明，否则术语pva意指聚乙烯醇或其衍生物。作为pva偏振层，例如，其中吸附有各向异性吸收性材料例如碘或二色性染料并使其取向的拉伸pva膜，或者通过将pva应用于涂覆法而薄薄地形成的所谓的涂覆pva偏振层等是已知的，但是在本技术中，可以应用所有上述偏振层。除pva偏振层之外，在本技术中还可以应用由液晶化合物例如llc(溶致液晶，lyotropic liquid crystal)形成的偏光板，或者通过在gh(宾主，guest
‑
host)方法中使可聚合液晶化合物(所谓的rm(反应性液晶元，reactive mesogen))和二色性染料取向而形成的偏振层等。
[0037]
在本技术中，特别地，即使当将基于碘的偏振层应用为偏振层时，也可以有效地防止、减轻、减少、抑制和/或延迟基于碘的偏振层的变红。
[0038]
基于碘的偏振层为应用基于碘的材料作为各向异性吸收性材料的偏振层。通常，作为各向异性吸收性材料，可以应用基于碘的材料，或者可以应用诸如偶氮染料的二色性染料。前一种情况可以被称为基于碘的偏振层，后一种情况可以被称为基于染料的偏振层。通常，基于碘的偏振层与基于染料的偏振层相比可以表现出优异的光学性能(例如，高透射率、高偏振度、和高对比度)。然而，基于碘的偏振层与基于染料的偏振层相比具有显著降低的耐热性。特别地，基于碘的偏振层中包含的基于碘的材料在高温和/或高湿度条件下分解而容易产生i2物质，其通过可见光区域的不适当吸收而导致变红。因此，在必须需要在高温和/或高湿度条件下的耐久性的应用中，即使承受光学特性的损失，有时也应用基于染料的偏振层。然而，根据本技术，即使当应用基于碘的偏振层时，此外，即使当这样的基于碘的偏振层在诸如显著高的温度条件的苛刻条件下保持并使用时，也可以有效地防止、减轻、减少、抑制和/或延迟基于碘的偏振层的变红。因此，根据本技术，在解决了基于碘的偏振层的缺点的同时，可以发挥其优点。
[0039]
基于碘的偏振层可以为基于碘的pva偏振层。基于碘的pva偏振层为其中基于碘的材料在拉伸pva膜或涂覆pva偏振层中取向的偏振层。
[0040]
根据本技术，即使当应用如上的具有弱耐久性的基于碘的偏振层时，也可以利用偏振层，同时有效地防止变红现象，但是在本技术中应用的偏振层的种类不限于基于碘的偏振层。
[0041]
本技术的实例中应用的偏振层为基于碘的pva偏振层，并且这样的偏振层通常通过对pva盘式膜(disc film)进行染色并拉伸来生产。在pva偏振层的生产过程中，任选地，还可以进行诸如溶胀、交联、洗涤和/或补色过程的另外的过程，通过这样的过程生产pva偏振层的方法是众所周知的。
[0042]
在一个实例中，作为偏振层，可以使用包含锌组分的基于碘的pva偏振层，以确保光学层合体的耐久性，特别是高温可靠性。在此，锌组分例示为锌和/或锌离子等。pva偏振层还可以包含钾组分例如钾或钾离子作为另外的组分。如果使用包含这样的组分的偏振层，可以提供其中即使在高温条件下也稳定地保持耐久性的光学层合体。
[0043]
可以进一步调节钾组分和/或锌组分的比率。例如，在一个实例中，pva偏振层中包含的钾组分(k)和锌组分(zn)的比率(k/zn)可以在0.2至8的范围内。在另一实例中，比率(k/zn)可以为约0.4或更大、0.6或更大、0.8或更大、1或更大、1.5或更大、2或更大、或2.5或更大，并且可以为7.5或更小、7或更小、6.5或更小、6或更小、5.5或更小、约5或更小、约4.5或更小、或约4或更小。所述比率可以为摩尔比或重量比。
[0044]
pva偏振层中包含的钾组分的含量可以为约0.1重量％至2重量％。在另一实例中，钾组分的比率可以为约0.15重量％或更大、约0.2重量％或更大、约0.25重量％或更大、约0.3重量％或更大、约0.35重量％或更大、0.4重量％或更大、或约0.45重量％或更大、约0.5重量％或更大、约0.55重量％或更大、约0.6重量％或更大、约0.65重量％或更大、约0.7重量％或更大、约0.75重量％或更大、或约0.8重量％或更大，并且可以为约1.95重量％或更小、约1.9重量％或更小、约1.85重量％或更小、约1.8重量％或更小、约1.75重量％或更小、约1.7重量％或更小、约1.65重量％或更小、约1.6重量％或更小、约1.55重量％或更小、约1.5重量％或更小、约1.45重量％或更小、约1.4重量％或更小、约1.35重量％或更小、约1.3重量％或更小、约1.25重量％或更小、约1.2重量％或更小、约1.15重量％或更小、约1.1重量％或更小、约1.05重量％或更小、约1重量％或更小、约0.95重量％或更小、约0.9重量％或更小、或者约0.85重量％或更小左右。
[0045]
在一个实例中，可以包含钾组分和锌组分的所述比率以满足以下等式3。
[0046]
[等式3]
[0047]
0.70至1＝1/(1+0.025d/r)
[0048]
在等式3中，d为pva偏振层的厚度(μm)，r为偏振层中包含的钾组分的重量比率(k，单位：重量％)与锌组分的重量比率(zn，单位：重量％)的比率(k/zn)
[0049]
通过在偏振层中包含钾组分和锌组分，可以提供在高温下具有优异可靠性的偏振层。
[0050]
在另一实例中，等式3中的1/(1+0.025d/r)的值也可以为约0.75或更大、0.8或更大、或0.85或更大，并且1/(1+0.025d/r)的值也可以为约0.97或更小、约0.95或更小、或者约0.93或更小左右。
[0051]
在上述细节中，钾组分和/或锌组分的含量可以以本文实施例中描述的方式测量。
[0052]
在本技术的实施例中应用的偏振层可以为根据已知的用于生产偏振层的方法生产的偏振层。此外，在本技术中，当包含钾组分和/或锌组分的偏振层旨在用作偏振层时，其可以通过在已知的用于生产偏振层的方法中控制过程条件来生产，使得锌和/或钾可以包含在偏振层中。
[0053]
如上所述，pva偏振层通常通过对pva膜(盘式膜)进行染色并拉伸而生产，其中任选地，还可以在pva偏振层的生产过程中进行溶胀、交联、洗涤和/或补色过程。拉伸过程可以在单独的过程中进行，或者也可以与其他过程例如染色、溶胀和/或交联同时进行。在这样的生产过程中，应用了处理溶液例如染色溶液、交联溶液、溶胀溶液、洗涤溶液和/或补色溶液，其中通过控制该处理溶液的组分，可以确定是否包含钾组分和/或锌组分，或者可以调节比率等。
[0054]
在染色过程中，各向异性吸收性材料可以吸附和/或取向到pva膜上。如有必要，这样的染色过程可以与拉伸过程一起进行。染色可以通过将膜浸入包含各向异性吸收性材料
的溶液例如碘溶液中来进行。作为碘溶液，可以使用通过碘(i2)和作为增溶剂的碘化化合物而包含碘离子的水溶液等。作为碘化化合物，例如，可以使用碘化钾、碘化锂、碘化钠、碘化锌、碘化铝、碘化铅、碘化铜、碘化钡、碘化钙、碘化锡或碘化钛等。碘溶液中的碘和/或碘离子的浓度可以考虑偏振层的期望光学特性进行调节，并且这样的调节方式是已知的。通常，染色溶液(碘溶液)中的碘的含量可以为约0.01重量％至5重量％左右，碘化化合物的浓度可以为约0.01重量％至10重量％左右。在另一实例中，碘含量可以为0.05重量％或更大、0.1重量％或更大、或者0.15重量％或更大，并且也可以为4.5重量％或更小、4重量％或更小、3.5重量％或更小、3重量％或更小、2.5重量％或更小、2重量％或更小、1.5重量％或更小、1重量％或更小、或者0.5重量％或更小左右。在另一实例中，碘化化合物的浓度可以为0.05重量％或更大、0.1重量％或更大、0.5重量％或更大、1重量％或更大、1.5重量％或更大、或者2重量％或更大，并且也可以为9重量％或更小、8重量％或更小、7重量％或更小、6重量％或更小、5重量％或更小、4重量％或更小、或者3重量％或更小左右。在染色过程中，碘溶液的温度通常为约20℃至50℃或25℃至40℃左右，浸没时间通常为约10秒至300秒或20秒至240秒左右，但不限于此。
[0055]
虽然拉伸过程通常通过单轴拉伸来进行，但如有必要，也可以应用其他类型的拉伸例如双轴拉伸。该拉伸也可以与下面将描述的染色过程和/或交联过程一起进行。拉伸方法没有特别限制，并且例如可以应用湿法。例如，在这种湿法中，通常在染色之后进行拉伸。拉伸可以与交联一起进行，也可以进行多次或以多阶段进行。上述碘化化合物可以包含在应用于湿拉伸法的处理溶液中。处理溶液中的碘化化合物的浓度可以为约0.01重量％至10重量％左右。在另一实例中，碘化化合物的浓度可以为0.05重量％或更大、0.1重量％或更大、0.5重量％或更大、1重量％或更大、1.5重量％或更大、或者2重量％或更大，并且也可以为9重量％或更小、8重量％或更小、7重量％或更小、6重量％或更小、5重量％或更小、4重量％或更小、或者3.5重量％或更小左右。在拉伸中，处理温度通常在25℃或更大、30℃至85℃或40℃至70℃左右的范围内，处理时间通常为10秒至800秒或30秒至500秒，但不限于此。在拉伸过程中，可以考虑取向特性等来调节总拉伸比，其中总拉伸比可以为基于pva的膜的原始长度的3倍至10倍、4倍至8倍或5倍至7倍。但不限于此。在此，当拉伸还包括在其他过程例如溶胀、染色和/或交联过程中时，除拉伸过程之外，总拉伸比可以意指包括各个过程中的拉伸的累积拉伸比。考虑到偏振层的取向、可加工性或拉伸切割可能性等，可以将这样的总拉伸比调节到合适的范围。
[0056]
在偏振层的生产过程中，除了染色和拉伸之外，可以进行溶胀过程，其通常在染色过程之前进行。可以通过溶胀来洗涤pva膜表面上的污染物或防粘连剂，由此还具有能够减少不均匀例如染色偏差的效果。
[0057]
在溶胀过程中，通常可以使用水、蒸馏水或纯水等。相关处理液的主要成分是水，如有必要，其中可以包含少量碘化化合物例如碘化钾，或添加剂例如表面活性剂，或醇等。溶胀过程中的处理温度通常为20℃至45℃左右，或20℃至40℃左右，但不限于此。由于溶胀偏差可以导致染色偏差，因此可以调节过程变量使得尽可能地抑制这样的溶胀偏差的发生。任选地，也可以在溶胀过程中进行适当的拉伸。基于基于pva的膜的原始长度，拉伸比可以为6.5倍或更小、1.2倍至6.5倍、2倍至4倍、或2倍至3倍。溶胀过程中的拉伸可以将在溶胀过程之后进行的拉伸过程中的拉伸控制为小的，并且可以进行控制使得不发生膜的拉伸失
败。
[0058]
