彩膜基板、显示面板及彩膜基板的制作方法与流程

1.本技术涉及显示领域，具体涉及一种彩膜基板、显示面板及彩膜基板的制作方法。


背景技术：

2.随着显示技术的发展，显示面板的视角问题逐渐成为高端产品的首要技术，但目前显示面板中彩膜基板的出光角度单一，使得不同观察点存在色偏，从而导致彩膜基板视角偏小。


技术实现要素：

3.本技术实施例提供一种彩膜基板、显示面板及彩膜基板的制作方法，可以解决彩膜基板视角偏小的问题。
4.本技术实施例提供一种彩膜基板，包括：
5.衬底基板；
6.多层折射层，依次设置于所述衬底基板上，相邻两层所述折射层的折射率不相同；多层所述折射层中靠近所述衬底基板的折射层的折射率与所述衬底基板的折射率不相同。
7.可选的，在本技术的一些实施例中，多层所述折射层的折射率不相同。
8.可选的，在本技术的一些实施例中，至少一层所述折射层的表面并列设置有多个凸起，相邻所述凸起之间具有第一间隙。
9.可选的，在本技术的一些实施例中，所述凸起的横截面积沿靠近所述衬底基板的方向逐渐增大；或，
10.所述凸起的横截面积沿靠近所述衬底基板的方向逐渐减小。
11.可选的，在本技术的一些实施例中，多层所述折射层的折射率沿远离所述衬底基板的方向逐渐增大；或，
12.多层所述折射层的折射率沿远离所述衬底基板的方向逐渐减小。
13.可选的，在本技术的一些实施例中，多层所述折射层的厚度沿远离所述衬底基板的方向逐渐增大；或，
14.多层所述折射层的厚度沿远离所述衬底基板的方向逐渐减小。
15.可选的，在本技术的一些实施例中，多层所述折射层的厚度总和大于或等于10纳米且小于或等于3000纳米。
16.可选的，在本技术的一些实施例中，所述折射层的材质包括氧化硅、氮化硅和氮氧化硅中的一种或多种。
17.可选的，在本技术的一些实施例中，所述彩膜基板包括多条线栅，多条所述线栅并列设置在所述衬底基板上，相邻两条所述线栅之间具有第二间隙。
18.可选的，在本技术的一些实施例中，所述凸起的延伸方向与所述线栅的延伸方向相同；多个所述凸起的分布方向与多条所述线栅的分布方向相同。
19.可选的，在本技术的一些实施例中，所述第一间隙与所述第二间隙在所述衬底基
板的厚度方向上错位设置。
20.可选的，在本技术的一些实施例中，所述衬底基板具有相对的第一侧面和第二侧面，多条所述线栅并列设置于所述第一侧面上，多层所述折射层依次设置于所述线栅上；所述彩膜基板还包括色阻层，所述色阻层设置于所述第二侧面。
21.相应的，本技术实施例还提供一种显示面板，包括：
22.上述任一项所述的彩膜基板；
23.阵列基板，所述阵列基板位于所述彩膜基板中衬底基板的第二侧面；及
24.液晶层，填充在所述彩膜基板与所述阵列基板之间。
25.相应的，本技术实施例还提供一种彩膜基板的制作方法，包括：
26.提供一衬底基板；
27.在所述衬底基板上形成多条线栅，多条所述线栅并列设置；
28.在所述衬底基板上依次形成多层折射层，相邻两层所述折射层的折射率不相同，多层所述折射层中靠近所述衬底基板的折射层的折射率与所述衬底基板的折射率不相同。
29.本技术实施例中彩膜基板包括衬底基板和依次设置在衬底基板上的多层折射层，相邻两层折射层的折射率不相同，多层折射层中靠近衬底基板的折射层的折射率与衬底基板的折射率不相同。通过设置不同折射率的折射层，使得不同位置发出的光线在经过多层折射层的折射后能够到达同一观察点，从而改善不同观察点的色偏问题，提高彩膜基板的视角。
附图说明
30.为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
31.图1是本技术实施例提供的一种彩膜基板的结构示意图；
32.图2是本技术实施例提供的一种显示面板的结构示意图；
33.图3是本技术实施例提供的一种彩膜基板的制作方法的流程图；
34.图4是本技术实施例提供的图3中步骤s200的结构示意图；
35.图5是本技术实施例提供的图3中步骤s300的结构示意图。
36.附图标记说明：
37.具体实施方式
38.下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。此外，应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本技术，并不用于限制本技术。在本技术中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上”和“下”通常是指装置实际使用或工作状态下的上和下，具体为附图中的图面方向；而“内”和“外”则是针对装置的轮廓而言的。
