技术特征：
1.一种光源装置，其特征在于，具有：发光部；反射镜，反射来自所述发光部的光；保持部件，保持所述反射镜；以及基座，固定所述保持部件，所述保持部件与所述基座接触的接触面积小于所述保持部件与所述反射镜接触的接触面积。2.根据权利要求1所述的光源装置，其特征在于，所述基座与所述保持部件之间的接触热阻大于所述保持部件与所述反射镜之间的接触热阻。3.根据权利要求1所述的光源装置，其特征在于，在所述保持部件中，在所述基座侧的面设置有槽。4.根据权利要求1所述的光源装置，其特征在于，在所述基座中，在所述保持部件侧的面设置有槽。5.根据权利要求1所述的光源装置，其特征在于，在将所述保持部件与所述基座接触的接触面积设为s1、将所述保持部件与所述反射镜接触的接触面积设为s2时，满足1/5≤s1/s2≤1/2。6.根据权利要求1所述的光源装置，其特征在于，所述保持部件与所述基座接触的面的表面粗糙度比所述保持部件与所述反射镜接触的面的表面粗糙度粗。7.根据权利要求1所述的光源装置，其特征在于，所述保持部件的材质是热传导率比所述基座低的材质。8.根据权利要求1所述的光源装置，其特征在于，所述保持部件包括与所述反射镜接触的第1保持部件和固定于所述基座的第2保持部件。9.根据权利要求1所述的光源装置，其特征在于，还具有对所述反射镜喷吹气体的供气管。10.一种光源装置，其特征在于，具有：发光部；反射镜，为了使来自所述发光部的光聚光而反射所述光；保持部件，保持所述反射镜；以及基座，固定所述保持部件，在所述保持部件侧的所述基座的面形成有槽，在将所述保持部件侧的所述基座的面中的所述槽的面积设为s3、将所述基座侧的所述保持部件的面的面积设为s4时，满足1/2≤s3/s4≤4/5。11.一种曝光装置，其特征在于，具有：照明光学系统，利用来自权利要求1至10中的任意一项所述的光源装置的光照射原版；以及
投影光学系统，将所述原版的图案投影到基板。12.一种物品的制造方法，其特征在于，包括：曝光工序，使用权利要求11所述的曝光装置对基板进行曝光；以及显影工序，对在所述曝光工序中曝光后的所述基板进行显影，在所述物品的制造方法中，从在所述显影工序中显影后的所述基板制造物品。
技术总结
本发明涉及光源装置、曝光装置以及物品的制造方法。降低反射镜内的温度梯度。光源装置具有：发光部；反射镜，反射来自所述发光部的光；保持部件，保持所述反射镜；以及基座，固定所述保持部件，所述保持部件与所述基座接触的接触面积小于所述保持部件与所述反射镜接触的接触面积。的接触面积。的接触面积。
技术研发人员：矢田裕纪 昼间健太郎 中山周吾
受保护的技术使用者：佳能株式会社
技术研发日：2021.08.31
技术公布日：2022/3/3