一种超硬魔镜光学玻璃面板功能膜系叠置方法与流程

1.本发明属于电子显示面板技术领域，特别是涉及一种超硬魔镜光学玻璃面板功能膜系叠置方法。


背景技术：

2.随着电子显示科学技术的快速发展，新－代魔镜光学玻璃面板已广泛应用到人们的生活和工作中来。由于智能触控魔镜光学玻璃显示面板在使用中很容易接触外力刮擦，使显示面板表面产生磨伤或划痕，从而给魔镜光学玻璃面板表面带来美感伤害，也严重影响到人们在使用中的触觉效果和美好心情。


技术实现要素：

3.为了克服上述问题，本发明提供了一种超硬魔镜光学玻璃面板功能膜系叠置方法，通过不同功能薄膜层、纳米级硬质薄膜覆盖层叠加结构设置和采用功能薄膜层同膜相邻的差异光学膜厚设置方法，使魔镜光学玻璃面板功能膜系表面抗划痕莫氏硬度值≥9，实现了魔镜光学玻璃面板功能膜系表面的超强硬度，有效解决了智能触控魔镜光学玻璃显示面板在使用中容易划伤磨痕表面的技术难题。
4.本发明所采用的技术方案是：
5.一种超硬魔镜光学玻璃面板功能膜系叠置方法，包括功能薄膜层叠置和功能薄膜层光学膜厚设置；所述功能薄膜层叠置包括采用高透射率薄膜材料二氧化硅、高折射率薄膜材料三氧化二铌、纳米级高硬薄膜覆盖材料三氧化二铝所组成的功能膜系叠加结构，所述功能薄膜层光学膜厚设置包括采用功能薄膜层同膜相邻的差异光学膜厚设置方法；
6.所述功能薄膜层叠置的方法：依玻璃基板的玻璃基板空气面依次设置第一层高透射率薄膜材料二氧化硅打底层、第二层高折射率薄膜材料三氧化二铌薄膜层、第三层高折射率薄膜材料三氧化二铌薄膜层、第四层高透射率薄膜材料二氧化硅薄膜层、第五层高透射率薄膜材料二氧化硅薄膜层、第六层高折射率薄膜材料三氧化二铌薄膜层、第七层高折射率薄膜材料三氧化二铌薄膜层、第八层高透射率薄膜材料二氧化硅薄膜层、第九层纳米级高硬薄膜材料三氧化二铝覆盖层、第十层纳米级高硬薄膜材料三氧化二铝覆盖层。
7.优选地，依所述玻璃基板空气面设置所述第一层高透射率薄膜材料二氧化硅打底层的光学膜厚为23μm。
8.优选地，依所述玻璃基板空气面设置所述第二层高折射率薄膜材料三氧化二铌薄膜层、所述第三层高折射率薄膜材料三氧化二铌薄膜层的光学膜厚分别为20μm和26μm。
9.优选地，依所述玻璃基板空气面设置所述第四层高透射率薄膜材料二氧化硅薄膜层、所述第五层高透射率薄膜材料二氧化硅薄膜层的光学膜厚分别为10μm和13μm。
10.优选地，依所述玻璃基板空气面设置所述第六层高折射率薄膜材料三氧化二铌薄膜层、所述第七层高折射率薄膜材料三氧化二铌薄膜层的光学膜厚分别为26μm和20μm。
11.优选地，依所述玻璃基板空气面设置所述第八层高透射率薄膜材料二氧化硅薄膜
层的光学膜厚为36μm。
12.优选地，依所述玻璃基板空气面设置所述第九层纳米级高硬薄膜材料三氧化二铝覆盖层、所述第十层纳米级高硬薄膜材料三氧化二铝覆盖层的光学膜厚分别为11μm和20μm。
13.本发明的优点如下：
14.通过不同功能薄膜层、纳米级硬质薄膜覆盖层叠加结构设置和采用功能薄膜层同膜相邻的差异光学膜厚设置方法，使魔镜光学玻璃面板功能膜系表面抗划痕莫氏硬度值≥9，实现了魔镜光学玻璃面板功能膜系表面的超强硬度，有效解决了智能触控魔镜光学玻璃显示面板在使用中容易划伤磨痕表面的技术难题。
附图说明
15.为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