可以例如使用交联剂如硼化合物来进行交联过程。交联过程的顺序没有特别限制，该过程可以例如与染色过程和/或拉伸过程一起进行，或者可以单独进行。交联过程也可以进行多次。作为硼化合物，可以使用硼酸或硼砂。硼化合物通常可以以水溶液或水和有机溶剂的混合溶液的形式使用，并且通常使用硼酸的水溶液。硼酸水溶液中的硼酸浓度可以考虑其交联度和耐热性在适当的范围内选择。碘化化合物例如碘化钾可以包含在硼酸的水溶液等中。硼酸水溶液中的碘化化合物的浓度可以为约0.01重量％至10重量％左右。在另一实例中，碘化化合物的浓度可以为0.05重量％或更大、0.1重量％或更大、0.5重量％或更大、1重量％或更大、1.5重量％或更大、或者2重量％或更大，并且也可以为9重量％或更小、8重量％或更小、7重量％或更小、6重量％或更小、5重量％或更小、4重量％或更小、或者3.5重量％或更小左右。交联过程可以通过将pva膜浸没在硼酸水溶液等中来进行，在该过程中，处理温度通常在25℃或更大、30℃至85℃或30℃至60℃的范围内，处理时间通常为约5秒至800秒或约8秒至500秒左右。
[0059]
在偏振层的生产过程中，可以进行金属离子处理，这通常可以被称为补色过程。这样的处理例如通过将pva膜浸没在包含金属盐的水溶液中来进行。由此，可以在偏振层中包含金属组分例如金属离子，并且在该过程中，可以调节金属组分的类型或比率。作为可以应用的金属离子，可以例示过渡金属例如钴、镍、锌、铬、铝、铜、锰或铁的金属离子，还可以通过在其中选择适当的种类来调节色调。
[0060]
为了生产包含锌的偏振层，锌组分可以包含在应用于补色过程中的处理液(包含金属盐的水溶液)中。然而，如有必要，锌组分也可以在其他过程期间应用，其中锌组分也可以包含在另外的处理液(例如染色溶液或交联溶液)或单独的处理液中。锌组分可以通过将选自例如氯化锌、碘化锌、硫酸锌、硝酸锌、乙酸锌等中的一种或更多种锌盐溶解在水溶液中来引入。在这种情况下，可以将锌盐的浓度调节至约0.01重量％至10重量％左右以实现期望的锌含量。在另一实例中，锌盐的浓度可以为0.05重量％或更大、0.1重量％或更大、0.5重量％或更大、1重量％或更大、1.5重量％或更大、或者2重量％或更大，或者也可以为9重量％或更小、8重量％或更小、7重量％或更小、6重量％或更小、5重量％或更小、4重量％或更小、或者3重量％或更小左右。如有必要，处理液中也可以包含钾组分。钾组分可以通过钾盐例如碘化钾来例示。钾盐的浓度可以为约0.01重量％至10重量％左右。在另一实例中，浓度也可以为0.05重量％或更大、0.1重量％或更大、0.5重量％或更大、1重量％或更大、1.5重量％或更大、2重量％或更大、2.5重量％或更大、3重量％或更大、3.5重量％或更大、4重量％或更大、4.5重量％或更大、或者5重量％或更大，或者也可以为9重量％或更小、8重量％或更小、7重量％或更小、或者6重量％或更小左右。通过在补色过程中应用如上的锌盐或钾盐，偏振层中可以包含期望水平的锌组分和钾组分。
[0061]
在偏振层的生产过程中，可以在染色、交联和拉伸之后进行洗涤过程。通常，该洗涤过程可以在补色过程之前进行，洗涤过程可以用水进行。如有必要，在用于洗涤过程的水中，也可以以适当的量共混其他组分，例如碘、碘化物、其他金属盐、或者诸如甲醇、乙醇、异丙醇、丁醇或丙醇的液体醇。
[0062]
在这样的过程之后，可以进行干燥过程以生产偏振层。例如，考虑到偏振层所需的水分含量等，干燥过程可以在适当的温度下进行合适的时间，并且这样的条件没有特别限
制。
[0063]
如上所述，在以上过程中，锌组分和/或钾组分可以包含在偏振层中。然而，用于生产包含锌组分和/或钾组分的偏振层的方式不限于以上。例如，锌盐包含在用于溶胀、染色、交联、拉伸和/或洗涤处理的处理液中，从而在除补色过程之外的另外的过程中，也可以使锌组分包含在偏振层中。此外，由于在应用于溶胀、染色、交联、拉伸和/或洗涤处理等的处理液中也可以包含钾组分例如碘化钾，因此也可以在该过程中调节钾组分的比率。当本领域技术人员适当地采用用于生产偏振层的一般方法时，可以根据目的在偏振层中包含期望水平的锌组分和/或钾组分。
[0064]
偏振层的厚度没有限制。在本技术中，由于可以应用通常已知的偏振层，因此应用的厚度也为通常的厚度。通常，偏振层的厚度可以在5μm至80μm的范围内，但不限于此。
[0065]
本技术的光学层合体包括抗变红层。
[0066]
本技术涉及包括抗变红层的光学层合体或显示装置，或者涉及抗变红层。
[0067]
如上所述，术语抗变红层是能够防止、减轻、减少、抑制和/或延迟光学层合体和/或光学功能层的变红的层。预期光学层合体和/或光学功能层的变红由热和/或水分引起，或至少通过热和/或水分加速。随着显示装置的应用扩展，光学层合体和/或光学功能层更多地暴露于更高的温度，因此其中以前变红不成为问题的光学功能层或光学层合体在新的应用中经常导致变红。
[0068]
因此，可以将这样的层用作抗变红层：其起到阻挡施加到光学层合体和/或光学功能层的热、降低施加的热的程度或减缓传热速率的作用。
[0069]
在一个实例中，抗变红层是下面将描述的含空隙层(多孔层)，或者包括含空隙层(多孔层)的层合体，抗变红层可以为与光学功能层充分相邻地存在的层。通过将抗变红层制成含空隙层(多孔层)或包括含空隙层(多孔层)的层，可以有效地阻挡传热。在此，光学功能层可以为引起变红的层，如前述的基于碘的偏振层。此外，抗变红层与光学功能层充分相邻的存在意指这样的情况：调节抗变红层的位置以及抗变红层与光学功能层之间的距离使得抗变红层可以以能够防止、减轻、减少、抑制和/或延迟变红的水平阻挡向光学功能层传热。例如，即使存在具有与下面描述的本技术的抗变红层的配置相似的配置的层，这样的层也不能被称为本技术中提及的抗变红层，除非这样的层存在于可以阻挡向光学功能层传热的位置和距离处。例如，充分相邻存在可以意指这样的情况：引起变红的光学功能层与抗变红层之间的距离在约90μm以内、约85μm以内、约80μm以内、约75μm以内、约70μm以内、约65μm以内、约60μm以内、约55μm以内、约50μm以内、约45μm以内、约40μm以内、约35μm以内、约30μm以内、约25μm以内、约20μm以内、约15μm以内、约10μm以内、约5μm以内、约1μm以内、约0.9μm以内、约0.8μm以内、约0.7μm以内、约0.6μm以内、约0.5μm以内、约0.4μm以内、约0.3μm以内、或约0.2μm以内。此外，充分相邻还包括光学功能层和抗变红层彼此接触的情况，其中距离为0μm。因此，距离的下限为0μm。在另一实例中，距离也可以为约0.01μm或更大、约0.02μm或更大、约0.03μm或更大、约0.04μm或更大、约0.05μm或更大、约0.09μm或更大、或者约0.1μm或更大左右。在此，距离可以为抗变红层与光学功能层的面对的表面之间的最短间隔、最大间隔或平均间隔。
[0070]
在一个实例中，抗变红层为下面将描述的含空隙层(多孔层)，或者包括含空隙层(多孔层)的层合体，抗变红层可以为具有能够防止光学功能层变红的足够厚度的层。即，除
非确保合适的厚度，否则即使当将抗变红层制成含空隙层(多孔层)或包括含空隙层(多孔层)的层时，也不能有效地阻挡传热。例如，即使存在具有与下面描述的本技术的抗变红层的配置相似的配置的层，这样的层也不能被称为本技术中提及的抗变红层，除非这样的层具有可以阻挡向光学功能层传热的厚度。在一个实例中，足够的厚度也可以为例如约200nm或更大、约250nm或更大、约300nm或更大、约350nm或更大、约400nm或更大、约450nm或更大、约500nm或更大、约550nm或更大、约600nm或更大、约650nm或更大、约700nm或更大、约750nm或更大、约800nm或更大、约850nm或更大、或者约900nm或更大左右。厚度的上限没有特别限制。抗变红层越厚，防止、减轻、减少、抑制和/或延迟热的效果越好地得到改善。因此，抗变红层或含空隙层(多孔层)的厚度的上限可以考虑光学层合体所需的厚度等来选择，只要防止、减轻、减少、抑制和/或延迟热的效果得到确保即可，而没有任何特殊限制。在一个实例中，抗变红层或含空隙层(多孔层)的厚度也可以为约3,000nm或更小、约2,约900nm或更小、约2,约800nm或更小、约2,约700nm或更小、约2,约600nm或更小、约2,约500nm或更小、约2,约400nm或更小、约2,约300nm或更小、约2,约200nm或更小、约2,约100nm或更小、约2,约000nm或更小、或约1,950nm或更小左右。
[0071]
在一个实例中，抗变红层可以为具有在预定范围内的热扩散系数的层。例如，抗变红层可以具有这样水平的热扩散系数：在聚合物膜上形成相关的抗变红层以生产层合体之后，对于层合体的在95℃下测量的热扩散系数相对于单独的聚合物膜的热扩散系数为90％或更小。
[0072]
在这种情况下，抗变红层可以满足下式4。
[0073]
在本技术中，术语抗变红层可以是指含空隙层(多孔层)本身或至少包括含空隙层(多孔层)的层合体。因此，下式4中所提及的抗变红层可以为含空隙层(多孔层)或包括其的层合体。
[0074]
[式4]
[0075]
h
l
≤0.9
×
h
p
[0076]
在式4中，h
l
为聚合物膜和形成在聚合物膜一侧上的抗变红层的层合体的热扩散系数，h
p
为聚合物膜的热扩散系数。
[0077]
在本说明书中，用于测量热扩散系数的聚合物膜的类型没有特别限制。例如，上式4中的聚合物膜可以为厚度为约60μm的tac(三乙酰纤维素)膜。在另一实例中，层合体的热扩散系数(95℃)可以为tac膜的热扩散系数(95℃)(h
p
)的约89％或更小左右、约88％或更小左右、约87％或更小左右、约86％或更小左右、约85％或更小左右、约84％或更小左右、约83％或更小左右、约82％或更小左右、约81％或更小左右、约80％或更小左右、约79％或更小左右、约78％或更小左右、约77％或更小左右、约76％或更小左右、约75％或更小左右、约74％或更小左右、约73％或更小左右、约72％或更小左右、约71％或更小左右、约70％或更小左右、约69％或更小左右、约68％或更小左右、约67％或更小左右，约66％或更小左右、或约65％或更小左右，或者也可以为约10％或更大左右、约11％或更大左右、约12％或更大左右、约13％或更大左右、约14％或更大左右、约15％或更大左右、约16％或更大左右、约17％或更大左右、约18％或更大左右、约19％或更大左右、约20％或更大左右、约21％或更大左右、约22％或更大左右、约23％或更大左右、约24％或更大左右、约25％或更大左右、约26％或更大左右、约27％或更大左右、约28％或更大左右、约29％或更大左右、约30％或更大左
右、约31％或更大左右、约32％或更大左右、约33％或更大左右、约34％或更大左右、约35％或更大左右、约36％或更大左右、约37％或更大左右、约38％或更大左右、约39％或更大左右、约40％或更大左右、约41％或更大左右、约42％或更大左右、约43％或更大左右、约44％或更大左右、约45％或更大左右、约46％或更大左右、约47％或更大左右、约48％或更大左右、约49％或更大左右、约50％或更大左右、约51％或更大左右、约52％或更大左右、约53％或更大左右、约54％或更大左右、约55％或更大左右、约56％或更大左右、约57％或更大左右、约58％或更大左右、约59％或更大左右、或者约60％或更大左右。
