使用双平台光刻设备的方法以及光刻设备与流程

文档序号:31460885发布日期:2022-09-07 18:31阅读:来源:国知局

技术特征:
1.一种使用双平台光刻设备的方法,其中,所述光刻设备包括:两个衬底支撑件,所述两个衬底支撑件中的每个衬底支撑件被布置成移动和支撑衬底;测量场,所述两个衬底支撑件中的一个衬底支撑件被选择性地定位在所述测量场中,所述测量场用于测量被所述两个衬底支撑件中的相应的衬底支撑件支撑的衬底的特征;以及曝光场,所述两个衬底支撑件中的一个衬底支撑件被选择性地定位在所述曝光场中,所述曝光场用于将被所述两个衬底支撑件中的相应的衬底支撑件支撑的衬底曝光至被图案化的辐射束,其中,所述方法包括使被装载在所述两个衬底支撑件中的一个衬底支撑件上的衬底进行热弛豫的步骤,其中,在所述曝光场处和/或在所述测量场与所述曝光场之间传递时至少部分地执行所述热弛豫。2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述方法包括适用于所述两个衬底支撑件中的每个衬底支撑件的以下后续步骤:在所述测量场处将衬底装载到相应的衬底支撑件上;使相应的衬底支撑件上的所述衬底进行热弛豫;在所述测量场处测量所述衬底的所述特征;将相应的衬底支撑件从所述测量场传递至所述曝光场;在所述曝光场处将所述衬底曝光至被图案化的辐射束;将相应的衬底支撑件从所述曝光场传递至所述测量场;以及在所述测量场处卸载相应的衬底支撑件上的所述衬底。3.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,进行热弛豫的步骤包括将相应的衬底支撑件从所述测量场传递至所述曝光场、将所述衬底保持在所述曝光场处、以及将相应的衬底支撑件从所述曝光场传递回到所述测量场。4.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,在所述衬底在所述曝光场处进行热弛豫期间,在所述测量场处执行以下步骤中的一个或更多个步骤:从另一衬底支撑件卸载衬底或将衬底装载在另一衬底支撑件上;和/或使位于所述另一衬底支撑件上的所述衬底进行热弛豫;和/或测量位于所述另一衬底支撑件上的所述衬底的特征。5.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,所述衬底是具有小于所述衬底的重量的10%的硅含量的衬底。6.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,所述衬底由铝钛碳、锑化铟、锑化镓、氮化镓、氮化铝、氧化镓和/或蓝宝石制成。7.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,进行热弛豫的步骤是在所述测量场与所述曝光场之间传递衬底所需的时间的至少两倍。8.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,进行热弛豫的步骤包括进行预定时间的热弛豫。9.根据权利要求1至7中任一项所述的方法,其中,进行热弛豫的步骤:包括测量所述衬底的弛豫、以及在所述弛豫低于预定阈值时结束热弛豫。
10.一种光刻设备,包括:两个衬底支撑件,所述两个衬底支撑件中的每个衬底支撑件被布置成移动和支撑衬底,测量场,所述两个衬底支撑件中的一个衬底支撑件被选择性地定位在所述测量场中,所述测量场用于测量被所述两个衬底支撑件中的相应的衬底支撑件支撑的衬底的特征,以及曝光场,所述两个衬底支撑件中的一个衬底支撑件被选择性地定位在所述曝光场中,所述曝光场用于将被所述两个衬底支撑件中的相应的衬底支撑件支撑的衬底曝光至被图案化的辐射束,其中,所述光刻设备包括控制装置,所述控制装置被布置成在使被装载在所述两个衬底支撑件中的一个衬底支撑件上的衬底进行热弛豫的步骤期间,将所述两个衬底支撑件中的相应的衬底支撑件传递至所述曝光场,使得在所述曝光场处和/或在所述测量场与所述曝光场之间传递时至少部分地执行所述热弛豫。11.根据权利要求10所述的光刻设备,其中,所述衬底是具有小于所述衬底的重量的10%的硅含量的衬底。12.根据权利要求10或11所述的光刻设备,其中,所述衬底由铝钛碳、锑化铟、锑化镓、氮化镓、氮化铝、氧化镓和/或蓝宝石制成。13.根据权利要求10至12中任一项所述的光刻设备,其中,所述控制装置被布置成在预定调节时间期间执行热弛豫。14.根据权利要求10至13中任一项所述的光刻设备,其中,所述光刻设备包括弛豫测量装置,所述弛豫测量装置被配置成在所述衬底的所述热弛豫的至少一部分期间测量所述衬底的弛豫。15.根据权利要求14所述的光刻设备,其中,所述控制装置被布置成在所述弛豫低于预定阈值时结束所述衬底的热弛豫。16.根据前述权利要求中任一项所述的光刻设备,其中,所述控制装置被布置成在所述曝光场处进行所述衬底的热弛豫期间,在所述测量场处控制以下步骤中的一个或更多个:从另一衬底支撑件卸载衬底或将衬底装载在另一衬底支撑件上;使位于所述另一衬底支撑件上的所述衬底进行热弛豫;和/或测量位于所述另一衬底支撑件上的所述衬底的特征。

技术总结
本发明提供一种使用双平台光刻设备的方法,其中,光刻设备包括:两个衬底支撑件,每个衬底支撑件被布置成移动和支撑衬底;测量场,这两个衬底支撑件中的一个衬底支撑件被选择性地定位在测量场中,测量场用于测量被这两个衬底支撑件中的相应的衬底支撑件支撑的衬底的特征;以及曝光场,这两个衬底支撑件中的一个衬底支撑件被选择性地定位在曝光场中,曝光场用于将被这两个衬底支撑件中的相应的衬底支撑件支撑的衬底曝光至被图案化的辐射束,其中,方法包括使被装载在这两个衬底支撑件中的一个衬底支撑件上的衬底进行热弛豫的步骤,其中,热弛豫在曝光场处被至少部分地执行,和/或在测量场与曝光场之间传递时被至少部分地执行。行。行。


技术研发人员:沃特
受保护的技术使用者:ASML荷兰有限公司
技术研发日:2020.12.21
技术公布日:2022/9/6
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