39.本技术实施例提供一种彩膜基板、显示面板及彩膜基板的制作方法。以下分别进行详细说明。需要说明的是，以下实施例的描述顺序不作为对实施例优选顺序的限定。
40.首先，本技术实施例提供一种彩膜基板，包括衬底基板和多层折射层，多层折射层依次设置于衬底基板上，相邻两层折射层的折射率不相同，多层折射层中靠近衬底基板的折射层的折射率与衬底基板的折射率不相同。
41.图1为本技术实施例提供的一种彩膜基板的结构示意图，如图1所示，彩膜基板100包括衬底基板110，用于支撑彩膜基板100的各膜层结构。其中，所用衬底基板110可以是玻璃基板或其他类型基板，其具体材质可以根据实际设计需求进行调整，此处不做限制。
42.需要说明的是，由于彩膜基板100整体位于出光侧，为保证彩膜基板100的出光率，所用衬底基板110需要具有较好的透光性，避免光线经过衬底基板110时出现大量损耗，从而提高彩膜基板100的出光率效果。
43.彩膜基板100包括多层折射层120，多层折射层120沿远离衬底基板110的方向依次设置在衬底基板110上，出射光在穿过折射层120时，经折射层120的折射作用以不同角度射出，从而到达不同观察点。通过对折射层120的折射率进行调节，能够改变出射光的出射角度，以满足不同观察点的光线需求。
44.其中，相邻两层折射层120的折射率不相同，即光线每穿过一层折射层120均会改变光线的出射角度，通过对相邻折射层120折射率的调节，能够对光线的出射角度进行控制，以使不同位置发出的出射光能够到达同一观察点，从而改善不同观察点的色偏问题，提高彩膜基板100的显示效果。
45.需要说明的是，除相邻两层折射层120的折射率不相同外，间隔设置的折射层120
的折射率能够相同或者不同，其具体设置方式能够根据实际设计需求进行调节，只需保证不同位置发出的出射光能够到达同一观察点，提高彩膜基板100的显示效果即可。
46.可选的，多层折射层120中靠近衬底基板110的折射层120的折射率与衬底基板110的折射率不相同，即光线从折射层120进入衬底基板110或从衬底基板110进入折射层120时角度均会发生改变，此时，衬底基板110也能充当折射层120的作用，以对出射光线出射角度和方向进行调整。
47.本技术实施例中彩膜基板100包括衬底基板110和依次设置在衬底基板110上的多层折射层120，且相邻两层折射层120的折射率不相同，多层折射层120中靠近衬底基板110的折射层120的折射率与衬底基板110的折射率不相同，通过设置不同折射率的折射层120，使得不同位置发出的光线在经过多层折射层120的折射后能够到达同一观察点，从而改善不同观察点的色偏问题，提高彩膜基板100的显示效果。
48.可选的，多层折射层120的折射率不相同，即每一层折射层120的折射率各不相同，以进一步对出射光的出射角度进行调节，使一个观察点能够接收到更多位置的出射光线，以进一步改善观察点的色偏问题。
49.其中，各层折射层120的折射率的设置规律能够根据设计需求进行相应调节，将折射率大小不同的折射层120搭配使用，使不同位置发出的光线到达同一观察点即可。
50.可选的，本技术实施例中至少一层折射层120的表面并列设置有多个凸起121，相邻凸起121之间具有第一间隙122。即在衬底基板110上形成折射层120后，通过刻蚀等方式对折射层120表面进行处理，使折射层120表面形成并列设置的多个凸起121。当出射光线进入该折射层120时，由于凸起121形状的不同，出射光线的出射角度更加多样，从而有利于对出射光线出射角度的调节。
51.在设置有凸起121结构的折射层120上继续设置折射层120时，相邻折射层120填充在多个凸起121的第一间隙122中，使得出射光线穿过凸起121进入第一间隙122时即可折射进相邻折射层120中，由于相邻折射层120的折射率不相同，当出射光线进入第一间隙122时即可改变出射角度。通过相邻折射层120的折射率与凸起121结构的相互配合，能够进一步对出射光的出射角度进行调节，使不同位置发出的光线到达同一观察点。
52.可选的，相邻折射层120填充多个凸起121之间的第一间隙122之后，该折射层120的表面能够继续设置多个凸起121，即折射层120的两侧均可形成凸起121，以加强对出射光线出射角度的调节。
53.在一些实施例中，多层折射层120中间隔设置的折射层120远离衬底基板110的一侧形成有凸起121结构，由于相邻折射层120填充凸起121结构之间的第一间隙122，使得多层折射层120上的凸起121结构的设置方向交替设置，即凸起121结构位于折射层120远离衬底基板110的一侧与凸起121结构位于折射层120靠近衬底基板110的一侧交替设置。