[0078]
因此，式4中乘以h
p
的系数可以为0.89、0.88、0.87、0.86、0.85、0.84、0.83、0.82、0.81、0.80、0.79、0.78、0.77、0.76、0.75、0.74、0.73、0.72、0.71、0.70、0.69、0.68、0.67、0.66或0.65。在式4中，h
l
也可以为约0.10
×
h
p
或更大、约0.11
×
h
p
或更大、约0.12
×
h
p
或更大、约0.13
×
h
p
或更大、约0.14
×
h
p
或更大、约0.15
×
h
p
或更大、约0.16
×
h
p
或更大、约0.17
×
h
p
或更大、约0.18
×
h
p
或更大、约0.19
×
h
p
或更大、约0.20
×
h
p
或更大、约0.21
×
h
p
或更大、约0.22
×
h
p
或更大、约0.23
×
h
p
或更大、约0.24
×
h
p
或更大、约0.25
×
h
p
或更大、约0.26
×
h
p
或更大、约0.27
×
h
p
或更大、约0.28
×
h
p
或更大、约0.29
×
h
p
或更大、约0.30
×
h
p
或更大、约0.31
×
h
p
或更大、约0.32
×
h
p
或更大、约0.33
×
h
p
或更大、约0.34
×
h
p
或更大、约0.35
×
h
p
或更大、约0.36
×
h
p
或更大、约0.37
×
h
p
或更大、约0.38
×
h
p
或更大、约0.39
×
h
p
或更大、约0.40
×
h
p
或更大、约0.41
×
h
p
或更大、约0.42
×
h
p
或更大、约0.43
×
h
p
或更大、约0.44
×
h
p
或更大、约0.45
×
h
p
或更大、约0.46
×
h
p
或更大、约0.47
×
h
p
或更大、约0.48
×
h
p
或更大、约0.49
×
h
p
或更大、约0.50
×
h
p
或更大、约0.51
×
h
p
或更大、约0.52
×
h
p
或更大、约0.53
×
h
p
或更大、约0.54
×
h
p
或更大、约0.55
×
h
p
或更大、约0.56
×
h
p
或更大、约0.57
×
h
p
或更大、约0.58
×
h
p
或更大、约0.59
×
h
p
或更大、或者约60
×
h
p
或更大。
[0079]
可以控制抗变红层或含空隙层(多孔层)的表面特性。为了与应当防止、减轻、减少、抑制和/或延迟变红的光学功能层相邻放置，可以将抗变红层或含空隙层(多孔层)直接附接到光学功能层，或者可以将其附接到光学层合体的与光学功能层相邻的另一层。在这种情况下，通过控制抗变红层或含空隙层(多孔层)的表面特性，相关的抗变红层或含空隙层(多孔层)可以在具有优异的与光学功能层或另外的层的粘性的同时附接到光学功能层或另外的层，从而更有效地防止、减轻、减少、抑制和/或延迟变红。例如，抗变红层或含空隙层(多孔层)可以包括至少一个如通过原子力显微镜(afm)测量的表面积比为约0.02或更大的表面。例如，抗变红层或含空隙层(多孔层)的主要表面中的至少一者，或两个表面可以具有以上的表面积比。在一个实例中，具有至少所述表面积比的抗变红层或含空隙层(多孔层)的表面可以为面向附接有抗变红层或含空隙层(多孔层)的光学功能层或另外的层的表面。在另一实例中，抗变红层或含空隙层(多孔层)的表面积比可以为约0.022或更大、约0.024或更大、约0.026或更大、约0.028或更大、约0.03或更大、约0.032或更大、或者约0.034或更大，或者也可以为约0.5或更小、约0.45或更小、约0.4或更小、约0.35或更小、约0.3或更小、或者约0.25或更小左右。表面积比可以通过如实施例中描述的方法来测量。
[0080]
抗变红层或含空隙层(多孔层)可以表现出期望水平的对于红外线的反射率。由于热也以红外线的形式传递，因此即使当对其表现出适当的反射率时，也可以确保期望的抗变红特性。在本说明书中，术语红外线可以意指具有在约800nm至1,300nm范围内的任一波长、或者在所述范围中的一些区域的范围内的波长，或者整个区域的波长的电磁波。因此，
红外反射率可以为对于800nm至1,300nm范围内的任一波长的反射率，或者可以为对于所述范围内的一些区域或整个区域的范围的平均反射率。反射率可以根据本文实施例中描述的方式来测量。抗变红层或含空隙层(多孔层)的红外反射率可以为约2％或更大。在另一实例中，反射率可以为约2.5％或更大、约3％或更大、约3.5％或更大、或者约4％或更大。由于这意指反射率的值越高，抗变红层或含空隙层(多孔层)可以适当地阻挡和/或延迟施加到光学层合体和/或光学功能层的热，因此上限没有特别限制。示例性地，红外反射率也可以为约10％或更小、约9％或更小、约8％或更小、约7％或更小、约6％或更小、或约5％或更小左右。
[0081]
作为抗变红层或含空隙层(多孔层)，可以应用各种层而没有特别限制，只要它们具有可以应用于光学层合体的合适的透射率并且具有以上特性(热扩散系数、表面积比和/或反射率)即可。如果它们具有以上特性，则可以防止、减轻、减少、抑制和/或延迟变红，所以只要适当地确保透射率，理论上所有都可以应用于本技术中。在此，光学层合体中所需的透射率可以为约70％或更大、约75％或更大、约80％或更大、约85％或更大、或约90％或更大。透射率的值越高，其越合适，所以其上限没有特别限制。例如，透射率可以为约100％或更小、约95％或更小、或者约90％或更小左右。在此，透射率可以为对于在可见光区域，例如，约380nm至780nm范围内的任一波长，或者在所述范围内的预定区域或整个区域内的波长的光的透射率或平均透射率。当应用含空隙层(多孔层)或者包括含空隙层(多孔层)的层合体作为抗变红层时，通过抗变红层中存在的空隙可以有效地阻挡传热，但由于空隙在光学层合体中使光散射或衍射，因此在透射率方面可能是不利的。然而，在本技术中，如下所述，通过控制空隙的形状，不存在由于光的散射或衍射导致的透射率下降，或者可以将这样的下降至少限制到在使用时不存在问题的水平。
[0082]
作为抗变红层，例如，可以应用含空隙层(多孔层)或包括含空隙层(多孔层)的层。即，如上所述，在本技术中，抗变红层可以是指含空隙层(多孔层)本身，或者也可以是指包括含空隙层(多孔层)和其他层的层合体，只要其满足防止变红的目的即可。在一个实例中，抗变红层可以通过包括含空隙层(多孔层)而表现出上述特性(热扩散系数、表面积比和/或红外反射率)。因此，上述热扩散系数、表面积比和/或红外反射率可以是对于含空隙层(多孔层)，或者也可以是对于至少包括含空隙层(多孔层)的层合体。在此，与含空隙层(多孔层)一起包括在抗变红层中的其他元件的类型没有特别限制，其可以为例如构成光学层合体的元件，例如偏振层或其保护膜和延迟膜。
[0083]
含空隙层为在其中包含至少一个或更多个空隙的层，其中抗变红层可以通过这些空隙起到防止、减轻、减少、抑制和/或延迟传热的功能。在本技术中，当含空隙层被称为多孔层时，在含空隙层内部包含至少两个或更多个空隙。为了确保上述物理特性，例如热扩散系数、表面积比和/或反射率等，重要的是抗变红层包括含空隙层(多孔层)。此时，含空隙层(多孔层)中包含的空隙的形状没有特别限制，其可以为基本上球形或椭圆形的，或者其他各种类型的空隙均可以应用。
[0084]
空隙的尺寸(直径)可以在约0.5nm至100nm的范围内。当相关空隙为球形时，空隙的尺寸意指颗粒直径，当空隙不是球形时，假定空隙具有相同体积的球体并且其为此时该球体的颗粒直径。在另一实例中，空隙的尺寸可以为约1nm或更大、约2nm或更大、约3nm或更大、约4nm或更大、约5nm或更大、约6nm或更大、约7nm或更大、约8nm或更大、约9nm或更大、约
10nm或更大、约11nm或更大、约12nm或更大、约13nm或更大、约14nm或更大、约15nm或更大、约16nm或更大、约17nm或更大、约18nm或更大、约19nm或更大、约20nm或更大、约21nm或更大、约22nm或更大、约23nm或更大、约24nm或更大、约25nm或更大、约26nm或更大、约27nm或更大、约28nm或更大、约29nm或更大、约31nm或更大、约32nm或更大、约33nm或更大、约34nm或更大、约35nm或更大、约36nm或更大、约37nm或更大、或者约38nm或更大，或者也可以为约99nm或更小、98nm或更小、约97nm更小、约96nm更小、约95nm更小、约94nm更小、约93nm更小、约92nm更小、约91nm或更小、约90nm或更小、约89nm或更小、约88nm或更小、约87nm或更小、约86nm或更小、约85nm或更小、约84nm或更小、约83nm或更小、约82nm或更小、约81nm或更小、约79nm或更小、约78nm或更小、约77nm或更小、约76nm或更小、约75nm或更小、约74nm或小于、约73nm或更小、约72nm或更小、约71nm或更小、约69nm或更小、约68nm或更小、约67nm或更小、约66nm或更小、约65nm或更小、约64nm或更小、约63nm或更小、约62nm或更小、约61nm或更小、约59nm或更小、约58nm或更小、约57nm或更小、约56nm或更小、约55nm或更小、约54nm或更小、约53nm或更小、约52nm或更小、约51nm或更小、约50nm或更小、约49nm或更小、约48nm或更小、约47nm或更小、约46nm或更小、或者约45nm或更小左右。
[0085]
为了使抗变红层的效果最大化、确保上述物理特性(热扩散系数、表面积比和/或反射率等)、以及保持透射率，可以控制含空隙层(多孔层)中的空隙的位置或分布。
[0086]
例如，抗变红层或含空隙层(多孔层)可以在小角x射线散射(saxs，small angle x
‑
ray scattering)分析的散射强度的对数值图中在0.06nm
‑1至0.209nm
‑1的散射矢量范围内表现出至少一个峰。该特性为反映空隙之间的平均距离的特性。例如，表现出所述峰的散射矢量变小的事实意指抗变红层或含空隙层(多孔层)中空隙之间的平均距离变得更远的趋势，反之，表现出所述峰的散射矢量变大的事实意指空隙之间的平均距离变得更近的趋势。
[0087]
当散射矢量为约0.06nm
‑1或更大时，在特性方面有利的是，由于空隙在抗变红层或含空隙层(多孔层)中被适当地稠化，因此可以阻挡或减少施加的热。此外，当矢量为约0.209nm
‑1或更小时，空隙在抗变红层或含空隙层(多孔层)中以适当的间隔布置，使得抗变红层或含空隙层(多孔层)的表面粗糙度等保持在适当的水平，这可以使抗变红层或含空隙层(多孔层)更容易应用于光学层合体。此外，抗变红层的透射率也可以保持在散射矢量范围内的适当范围内。在另一实例中，确定所述峰的散射矢量可以为约0.065nm