16.图1为本发明所述一种超硬魔镜光学玻璃面板功能膜系叠置方法中功能薄膜层叠置结构示意图。
17.附图标记说明如下：
18.1、第一层高透射率薄膜材料二氧化硅打底层；2、第二层高折射率薄膜材料三氧化二铌薄膜层；3、第三层高折射率薄膜材料三氧化二铌薄膜层；4、第四层高透射率薄膜材料二氧化硅薄膜层；5、第五层高透射率薄膜材料二氧化硅薄膜层；6、第六层高折射率薄膜材料三氧化二铌薄膜层；7、第七层高折射率薄膜材料三氧化二铌薄膜层；8、第八层高透射率薄膜材料二氧化硅薄膜层；9、第九层纳米级高硬薄膜材料三氧化二铝覆盖层；10、第十层纳米级高硬薄膜材料三氧化二铝覆盖层；11、玻璃基板；12、玻璃基板空气面。
具体实施方式
19.下面对本发明作进一步的说明，但本发明并不局限于这些内容。
20.实施例
21.如图1所示，一种超硬魔镜光学玻璃面板功能膜系叠置方法，包括功能薄膜层叠置和功能薄膜层光学膜厚设置；功能薄膜层叠置包括采用高透射率薄膜材料二氧化硅、高折射率薄膜材料三氧化二铌和纳米级高硬薄膜覆盖材料三氧化二铝组成的功能膜系叠加结构，功能薄膜层依玻璃基板空气面12设置第一层高透射率薄膜材料二氧化硅打底层1、第二层高折射率薄膜材料三氧化二铌薄膜层2、第三层高折射率薄膜材料三氧化二铌薄膜层3、第四层高透射率薄膜材料二氧化硅薄膜层4、第五层高透射率薄膜材料二氧化硅薄膜层5、第六层高折射率薄膜材料三氧化二铌薄膜层6、第七层高折射率薄膜材料三氧化二铌薄膜层7、第八层高透射率薄膜材料二氧化硅薄膜层8、第九层纳米级高硬薄膜材料三氧化二铝覆盖层9、第十层纳米级高硬薄膜材料三氧化二铝覆盖层10；功能薄膜层光学膜厚设置包括高透射率薄膜材料二氧化硅单薄膜层膜厚设置、高折射率薄膜材料三氧化二铌单薄膜层光学膜厚设置和纳米级高硬薄膜覆盖材料三氧化二铝光学膜厚设置。
22.依玻璃基板空气面12第一层叠置第一层高透射率薄膜材料二氧化硅打底层1的光学膜厚设置23μm。
23.依玻璃基板空气面12第二层叠置第二层高折射率薄膜材料三氧化二铌薄膜层2的光学膜厚设置20μm。
24.依玻璃基板空气面12第三层叠置第三层高折射率薄膜材料三氧化二铌薄膜层3的光学膜厚设置26μm。
25.依玻璃基板空气面12第四层叠置第四层高透射率薄膜材料二氧化硅薄膜层4的光学膜厚设置10μm。
26.依玻璃基板空气面12第五层叠置第五层高透射率薄膜材料二氧化硅薄膜层5的光学膜厚设置13μm。
27.依玻璃基板空气面12第六层叠置第六层高折射率薄膜材料三氧化二铌薄膜层6的光学膜厚设置26μm。
28.依玻璃基板空气面12第七层叠置第七层高折射率薄膜材料三氧化二铌薄膜层7的光学膜厚设置20μm。
29.依玻璃基板空气面12第八层叠置第八层高透射率薄膜材料二氧化硅薄膜层8的光学膜厚设置36μm。
30.依玻璃基板空气面12第九层叠置第九层纳米级高硬薄膜材料三氧化二铝覆盖层9的光学膜厚设置11μm。
31.依玻璃基板空气面12第十层叠置第十层纳米级高硬薄膜材料三氧化二铝覆盖层10的光学膜厚设置20μm。
32.以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效膜系结构或等效膜厚设置，或直接或间接运用在其它相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。