阵列基板及液晶显示面板的制作方法

文档序号:26001797发布日期:2021-07-23 21:18阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种阵列基板,其特征在于,所述阵列基板包括:

衬底基板;

第一电极层,设置于所述衬底基板上,所述第一电极层包括间隔设置的源极和漏极;

保护层,设置于所述衬底基板上,并且覆盖所述第一电极层,所述保护层在与所述漏极相对应的位置处设有过孔;以及

第二电极层,设置于所述第一电极层及所述保护层上,所述第二电极层包括像素电极,所述像素电极包括相连的像素电极本体和导通部,所述像素电极本体设置于所述保护层上,所述导通部穿过所述过孔与所述漏极相连;

其中,所述导通部设置有粗糙面以用于引流配向液。

2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述导通部至少远离所述第一电极层和所述保护层的一侧表面粗糙。

3.根据权利要求1或2所述的阵列基板,其特征在于,所述导通部包括相连的外围体和内芯体,所述外围体设置于所述保护层上,所述内芯填充于所述过孔内,并且所述外围体绕设于所述内芯体的周围;所述外围体和/或所述内芯体设置有粗糙面。

4.根据权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,所述外围体和所述内芯体均设置有所述粗糙面;所述外围体和所述内芯体均为连续不间断结构,所述外围体和所述内芯体的所述粗糙面均设置有沟道和/或凸起结构。

5.根据权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,所述外围体设置有所述粗糙面,且所述外围体为连续不间断结构,且所述外围体的所述粗糙面设有沟道和/或凸起结构;所述内芯体为未经粗糙处理的连续不间断结构。

6.根据权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,所述外围体和所述内芯体中的至少一者为间断结构,所述间断结构包括多个子部,所述多个子部彼此之间间隔设置且相互电性导通。

7.根据权利要求6所述的阵列基板,其特征在于,所述外围体为所述间断结构,所述内芯体为未经粗糙处理的连续不间断结构。

8.根据权利要求6所述的阵列基板,其特征在于,所述外围体为所述间断结构;所述内芯体为连续不间断结构,且所述内芯体设置有粗糙面,且所述内芯体的所述粗糙面设有沟道和/或凸起结构。

9.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述像素电极本体设置有粗糙面以用于引流配向液。

10.根据权利要求9所述的阵列基板,其特征在于,所述像素电极本体至少远离所述第一电极层和所述保护层的一侧表面粗糙。

11.根据权利要求10所述的阵列基板,其特征在于,所述像素电极本体为多畴结构;所述像素电极还包括连接线,所述导通部通过所述连接线与所述像素电极本体相连。

12.一种液晶显示面板,其特征在于,所述液晶显示面板包括如权利要求1至11任一项中所述的阵列基板。


技术总结
本申请公开了一种阵列基板及液晶显示面板,所述阵列基板包括依次设置的衬底基板、第一电极层、保护层和第二电极层,其中,第二电极层包括像素电极,像素电极包括相连的像素电极本体和导通部,其中,所述导通部设置有粗糙面以用于引流导通部处的冗余配向液,使得配向液固化成膜后所形成的配向层厚度均匀,有效避免因导通部处配向液堆积而造成液晶显示面板亮度不均匀(Mura)的问题,进而提升液晶显示面板的显示品质。

技术研发人员:吕晓文
受保护的技术使用者:TCL华星光电技术有限公司
技术研发日:2021.04.28
技术公布日:2021.07.23
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