‑1或更大、约0.07nm
‑1或更大、约0.075nm
‑1或更大、约0.08nm
‑1或更大、约0.085nm
‑1或更大、约0.09nm
‑1或更大、约0.095nm
‑1或更大、或0.1nm
‑1或更大，并且还可以为约0.205nm
‑1或更小、约0.2nm
‑1或更小、约0.19nm
‑1或更小、约0.185nm
‑1或更小、约0.18nm
‑1或更小、或约0.16nm
‑1或更小。
[0088]
在此，所述峰为在通过分析而确定的散射强度的对数值图中，散射强度的对数值上凸的极值或拐点。散射矢量为由以下等式5限定的值，其中在这样的散射矢量的范围内可以确定至少一个或更多个峰。
[0089]
[等式5]
[0090]
q＝4πsin(θ/λ)
[0091]
在等式5中，q为散射矢量，θ为1/2倍散射角的值，λ为照射的x射线的波长(单位：nm)。
[0092]
进行小角x射线散射评估的方式是根据本文实施例的描述。
[0093]
抗变红层或含空隙层(多孔层)的a值可以为1.5或更小，b值在0至0.01的范围内，c值在0至0.001的范围内，其满足以下等式6。
[0094]
[等式6]
[0095][0096]
在等式6中，n(λ)为抗变红层或含空隙层(多孔层)在λ波长处的折射率，λ为300nm至1800nm范围内的任一波长。
[0097]
等式6根据所谓的柯西模型(cauchy model)拟合了抗变红层或含空隙层(多孔层)的通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度。当抗变红层或含空隙层(多孔层)具有满足以上等式6的在上述范围内的a、b和c值时，抗变红层或含空隙层(多孔层)可以具有可以表现变红功能的空隙特性。以上等式6反映了抗变红层或含空隙层(多孔层)的折射率特性。抗变红层或含空隙层(多孔层)的总折射率由构成抗变红层或含空隙层(多孔层)的空隙的折射率和除空隙之外的其他组分(例如粘结剂)的折射率决定。因此，在以上等式6中的抗变红层或含空隙层(多孔层)的a、b和c值可以反映抗变红层中的空隙的数量。在一个实例中，当a、b和/或c值在以上范围内时，抗变红层或含空隙层(多孔层)的表面粗糙度等保持在适当的水平，同时抗变红层或含空隙层(多孔层)中的空隙以能够适当地阻挡或延迟热移动的水平存在，使得将抗变红层或含空隙层(多孔层)应用于光学层合体可以更容易地进行。此外，在a、b和/或c值的范围内，也可以稳定地保持光学层合体中的抗变红层或含空隙层(多孔层)的透射率。
[0098]
在另一实例中，a值可以为约1.1或更大、约1.15或更大、约1.2或更大、约1.25或更大、或者约1.3或更大。在此，在另一实例中，b值可以为约0.0001或更大、约0.0002或更大、约0.0003或更大、约0.0004或更大、约0.0005或更大、约0.0006或更大、或者约0.0007或更大，或者也可以为约0.009或更小、约0.008或更小、约0.007或更小、约0.006或更小、约0.005或更小、或者约0.004或更小左右。在此，在另一实例中，c值可以为约0.000001或更大、约0.00002或更大、约0.000003或更大、约0.000004或更大、约0.000005或更大、约0.000006或更大、约0.000007或更大、约0.000008或更大、约0.000009或更大、约0.00001或更大、约0.00002或更大、约0.00003或更大、约0.00004或更大、约0.00005或更大、约0.00006或约0.00007或更大，或者也可以为约0.0009或更小、约0.0008或更小、约0.0007或更小、约0.0006或更小、约0.0005或更小、或约0.0004或更小左右。
[0099]
在等式6中，λ可以为在约300nm至约1800nm范围内的任一波长，在一个实例中，其可以为约400nm或更大、或者约500nm或更大，或者可以为约1700nm或更小、约1600nm或更小、约1500nm或更小、约1400nm或更小、约1300nm或更小、约1200nm或更小、约1100nm或更小、约1000nm或更小、约900nm或更小、约800nm或更小、约700nm或更小、或者约600nm或更小，或者可以为约550nm的波长范围。满足等式6的抗变红层或含空隙层(多孔层)可以具有约1.5或更小的折射率(基于550nm的波长)，在另一实例中，折射率可以为约1.1或更大、或者约1.15或更大。
[0100]
抗变红层或含空隙层(多孔层)中空隙的体积分数可以为约0.1或更大。当抗变红层或含空隙层(多孔层)的总体积换算为1时，体积分数为空隙所占的空间体积的比率。在该
范围内，抗变红层或含空隙层(多孔层)可以适当地阻挡或减少传热。此外，在所述范围内，光学层合体中的抗变红层或含空隙层(多孔层)的透射率也可以稳定地保持。体积分数可以通过经由浮力法等确定抗变红层或含空隙层(多孔层)的密度、质量和体积来测量，或者如下所述，当通过使用中空颗粒来形成抗变红层或含空隙层(多孔层)时，其可以通过所应用的中空颗粒的量和粘结剂的量等来确定。
[0101]
抗变红层或含空隙层(多孔层)可以以各种方式形成。形成包含空隙的层的代表性方法为应用中空颗粒的方式。因此，在一个实例中，抗变红层可以至少包含粘结剂和中空颗粒。
[0102]
通过控制粘结剂和中空颗粒的壳部分的折射率、中空颗粒和其中的孔的尺寸分布、中空颗粒的量等，可以满足上述特性(热扩散系数(式4)、表面特性(afm的表面积比)、红外反射率、可见光透射率、saxs特性、体积分数和/或折射率特性)。
[0103]
可以应用各种粘结剂而没有特别限制。例如，作为粘结剂，可以应用可适用于光学器件的各种可固化树脂组合物。可适用于光学器件的树脂包括例如丙烯酸系列、环氧化合物系列和/或有机硅系列等，其中粘结剂可以通过应用树脂或能够形成其的前体来形成。这样的树脂或前体可以是可固化的，其可以为例如通过照射光例如紫外线或电子束而固化的材料、通过热而固化的材料、或者通过其他作用例如水分而固化的材料。
[0104]
作为粘结剂，可以应用具有在约1.1至1.6范围内的折射率(基于550nm的波长)的那些。满足如上所述的等式6的抗变红层可以通过将在该折射率范围下的粘结剂与中空颗粒组合而容易地形成。在另一实例中，折射率可以为约1.15或更大、约1.2或更大、约1.25或更大、约1.3或更大、约1.35或更大、或者约1.4或更大，或者可以为约1.55或更小、或约1.5或更小左右。
[0105]
满足这样的折射率的典型粘结剂为丙烯酸类粘结剂。抗变红层的粘结剂可以包含可聚合丙烯酸类化合物的聚合单元。
[0106]
在一个实例中，作为丙烯酸类化合物，可以使用具有拥有1至20个碳原子、1至16个碳原子、1至12个碳原子、1至8个碳原子或1至4个碳原子的烷基或烷氧基的(甲基)丙烯酸烷基酯或(甲基)丙烯酸烷氧基酯；单官能丙烯酸酯化合物，例如(甲基)丙烯酸2
‑
羟基乙酯、(甲基)丙烯酸2
‑
羟基丙酯、(甲基)丙烯酸4
‑
羟基丁酯、(甲基)丙烯酸6
‑
羟基己酯或(甲基)丙烯酸8
‑
羟基辛酯；双官能丙烯酸酯，例如1,4
‑
丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6
‑
己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇己二酸酯二(甲基)丙烯酸酯、羟基新戊酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、二环戊基二(甲基)丙烯酸酯、己内酯改性的二环戊烯基二(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷改性的二(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酰氧基乙基异氰脲酸酯、烯丙基化的环己基二(甲基)丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇(甲基)丙烯酸酯、二羟甲基二环戊烷二(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷改性的六氢邻苯二甲酸二(甲基)丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇改性的三甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、金刚烷二(甲基)丙烯酸酯或9,9
‑
双[4
‑
(2
‑
丙烯酰氧基乙氧基)苯基]芴；三官能丙烯酸酯，例如三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、丙酸改性的二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、环氧丙烷改性的三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三官能氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯或三(甲基)丙烯酰氧基乙基异氰脲酸酯；四官能丙烯酸酯，例如二甘油四(甲基)丙烯酸酯或季戊四醇四(甲基)丙烯酸
酯；五官能丙烯酸酯，例如丙酸改性的二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯；和六官能丙烯酸酯，例如二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己内酯改性的二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯或氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(例如异氰酸酯单体和三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯的反应产物)等。
[0107]
作为多官能丙烯酸酯，可以使用工业上被称为所谓的可光固化低聚物的化合物，例如氨基甲酸酯丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯或聚醚丙烯酸酯等。可以选择并使用这些化合物中的适当种类中的一种或两种或更多种。
[0108]
用于形成抗变红层或含空隙层(多孔层)的粘结剂的种类不限于以上，并且用于光学器件的各种其他材料均可以应用。
[0109]
为了确保与中空颗粒组合的满足期望特性(热扩散系数(式4)、表面特性(afm的表面积比)、红外反射率、可见光透射率、saxs特性、体积分数和/或折射率特性)的适当的空隙特性，可以将来自上述种类的多官能丙烯酸酯用作粘结剂。即，粘结剂可以包含多官能丙烯酸酯的聚合物。多官能丙烯酸酯为具有至少两个或更多个可聚合官能团(丙烯酰基、甲基丙烯酰基、丙烯酰氧基或甲基丙烯酰氧基)的化合物。在另一实例中，丙烯酸类可聚合官能团的数目可以为3个或更多，或者可以为10个或更少、9个或更少、8个或更少、7个或更少、6个或更少、5个或更少、4个或更少、或者3个或更少。在形成其中通过期望的交联度和孔特性而稳定地确保热扩散系数(式4)、表面特性(afm的表面积比)、红外反射率、可见光透射率、saxs特性、体积分数和/或折射率特性的抗变红层中，应用不含任何羟基和任何环结构(例如，芳族环结构或双环戊二烯结构)的化合物作为这样的多官能丙烯酸酯是有利的。出于同样的原因，优选抗变红层(含空隙层(多孔层))的粘结剂中不存在羟基或环结构，或者即使其存在，其比率也受到限制。此外，在形成其中通过期望的交联度和孔特性而稳定地确保热扩散系数(式4)、表面特性(afm的表面积比)、红外反射率、可见光透射率、saxs特性、体积分数和/或折射率特性的抗变红层中，使用分子量在约150g/mol至约1,000g/mol的范围内的化合物作为多官能丙烯酸酯是有利的。在另一实例中，分子量可以为约170g/mol或更大、约190g/mol或更大、约210g/mol或更大、约230g/mol或更大、约250g/mol或更大、约270g/mol或更大、或者约290g/mol或更大，或者也可以为约980g/mol或更小、约960g/mol或更小、约940g/mol或更小、约920g/mol或更小、约900g/mol或更小、约880g/mol或更小、约860g/mol或更小、约840g/mol或更小、约820g/mol或更小、约800g/mol或更小、约780g/mol或更小、约760g/mol或更小、约740g/mol或更小、约720g/mol或更小、约700g/mol或更小、约680g/mol或更小、约660g/mol或更小、约640g/mol或更小、约620g/mol或更小、约600g/mol或更小、约580g/mol或更小、约560g/mol或更小、约540g/mol或更小、约520g/mol或更小、约500g/mol或更小、约480g/mol或更小、约460g/mol或更小、约440g/mol或更小、约420g/mol或更小、约400g/mol或更小、约380g/mol或更小、约360g/mol或更小、约340g/mol或更小、约320g/mol或更小、或者约300g/mol或更小左右。就更有效地确保期望特性而言，粘结剂可以基本上包含多官能丙烯酸酯作为主要组分。因此，粘结剂中的多官能丙烯酸酯的重量比率可以为约50％或更大、约52％或更大、约54％或更大、约56％或更大、约58％或更大、约60％或更大、约62％或更大、约64％或更大、约66％或更大、约68％或更大、约70％或更大、约72％或更大、约74％或更大、约76％或更大、约78％或更大、约80％或更大、约82％或更大、约84％或更大、约86％或更大、约88％或更大、约90％或更大、约92％或更大、约94％或更大、约96％
或更大、或者约98％或更大左右，并且该比率也可以为约100％或更小、或小于约100％左右。所述比率可以为粘结剂中的多官能丙烯酸酯的比率，例如，当含空隙层(多孔层)为包含粘结剂和中空颗粒的层时，其可以为基于通过从含空隙层(多孔层)的总重量中减去中空颗粒而获得的重量的比率。
[0110]
作为中空颗粒，例如，可以使用具有特定颗粒尺寸分布的颗粒以满足上述物理特性中的每一者。例如，作为中空颗粒，可以应用这样的颗粒：在颗粒尺寸分布的重量累积曲线中，d10颗粒直径、d50颗粒直径和d90颗粒直径分别在约20nm至约50nm、约55nm至约100nm和约110nm至约180nm的范围内。在此，当中空颗粒的总重量为100重量时，在表明各颗粒直径的重量的累积分布图中，d10颗粒直径、d50颗粒直径和d90颗粒直径为分别对应于最大值(100重量％)的约10重量％、约50重量％和约90重量％的值。通过应用具有如上所述的颗粒直径分布的颗粒，可以有效地形成期望的抗变红层。
[0111]
在另一实例中，d10颗粒直径可以为约21nm或更大、约22nm或更大、约23nm或更大、约24nm或更大、约25nm或更大、约26nm或更大、约27nm或更大、约28nm或更大、约29nm或更大、约30nm或更大、约31nm或更大、或者约32nm或更大，或者也可以为约49nm或更小、约48nm或更小、约47nm或更小、约46nm或更小、约45nm或更小、约44nm或更小、约43nm或更小、约42nm或更小、约41nm或更小、约40nm或更小、约39nm或更小、约38nm或更小、约37nm或更小、约36nm或更小、约35nm或更小、约34nm或更小、或者约33nm或更小左右。
[0112]
在另一实例中，d50颗粒直径可以为约56nm或更大、约57nm或更大、约58nm或更大、约59nm或更大、约60nm或更大、约61nm或更大、或者62nm或更大，或者也可以为约99nm或更小、约98nm或更小、约97nm或更小、或约96nm或更小、约95nm或更小、约94nm或更小、约93nm或更小、约92nm或更小、约91nm或更小、约90nm或更小、约89nm或更小、约88nm或更小、约87nm或更小、约86nm或更小、约85nm或更小、约84nm或更小、约83nm或更小、约82nm或更小、约81nm或更小、约79nm或更小、约78nm或更小、约77nm或更小、约76nm或更小、约75nm或更小、约74nm或更小、约73nm或更小、约72nm或更小、约71nm或更小、或者约70nm或更小左右。
[0113]
在另一实例中，d90颗粒直径可以为约111nm或更大、约112nm或更大、约113nm或更大、约114nm或更大、约115nm或更大、约116nm或更大、约117nm或更大、约118nm或更大、约119nm或更大、约120nm或更大、或约121nm或更大、约122nm或更大、或者123nm或更大，或者也可以为约179nm或更小、约178nm或更小、约177nm或更小、约176nm或更小、约175nm或更小、约174nm或更小、约173nm或更小、约172nm或更小、约171nm或更小、约170nm或更小、约169nm或更小、约168nm或更小、约167nm或更小、约166nm或更小、约165nm或更小、约164nm或更小、约163nm或更小、约162nm或更小、约161nm或更小、约160nm或更小、约159nm或更小、约158nm或更小、约157nm或更小、约156nm或更小、约155nm或更小、约154nm或更小、约153nm或更小、约152nm或更小、约151nm或更小、约150nm或更小、约149nm或更小、约148nm或更小、约147nm或更小、约146nm或更小、约145nm或更小、约144nm或更小、约143nm或更小、约142nm或更小、约141nm或更小、约140nm或更小、约139nm或更小、约138nm或更小、约137nm或更小、约136nm或更小、约135nm或更小、约134nm或更小、约133nm或更小、约132nm或更小、约131nm或更小、约130nm或更小、约129nm或更小、约128nm或更小、约127nm或更小、或者约126nm或更小左右。
[0114]
作为中空颗粒，可以应用孔尺寸对应于空隙尺寸的颗粒。因此，孔尺寸可以在约
0.5nm至约100nm的范围内。
[0115]
在另一实例中，孔尺寸可以为约1nm或更大、约2nm或更大、约3nm或更大、约4nm或更大、约5nm或更大、约6nm或更大、约7nm或更大、约8nm或更大、约9nm或更大、约10nm或更大、约11nm或更大、约12nm或更大、约13nm或更大、约14nm或更大、约15nm或更大、约16nm或更大、约17nm或更大、约18nm或更大、约19nm或更大、约20nm或更大、约21nm或更大、约22nm或更大、约23nm或更大、约24nm或更大、约25nm或更大、约26nm或更大、约27nm或更大、约28nm或更大、约29nm或更大、约31nm或更大、约32nm或更大、约33nm或更大、约34nm或更大、约35nm或更大、约36nm或更大、约37nm或更大、或者约38nm或更大，或者也可以为约99nm或更小、约98nm或更小、约97nm或更小、约96nm或更小、约95nm或更小、约94nm或更小、约93nm或更小、约92nm或更小、约91nm或更小、约90nm或更小、约89nm或更小、约88nm或更小、约87nm或更小、约86nm或更小、约85nm或更小、约84nm或更小、约83nm或更小、约82nm或更小、约81nm或更小、约79nm或更小、约78nm或更小、约77nm或更小、约76nm或更小、约75nm或更小、约74nm或更小、约73nm或更小、约72nm或更小、约71nm或更小、约69nm或更小、约68nm或更小、约67nm或更小、约66nm或更小、约65nm或更小、约64nm或更小、约63nm或更小、约62nm或更小、约61nm或更小、约59nm或更小、约58nm或更小、约57nm或更小、约56nm或更小、约55nm或更小、约54nm或更小、约53nm或更小、约52nm或更小、约51nm或更小、约50nm或更小、约49nm或更小、约48nm或更小、约47nm或更小、约46nm或更小、或约45nm或更小左右。
[0116]
可以应用各种中空颗粒而没有特别限制，只要它们可以具有如上特性并表现出前述特性(热扩散系数(式4)、表面特性(afm的表面积比)、红外反射率、可见光透射率、saxs特性、体积分数和/或折射率特性)即可。
[0117]
例如，作为中空颗粒，可以使用其中壳部分由有机物质制成的有机颗粒、其中壳部分由无机物质制成的无机颗粒和/或其中壳部分由有机
‑
无机物质制成的有机
‑
无机颗粒等。这样的颗粒可以例示为丙烯酸类颗粒，例如pmma(聚(甲基丙烯酸甲酯))、环氧化合物颗粒、尼龙颗粒、苯乙烯颗粒和/或苯乙烯/乙烯基单体的共聚物颗粒等，或无机颗粒，例如二氧化硅颗粒、氧化铝颗粒、氧化铟颗粒、氧化锡颗粒、氧化锆颗粒、氧化锌颗粒和/或二氧化钛颗粒等，但不限于此。
[0118]
抗变红层或含空隙层(多孔层)可以以约5重量％或更大的比率包含中空颗粒。在另一实例中，该比率可以为约10重量％或更大、约15重量％或更大、约20重量％或更大、约25重量％或更大、约30重量％或更大、约35重量％或更大、约40重量％或更大、约45重量％或更大、约50重量％或更大、约55重量％或更大、约60重量％或更大、约65重量％或更大、约70重量％或更大、约75重量％或更大、约80重量％或更大、约85重量％或更大、约90重量％或更大、约95重量％或更大、约100重量％或更大、约105重量％或更大、约110重量％或更大、约115重量％或更大、约120重量％或更大、约125重量％或更大、约130重量％或更大、约135重量％或更大、约140重量％或更大、约145重量％或更大、约150重量％或更大、约155重量％或更大、约160重量％或更大、约165重量％或更大、约170重量％或更大、约175重量％或更大、或者约180重量％或更大。在另一实例中，该比率也可以为约9,000重量％或更小、约8,000重量％或更小、约7,000重量％或更小、约6,000重量％或更小、约5,000重量％或更小、约4,000重量％或更小、约3,000重量％或更小、约2,000重量％或更小、约1,000重量％或更小、约900重量％或更小、约800重量％或更小、约700重量％或更小、约600重量％或更
小、约500重量％或更小、约400重量％或更小、约300重量％或更小、约250重量％或更小、约240重量％或更小、约230重量％或更小、约220重量％或更小、约210重量％或更小、或者约200重量％或更小左右。
[0119]
可以根据期望的特性来调节中空颗粒的比率。在一个实例中，抗变红层或含空隙层(多孔层)可以仅包含中空颗粒作为颗粒。即，在这样的实例中，抗变红层或含空隙层(多孔层)可以不包含所谓的实心颗粒。因此，可以更适当地实现抗变红层或含空隙层(多孔层)的期望特性。
[0120]
除以上组分之外，如有必要，抗变红层或含空隙层(多孔层)还可以包含本领域已知的任何添加剂。这样的添加剂可以例示为用于粘结剂的硬化剂或引发剂、抗氧化剂、紫外线稳定剂、紫外线吸收剂、着色剂、消泡剂、表面活性剂和/或增塑剂等。
[0121]
可以控制抗变红层或含空隙层(多孔层)的厚度以表现期望的抗变红能力。例如，抗变红层或含空隙层(多孔层)的厚度可以为约200nm或更大。在该厚度范围内，可以有效地表现期望的抗变红能力。在另一实例中，厚度也可以为约250nm或更大、约300nm或更大、约350nm或更大、约400nm或更大、约450nm或更大、约500nm或更大、约550nm或更大、约600nm或更大、约650nm或更大、约700nm或更大、约750nm或更大、约800nm或更大、约850nm或更大、或者约900nm或更大左右。厚度的上限没有特别限制。通常，抗变红层越厚，防止、减轻、减少、抑制和/或延迟热的效果越好地得到改善。因此，可以考虑光学层合体所需的厚度等来选择抗变红层或含空隙层(多孔层)的厚度的上限，而没有特别限制，只要防止、减轻、减少、抑制和/或延迟热的效果得到确保即可。在一个实例中，抗变红层或含空隙层(多孔层)的厚度也可以为约3,000nm或更小、约2,约900nm或更小、约2,约800nm或更小、约2,约700nm或更小、约2,约600nm或更小、约2,约500nm或更小、约2,约400nm或更小、约2,约300nm或更小、约2,约200nm或更小、约2,约100nm或更小、约2,约000nm或更小、或者约1,950nm或更小左右。
[0122]
还可以控制光学层合体中抗变红层的位置以确保期望的抗变红性能。
[0123]
抗变红层可以为单独包括在光学层合体中的层，或者可以为通过在已经存在于光学层合体中的层(例如，粘合剂层或压敏粘合剂层)中形成空隙而实现的层。
[0124]
出于即防止、减轻、减少、抑制和/或延迟变红的目的，可以控制光学层合体中抗变红层的位置。
[0125]
例如，抗变红层可以与作为光学层合体中变红的主要原因的光学功能层尽可能靠近地定位。即，可以控制光学层合体中的抗变红层与光学功能层之间的距离。在此，距离可以为抗变红层和光学功能层的相对表面之间的最短间隔、最大间隔或平均间隔。在一个实例中，抗变红层与光学功能层之间的距离可以在约90μm以内、约85μm以内、约80μm以内、约75μm以内、约70μm以内、约65μm以内、约60μm以内、约55μm以内、约50μm以内、约45μm以内、约40μm以内、约35μm以内、约30μm以内、约25μm以内、约20μm以内、约15μm以内、约10μm以内、约5μm以内、约1μm以内、约0.9μm以内、约0.8μm以内、约0.7μm以内、约0.6μm以内、约0.5μm以内、约0.4μm以内、约0.3μm以内或约0.2μm以内。光学功能层与抗变红层最靠近地定位的情况为两个层彼此接触的情况，并且在该情况下，距离为0μm。因此，距离的下限为0μm。在另一实例中，距离可以为约0.01μm或更大、约0.02μm或更大、约0.03μm或更大、约0.04μm或更大、约0.05μm或更大、约0.09μm或更大、或者约0.1μm或更大左右。
[0126]
该抗变红层可以设置在不形成光学层合体的最外表面的位置处。即，抗变红层可
以不是光学层合体的最外层。可能需要这种定位来表现光学层合体和/或光学功能层的抗变红特性。
[0127]
在另一实例中，光学层合体包括附加层以及抗变红层和光学功能层，其中抗变红层可以定位在光学功能层与附加层之间。图1为这样的层配置的一个实例，其示出了顺序形成有附加层30、抗变红层20和光学功能层10的情况。在此，附加层可以为保护膜、压敏粘合剂层、粘合剂层、硬涂层、抗反射层、延迟层或亮度增强层等，或者可以为下面将描述的盖板玻璃，但不限于此。
[0128]
通过这样的布置，本技术的光学层合体可以表现出稍微高的表面反射率。即，本技术的抗变红层可以以其配置起到降低反射率的作用，但是由于这样的抗变红层不存在于表面上，因此光学功能层的表面反射率可以稍微更高，除非形成单独的抗反射层等。例如，光学层合体的反射率可以为约2％或更大。在此，反射率可以为对于在可见光区域，例如，在约380nm至780nm范围内的任一波长，或者在所述范围内的预定区域或整个区域内的波长的光的反射率或平均反射率。在另一实例中，反射率可以为约2.5％或更大、约3％或更大、约3.5％或更大、或者约4％或更大，或者也可以为约10％或更小、约9％或更小、约8％或更小、约7％或更小、约6％或更小、或者约5％或更小左右。
[0129]
通过这样的布置，可以有效地防止、减轻、减少、抑制和/或延迟光学功能层和/或光学层合体的变红现象。
[0130]
光学层合体可以包括各种其他层，只要光学层合体包括抗变红层和光学功能层即可。
[0131]
这样的层可以例示为例如用于光学层合体的保护膜、压敏粘合剂层、粘合剂层、延迟膜、硬涂层或低反射层等。所述层也可以为上述的附加层。
[0132]
作为附加层的类型，可以应用本领域已知的一般配置。例如，作为保护膜，可以使用具有优异的透明度、机械强度、热稳定性、水分阻挡特性或各向同性等的树脂膜，并且这样的膜的实例可以例示为纤维素树脂膜例如tac(三乙酰纤维素)膜、聚酯膜、聚醚砜膜、聚砜膜、聚碳酸酯膜、聚酰胺膜、聚酰亚胺膜、聚烯烃膜、丙烯酸类膜、环状聚烯烃膜例如降冰片烯树脂膜、聚芳酯膜、聚苯乙烯膜、聚乙烯醇膜等。此外，除了膜形式的保护层之外，还可以应用通过使热固性或可光固化树脂例如(甲基)丙烯酸系列、氨基甲酸酯系列、丙烯酸氨基甲酸酯系列、环氧系列或有机硅系列固化而获得的固化树脂层作为保护膜。这样的保护膜可以形成在光学功能层的一侧或两侧上。
[0133]
作为延迟膜，可以应用一般材料。例如，可以应用单轴或双轴拉伸的双折射聚合物膜或液晶聚合物的配向膜或可聚合液晶化合物的聚合层等。延迟膜的厚度也没有特别限制。
[0134]
如上所述的保护膜或延迟膜可以通过粘合剂等附接到光学功能层等，其中这样的保护膜等可以经受易粘附处理，例如电晕处理、等离子体处理、底涂处理或皂化处理。此外，当保护膜附接到光学功能层或抗变红层时，硬涂层、低反射层、抗反射层、防粘层、扩散层或雾度层等可以存在于保护膜的附接有光学功能层或抗变红层的表面的相反侧上。
[0135]
除了保护膜或延迟膜之外，例如，各种元件例如反射板或半透射板也可以存在于光学层合体中，其种类没有特别限制。
[0136]
为了光学层合体中的各层的粘附，可以使用粘合剂。粘合剂可以例示为基于异氰
酸酯的粘合剂、基于聚乙烯醇的粘合剂、基于明胶的粘合剂、乙烯基系列胶乳系列或水性聚酯等，但不限于此。作为粘合剂，通常可以使用水基粘合剂，但也可以根据待附接的膜的类型使用无溶剂可光固化的粘合剂。
[0137]
光学层合体可以包括用于与其他构件例如液晶面板或盖板玻璃粘附的压敏粘合剂层。用于形成压敏粘合剂层的压敏粘合剂没有特别限制，例如，其可以适当地选自将丙烯酸类聚合物、基于有机硅的聚合物、聚酯、聚氨酯、聚酰胺、聚醚，或诸如氟系列或橡胶系列的聚合物用作基础聚合物的压敏粘合剂，并被使用。出于防止污染等的目的，可以暂时将离型膜附接并覆盖到这样的压敏粘合剂层的暴露表面上，直到其被提供给实际使用。
[0138]
这样的光学层合体可以具有各种形式的结构。例如，图2为其中将抗变红层20引入到作为最基础的光学层合体的偏光板的结构中的结构。即，基础偏光板具有其中保护膜301附接到偏振层100的至少一侧上的结构，其中抗变红层20可以定位在偏振层100与保护膜301之间。在图2的结构中，可以使用粘合剂或压敏粘合剂以将各层(100、20、301)粘合。在一个实例中，图2的抗变红层20可以为单独的层，或者其本身可以为粘合剂或压敏粘合剂。即，可以将中空颗粒等引入粘合剂或压敏粘合剂中以形成充当抗变红层的含空隙层(多孔层)。
[0139]
在图2中，保护膜302也附接至偏振层100的底部(即与抗变红层20相反的表面)，但是可以省略该保护膜302或者可以向其附接另外种类的层(例如，如上所述的延迟膜或固化树脂层等)。例如，压敏粘合剂层可以形成在存在于与抗变红层20相对的表面上的保护膜302的底部上，即，形成在保护膜302的朝向偏振层100的表面的相反表面上，或者可以形成压敏粘合剂层代替保护膜302。
[0140]
图3是作为改进结构的其中两个保护膜301、302存在于偏振层100的一侧并且抗变红层20存在于保护膜301、302之间的情况。在这种情况下，压敏粘合剂或粘合剂可以应用于层的粘附，其中抗变红层20也可以为压敏粘合剂或粘合剂。在这样的结构中，存在于偏振层100底部的保护膜303的细节与图2的结构中存在于偏振层100底部的保护膜302的细节相同。
[0141]
图2和图3为本技术的一个实例，其中除这些之外，本技术的光学层合体还可以由各种结构构成。
[0142]
本技术还涉及包括光学层合体的显示装置。可以改变显示装置的类型而没有特别限制，其可以为例如已知的lcd(液晶显示器)或oled(有机发光显示器)等，并且在这样的显示装置中，可以通过常规方法应用光学层合体。
[0143]
特别地，光学层合体有效地应用于包括所谓的盖板玻璃的显示装置。
[0144]
这样的装置通常包括盖板玻璃和通过所谓的oca(光学透明粘合剂)或ocr(光学透明树脂)等附接到盖板玻璃的光学层合体，其中本技术的层合体可以用作光学层合体。因此，显示装置包括盖板玻璃和附接到盖板玻璃的光学层合体，其中光学层合体可以包括：光学功能层；和形成在光学功能层的至少一侧上的抗变红层，其中抗变红层可以定位在盖板玻璃与光学功能层之间。
[0145]
一般而言，将包括盖板玻璃的显示装置应用于诸如车辆导航的应用，其中由于盖板玻璃具有高热导率，因此变红现象更成为问题。
[0146]
然而，可以将本技术的光学层合体应用于以上结构的装置以解决以上问题。
[0147]
显示装置的具体结构没有特别限制，只要应用本技术的光学层合体即可，其可以
遵循已知结构。
[0148]
有益效果
[0149]
本技术可以提供即使当在极其苛刻的条件(例如，非常高的温度条件)下驱动或保持时也不会引起所谓的变红现象的光学层合体，或应用于其的抗变红层。
附图说明
[0150]
图1至图3是用于说明本技术的光学层合体的示例性结构的图。
具体实施方式
[0151]
在下文中，将参照根据本技术的实施例等更详细地描述偏振层等，但本技术的范围不限于此。
[0152]
在下文中，按以下方式测量本文中的物理特性。
[0153]
1.厚度测量
[0154]
偏振层和抗变红层等的厚度可以通过应用tem(透射电子显微术)仪器来测量。在用tem仪器对偏振层或抗变红层的截面进行拍照之后，可以从拍摄的图像确定相关层的厚度。在本实施例中，使用hitachi的h
‑
7650产品作为tem仪器。
[0155]
2.中空颗粒的颗粒尺寸分布和孔尺寸的测量
[0156]
使用otsuka electronics的elsz
‑
2000设备来测量中空颗粒的颗粒尺寸分布。此外，通过应用tem(透射电子显微术)仪器来测量中空颗粒的颗粒直径和孔尺寸。在本实施例中，将hitachi的h
‑
7650产品用作tem仪器。通过使用tem仪器对实施例等中生产的各光学层合体(偏光板)中的抗变红层的截面进行拍照(10000倍放大倍数)之后，任选地选择50个中空颗粒分别获得颗粒直径和孔尺寸，并取算术平均值作为颗粒直径和孔尺寸的代表值。
[0157]
3.cie色坐标测量
[0158]
使用jasco v
‑
7100分光光度计测量色坐标。jasco v
‑
7100分光光度计是这样的仪器：在将测量目标偏光板的吸收轴相对于内置到相关仪器中的偏振器的吸收轴从0度旋转至360度之后以在透射率最小的点处测量色坐标(td色坐标)，并在透射率最小的点处将测量目标偏光板的吸收轴再次顺时针旋转90度以测量色坐标(md色坐标)，色坐标的代表值基于各测量的值而得到。在本说明书的实施例中描述的色坐标为通过jasco v
‑
7100分光光度计确定的色坐标。
[0159]
4.透射率的测量
[0160]
使用jasco v
‑
7100分光光度计测量偏光板等的单透射率。jasco v
‑
7100分光光度计是这样的仪器：在380nm至780nm的范围内测量偏光板等的透射率以得到对于波长范围的代表值，在该实施例中已经描述了在jasco v
‑
7100分光光度计上确定的透射率。
[0161]
5.偏振层中钾(k)和锌(zn)的重量比率的测量
[0162]
按以下方式测量偏振层中存在的钾(k)和锌(zn)的重量比率。首先，在室温(约25℃)下将0.1g左右的偏振层溶解在浓度为约65重量％的硝酸水溶液(2ml)中，然后用去离子水将其稀释至40ml，然后使用icp
‑
oes(optima 5300)分别测量偏振层中包含的钾(k)和锌(zn)的重量。
[0163]
6.抗变红层的热扩散系数评估
[0164]
抗变红层的热扩散系数按以下方式来测量。热扩散系数按以下实施例中描述的方式在其中抗变红层形成在厚度为约60μm左右的tac(三乙酰纤维素)膜(由hyosung制造，pg601f)上的状态下评估。此时，在各实施例中描述了抗变红层的厚度。在tac膜/抗变红层的层合体的顶部和底部上进行石墨涂覆。石墨涂层使用cramlin的graphite产品形成。该产品为可以通过喷涂法进行石墨涂覆的产品，将相关产品喷涂在层合体的顶部(抗变红层的表面)和底部(tac膜)上一次左右，然后干燥以形成石墨层。此后，使用netzsch的lfa457microflash产品测量热扩散系数。热扩散系数基于95℃的温度测量，其通过从一个石墨表面至另一个石墨表面的温度传递来确定。以这样的方式评估层合体(抗变红层/tac膜)的热扩散系数，并且在各实施例中，描述了层合体相对于tac膜的热扩散系数的相对比率。
[0165]
7.抗变红层的红外反射率评估
[0166]
抗变红层的红外反射率通过以下方法来确定。红外反射率按以下实施例中描述的方式在其中抗变红层形成在厚度为约60μm左右的tac(三乙酰纤维素)膜上的状态下评估。此时，在各实施例中描述了抗变红层的厚度。将黑色胶带(tomoegawa，pet膜)附接到抗变红层/tac膜的层合体中的tac膜的底部(其上未形成有抗变红层的膜的表面)以进行暗化处理(darkening treatment)，并且使用shimadzu的solidspec 3700设备在反射模式下测量800nm至1300nm波长区域内的平均反射率。如果使用该仪器，则可以在800nm至1300nm的范围内确定对于间隔1nm的波长范围的反射率，在本实施例中，取对于各波长的反射率的算术平均值作为红外反射率的代表值。
[0167]
8.抗变红层的小角x射线散射(saxs)评估
[0168]
抗变红层的小角x射线散射评估按以下方式来进行。评估按以下实施例中描述的方式在其中抗变红层形成在厚度为约60μm左右的tac(三乙酰纤维素)膜上的状态下进行。此时，在各实施例中描述了抗变红层的厚度。通过对tac膜/抗变红层的层合体进行切割使得宽度和长度各自为约1cm左右来制造测试样品。用波长为0.0733nm的x射线以相距4m的距离照射测试样品的抗变红层，以根据散射矢量获得散射强度。测量在pohang加速器4c光束线上进行，并使用具有0.023mm左右的垂直尺寸和0.3mm左右的水平尺寸的x射线。使用2d mar ccd作为检测器。获得散射2d衍射图案图像之后，使用通过标准样品(聚乙烯
‑
嵌段
‑
聚丁二烯
‑
嵌段
‑
聚苯乙烯，sebs)获得的样品到检测器距离进行校准，并通过圆平均(circular average)换算根据散射矢量(q)的散射强度。此时，散射矢量根据以下等式a获得。
[0169]
[等式a]
[0170]
q＝4πsinθ/λ
[0171]
在等式a中，q为散射矢量，θ为1/2倍散射角的值(单位：度)，λ为照射的x射线的波长(单位：埃)。
[0172]
9.柯西参数测量
[0173]
按以下方式进行抗变红层的折射率和柯西参数。评估按以下实施例中描述的方式在其中抗变红层形成在厚度为约60μm左右的tac(三乙酰纤维素)膜上的状态下进行。此时，在各实施例中描述了抗变红层的厚度。对于层合体(抗变红层/tac膜)的抗变红层，使用设备(j.a.woollam co.m
‑
2000)评估特性。对于抗变红层，通过应用所述设备以70度的入射角
在380nm至1,000nm的波长范围内测量线偏振光。通过使用complete ease软件对测量的线偏振光数据(椭圆偏光法数据(psi(ψ)、δ(δ))进行拟合，使得以下等式1的柯西模型的mse为25或更小，获得了以下等式6的n(λ)、a、b和c。在拟合过程中，粗糙函数(roughness function)应用在(
‑
20nm至50nm的范围)。
[0174]
[等式6]
[0175][0176]
在等式6中，n(λ)为λnm波长处的折射率。
[0177]
10.表面积比的评估
[0178]
使用afm仪器(原子力显微镜，park systems，xe7)测量抗变红层(含空隙层(多孔层))的表面积比。使用碳胶带将如实施例中所述的通过对具有形成在tac膜的一侧上的抗变红层(含空隙层(多孔层))的层合体进行切割使得宽度和长度为1cm而制造的样品固定在仪器的工作台上，并进行测量。作为用于测量的探针(尖端)，使用ppp
‑
nchr 10(力常数：42n/m，共振频率330khz)。测量条件如下。
[0179]
<测量条件>
[0180]
x扫描尺寸：1μm
[0181]
y扫描尺寸：1μm
[0182]
扫描速率：0.7hz至1hz
[0183]
z伺服增益(z servo gain)：1
[0184]
设定点：10nm至15nm
[0185]
使用xei程序将在这些条件下测量的数据在以下条件下平坦化。
[0186]
<平坦化条件>
[0187]
范围：线
[0188]
取向：x轴和y轴
[0189]
回归次数(regression order)：1
[0190]
平坦化之后，从xei程序的区域标签中提取表面积比。
[0191]
生产例1.偏振层(a)的生产
[0192]
将厚度为约30μm的pva(聚(乙烯醇))膜(japan synthetic co.,ltd.m3004l)浸没在包含0.2重量％的碘(i2)和2.5重量％的碘化钾(ki)的28℃的染料溶液中60秒并进行染色。随后，将经染色的pva膜浸没在包含1重量％的硼和3重量％的碘化钾(ki)的35℃的水溶液(交联溶液)中60秒并进行交联。此后，使用辊间拉伸法将交联的pva膜以5.4倍的拉伸比拉伸。将经拉伸的pva膜浸没在25℃的离子交换水中60秒并洗涤，并浸没在包含2重量％的硝酸锌和5重量％的碘化钾(ki)的25℃的水溶液中30秒。此后，将pva膜在80℃的温度下干燥60秒以生产pva偏振层。生产的偏振层的最终厚度为约12μm左右，钾含量为约0.9重量％，锌含量为约0.3重量％。此外，1/(1+0.025d/r)为约0.9。在此，d为偏振层的厚度(12μm)，r为偏振层中包含的钾组分的重量比率(k，单位：重量)与锌组分的重量比率(zn，单位：重量)的比率(k/zn)。
[0193]
生产例2.偏振层(b)的生产
[0194]
使用厚度为约45μm的pva(聚(乙烯醇))膜(nippon synthetic co.，ltd.，m4504l)作为盘式膜来生产偏振层。首先，对盘式膜进行溶胀处理。溶胀处理通过将盘式膜浸没在处于25℃的温度的纯水中30秒来进行。进行拉伸以在溶胀处理过程中拉伸高至最终拉伸比的约28％。随后，使用其中碘(i2)和碘化钾(ki)分别以约0.2重量％和约2.5重量％左右的浓度溶解的染料溶液对其进行染色处理。染色处理通过将盘式膜浸没在28℃的染料溶液中约2分钟来进行。在该过程中，进行拉伸以便拉伸高至最终拉伸比的约40％左右。此后，将经染色的pva膜浸没在包含1重量％的硼和3重量％的碘化钾的35℃的水溶液(交联溶液)中60秒并进行交联。随后，对盘式膜进行拉伸。拉伸在分别包含浓度为约3重量％左右的硼酸和碘化钾的水溶液(处理溶液)中进行。处理溶液的温度为约50℃左右。随后，用水溶液洗涤经拉伸的膜。此时，水溶液的温度为约25℃左右，洗涤处理在1分钟以内进行。此后，将膜干燥以生产pva偏振层(厚度：27μm，总拉伸比：5.4倍)。
[0195]
生产例3.抗变红层(a)材料的生产
[0196]
通过应用tmpta(三羟甲基丙烷三丙烯酸酯)作为粘结剂并应用中空二氧化硅颗粒来生产抗变红层。作为中空二氧化硅颗粒，使用分别具有32.1nm、62.6nm和123.4nm的d10颗粒直径、d50颗粒直径和d90颗粒直径的颗粒。在这种情况下，在形成抗变红层之后，通过tem测量的孔尺寸的平均值为约38.3nm左右，颗粒直径为约53nm左右。将粘结剂、中空二氧化硅颗粒、含氟化合物(rs
‑
90，dic)和引发剂(irgacure 127，ciba)以基于固体含量的31:65:0.1:3.9(粘结剂:中空二氧化硅颗粒:含氟化合物:引发剂)的重量比在作为溶剂的mibk(甲基异丁基酮)中稀释以制备涂覆溶液。
[0197]
生产例4.抗变红层(b)材料的生产
[0198]
通过应用tmpta(三羟甲基丙烷三丙烯酸酯)作为粘结剂并应用中空二氧化硅颗粒来生产抗变红层。作为中空二氧化硅颗粒，使用分别具有39.9nm、70.6nm和126.0nm的d10颗粒直径、d50颗粒直径和d90颗粒直径的颗粒。在这种情况下，在形成抗变红层之后，通过tem测量的孔尺寸的平均值为约44.1nm左右，颗粒直径为约61nm左右。将粘结剂、中空二氧化硅颗粒、含氟化合物(rs
‑
90，dic)和引发剂(irgacure 127，ciba)以55.1:40:1.1:3.8(粘结剂:中空二氧化硅颗粒:含氟化合物:引发剂)的重量比在作为溶剂的mibk(甲基异丁基酮)中稀释以制备涂覆溶液。
[0199]
生产例5.抗变红层(c)材料的生产
[0200]
通过应用peta(季戊四醇三丙烯酸酯)作为粘结剂并应用中空二氧化硅颗粒来生产抗变红层。作为中空二氧化硅颗粒，使用分别具有39.9nm、70.6nm和126.0nm的d10颗粒直径、d50颗粒直径和d90颗粒直径的颗粒。在这种情况下，在形成抗变红层之后，通过tem测量的孔尺寸的平均值为约44.1nm左右，颗粒直径为约61nm左右。将粘结剂、中空二氧化硅颗粒、含氟化合物(rs
‑
90，dic)和引发剂(irgacure 127，ciba)以76.5:20:0.5:3.0(粘结剂:中空二氧化硅颗粒:含氟化合物:引发剂)的重量比在作为溶剂的mibk(甲基异丁基酮)中稀释以制备涂覆溶液。
[0201]
生产例6.抗变红层(d)材料的生产
[0202]
通过应用peta(季戊四醇三丙烯酸酯)作为粘结剂并应用中空二氧化硅颗粒来生产抗变红层。作为中空二氧化硅颗粒，使用分别具有39.9nm、70.6nm和126.0nm的d10颗粒直径、d50颗粒直径和d90颗粒直径的颗粒。在这种情况下，在形成抗变红层之后，通过tem测量
的孔尺寸的平均值为约44.1nm左右，颗粒直径为约61nm左右。将粘结剂、中空二氧化硅颗粒、含氟化合物(rs
‑
90，dic)和引发剂(irgacure 127，ciba)以86.5:10:0.5:3.0(粘结剂:中空二氧化硅颗粒:含氟化合物:引发剂)的重量比在作为溶剂的mibk(甲基异丁基酮)中稀释以制备涂覆溶液。
[0203]
生产例7.树脂层(a)材料的生产
[0204]
通过应用peta(季戊四醇三丙烯酸酯)作为粘结剂并应用实心二氧化硅颗粒代替中空二氧化硅颗粒来生产树脂层材料。作为实心二氧化硅颗粒，使用分别具有43.1nm、69.9nm和125.8nm的d10颗粒直径、d50颗粒直径和d90颗粒直径的颗粒。在这种情况下，在形成树脂层之后，通过tem测量的颗粒直径为约60nm左右。将粘结剂、实心二氧化硅颗粒、含氟化合物(rs
‑
90，dic)和引发剂(irgacure 127，ciba)以31:65:0.1:3.9(粘结剂:实心二氧化硅颗粒:含氟化合物:引发剂)的重量比在作为溶剂的mibk(甲基异丁基酮)中稀释以制备涂覆溶液。
[0205]
实施例1.
[0206]
在厚度为约60μm左右的tac(三乙酰纤维素)膜(hyosung，pg601f)上形成抗变红层(含空隙层)。抗变红层通过如下形成：用mayer棒在tac膜上涂覆生产例3的抗变红层(a)材料，将其在60℃左右下干燥1分钟左右，然后用紫外线(252mj/cm2)对其进行照射以具有约450nm左右的最终厚度。对于形成的抗变红层的与tac膜接触的表面的相反表面测量的表面积比为约0.148的水平。
[0207]
实施例2.
[0208]
抗变红层通过如下形成：使用mayer棒在与实施例1的tac膜相同的tac膜上涂覆生产例4的涂覆溶液，将其在60℃下干燥1分钟，然后用紫外线(252mj/cm2)对其进行照射以具有600nm的最终厚度。对于形成的抗变红层的与tac膜接触的表面的相反表面测量的表面积比为约0.0359的水平。
[0209]
实施例3.
[0210]
使用生产例5的涂覆材料以与实施例1中相同的方式形成抗变红层(含空隙层)，但抗变红层形成为具有约950nm左右的最终厚度。对于形成的抗变红层的与tac膜接触的表面的相反表面测量的表面积比为约0.109的水平。
[0211]
实施例4.
[0212]
以与实施例1中相同的方式生产抗变红层，不同之处在于将含空隙层的厚度变为约300nm左右。在形成的抗变红层的与tac膜接触的表面的相反表面上测量的表面积比为约0.0715的水平。
[0213]
实施例5.
[0214]
以与实施例1中相同的方式生产抗变红层，不同之处在于将含空隙层的厚度变为约400nm左右。对于形成的抗变红层的与tac膜接触的表面的相反表面测量的表面积比为约0.1643的水平。
[0215]
实施例6.
[0216]
以与实施例1中相同的方式生产抗变红层，不同之处在于通过施加生产例5的抗变红层的涂覆材料而形成厚度为约500nm的抗变红层(含空隙层)。对于形成的抗变红层的与tac膜接触的表面的相反表面测量的表面积比为约0.2207的水平。
[0217]
实施例7.
[0218]
以与实施例6中相同的方式生产抗变红层，不同之处在于应用生产例4的用于抗变红层的涂覆材料。在形成的抗变红层的与tac膜接触的表面的相反表面上测量的表面积比为约0.0387的水平。
[0219]
实施例8.
[0220]
以与实施例6中相同的方式生产抗变红层，不同之处在于应用生产例3的用于抗变红层的涂覆材料。对于形成的抗变红层的与tac膜接触的表面的相反表面测量的表面积比为约0.0513的水平。
[0221]
实施例9
[0222]
以与实施例6中相同的方式生产抗变红层，不同之处在于通过施加生产例6的材料而形成厚度为约3000nm的含空隙层。对于形成的抗变红层的与tac膜接触的表面的相反表面测量的表面积比为约0.0611的水平。
[0223]
比较例1.
[0224]
在厚度为约60μm左右的tac(三乙酰纤维素)膜(hyosung，pg601f)上形成树脂层。树脂层通过如下形成：用mayer棒涂覆生产例7的树脂层(a)材料，将其在60℃下干燥1分钟左右，然后用紫外线(252mj/cm2)对其进行照射以具有约450nm左右的最终厚度。在形成的树脂层的与tac膜接触的表面的相反表面上测量的表面积比为约0.01的水平。
[0225]
将在各以上实施例中形成的抗变红层和树脂层的特性总结并描述在下表1中。
[0226]
[表1]
[0227][0228]
实施例10.通过应用一般光学水基粘合剂层(厚度：100nm)将作为保护膜的厚度为约30μm左右的cop(环烯烃聚合物)膜(制造商：zeon)附接至生产例1中获得的偏振层(a)。用相同的水基粘合剂(厚度：100nm)将实施例1的抗变红层的含空隙层附接至如上生产的cop膜与偏振层(a)的层合体中的偏振层(a)。随后在偏光板的底部上形成丙烯酸压敏粘合剂层以生产具有其中顺序层合有保护膜(cop膜)、粘合剂层、偏振层、粘合剂层、抗变红层(含空隙层)、保护膜(tac膜)和压敏粘合剂层的结构的偏光板(光学层合体)。
[0229]
实施例11.
[0230]
以与实施例10中相同的方式生产偏光板，不同之处在于应用实施例2中生产的抗变红层。
[0231]
实施例12.
[0232]
以与实施例10中相同的方式生产偏光板，不同之处在于应用实施例3中生产的抗变红层。
[0233]
比较例2.
[0234]
以与实施例10中相同的方式生产偏光板，不同之处在于未应用抗变红层。
[0235]
实施例13.
[0236]
以与实施例10中相同的方式生产偏光板，不同之处在于应用实施例4中生产的抗变红层。
[0237]
实施例14.
[0238]
以与实施例10中相同的方式生产偏光板，不同之处在于应用实施例5中生产的抗变红层。
[0239]
比较例3.
[0240]
以与实施例13中相同的方式生产偏光板，不同之处在于未应用抗变红层。
[0241]
实施例15.
[0242]
以与实施例10中相同的方式生产偏光板，不同之处在于应用实施例6中生产的抗变红层。
[0243]
实施例16.
[0244]
以与实施例15中相同的方式生产偏光板，不同之处在于应用实施例7中生产的抗变红层。
[0245]
实施例17.
[0246]
以与实施例15中相同的方式生产偏光板，不同之处在于应用实施例8中生产的抗变红层。
[0247]
实施例18.
[0248]
以与实施例15中相同的方式生产偏光板，不同之处在于应用实施例9中生产的抗变红层。
[0249]
比较例4.
[0250]
通过应用一般光学水基粘合剂层(厚度：100nm)将作为保护膜的厚度为约30μm左右的cop(环烯烃聚合物)膜(制造商：zeon)附接至生产例1中获得的偏振层(a)。用如上的相同的水基粘合剂(厚度：100nm)将比较例1的树脂层附接至如上生产的cop膜与偏振层(a)的层合体中的偏振层(a)。随后在偏光板的底部上形成丙烯酸压敏粘合剂层以生产具有其中顺序层合有保护膜(cop膜)、粘合剂层、偏振层、粘合剂层、树脂层、保护膜(tac膜)和压敏粘合剂层的结构的偏光板(光学层合体)。
[0251]
在对以上实施例和比较例中的光学层合体(偏光板)进行耐热测试之后，评估单透射率和色坐标a*变化量并将结果总结并描述在下表2中。在此，耐热测试通过如下进行：使在各实施例或比较例中生产的偏光板的顶部整个表面和底部整个表面与厚度为约1.1mm左右的钠钙玻璃(sewon tech)接触并将它们层合，然后将所得物在105℃下保持250小时。此外，在用肉眼观察是否确认变红现象之后，在确认的情况下将结果总结为ng，在未确认的情况下将结果总结为通过，并描述在下表2中(在下表2中，透射率的单位为％)。
[0252]
[表2]
[0253]