54.在另一些实施例中，每层折射层120远离衬底基板110的一侧均设置有凸起121结构，由于相邻折射层120填充凸起121结构之间的第一间隙122，使得除第一层和最后一层折射层120外，其余折射层120的两侧均设置凸起121结构。此种结构设计使得出射光线穿过每层折射层120时能够多次改变出射角度，从而增大出射光线出射角度的改变范围。
55.可选的，凸起121的横截面积沿靠近衬底基板110的方向逐渐增大，或者，凸起121的横截面积沿靠近衬底基板110的方向逐渐减小，使得出射光线到达凸起121结构侧面的不
同位置时的出射角度及出射方向均不相同，通过对凸起121的横截面积变化趋势的调节，能够实现对出射光线出射角度的范围进行调节。
56.其中，凸起121结构能够为条形、锥形以及其他规则或不规则形状，只需保证凸起121的横截面积沿靠近衬底基板110的方向逐渐增大或减小，即凸起121结构的侧面与衬底基板110的表面成锐角即可，此处不做特殊限制。
57.需要说明的是，当其中一层折射层120上的凸起121结构为正三棱柱或正梯形时，填充该折射层120的相邻折射层120上的凸起121结构的横截面为倒三棱柱或倒梯形，以实现相邻折射层120之间的相互配合，同时也便于对出射光线出射角度的控制。
58.可选的，本技术实施例中多层折射层120的折射率沿远离衬底基板110的方向逐渐增大，即出射光线在逐层穿过折射层120时朝同一个方向进行角度偏转，此种设置方式有利于对出射光线的出射角度进行预估，提高出射光线出射角度的可控性，便于对彩膜基板100的视角进行针对性的调节。
59.同样的，多层折射层120的折射率能够沿远离衬底基板110的方向逐渐减小，即出射光线在逐层穿过折射层120时均朝另一个方向进行角度偏转，以针对性的改善某个观察点的色偏问题，提高彩膜基板100的显示效果。
60.需要说明的是，在对多层折射层120的折射率的分布方式进行设计时，能够根据实际应用需求进行调整，如多层折射层120的折射率先逐渐增大后逐渐减小，或者多层折射层120的折射率先逐渐减小后逐渐增大，或者多层折射层120的折射率的大小交替设置等等，此处不做特殊限制。
61.可选的，本技术实施例中多层折射层120的厚度沿远离衬底基板110的方向逐渐增大，即出射光线穿过各折射层120的光学路程逐渐增大，以逐渐减缓出射光线出射角度的改变频率，此种结构设计便于先对出射光线的出射角度进行粗调然后进行微调，以实现对出射角度的控制。
62.可选的，多层折射层120的厚度沿远离衬底基板110的方向逐渐减小，即出射光线穿过各折射层120的光学路程逐渐减小，以逐渐增大出射光线出射角度的改变频率，此种结构设计便于初步确定出射光线的出射方向后快速实现出射角度的调节。
63.需要说明的是，在对多层折射层120的厚度的分布方式进行设计时，能够根据实际应用需求进行调整，如多层折射层120的厚度先逐渐增大后逐渐减小，或者多层折射层120的厚度先逐渐减小后逐渐增大，或者多层折射层120的厚度的大小交替设置等等，此处不做特殊限制。
64.可选的，本技术实施例中多层折射层120的厚度总和大于或等于10纳米且小于或等于3000纳米。若多层折射层120的厚度总和过大，出射光线在穿过多层折射层120时需要走过的光学路程较长，其在多层折射层120中的光线损耗过大，从而导致出射光线的透光率较小，最终影响彩膜基板100的显示效果；若多层折射层120的厚度总和过小，则多层折射层120对出射光线的出射角度的改变较小，甚至无法起到对出射光线出射角度的调节作用。
65.在实际制作过程中，将多层折射层120的厚度总和设置为10nm、100nm、500nm、1000nm、2000nm或3000nm等，其具体设计值能够根据需求进行调整，只需保证多层折射层120对出射光线出射角度进行调整的同时，避免出射光线在多层折射层120中的损耗过大，确保彩膜基板100的显示效果即可。
66.可选的，折射层120的材质包括氧化硅、氮化硅和氮氧化硅中的一种或多种，通过氧化硅、氮化硅和氮氧化硅的相互配合以及含量的调节，能够实现对折射层120折射率的调节，以满足不同折射率的搭配需求。
67.其中，折射层120均为透明膜层，在对出射光线出射角度进行调节的同时保证出射光线的透过率，避免影响彩膜基板100的显示效果。此外，折射层120还能够充当绝缘层，以便于后续膜层的制作。
68.可选的，本技术实施例中彩膜基板100还包括多条线栅130，多条线栅130并列设置在衬底基板110上。多条线栅130能够起到偏振片的作用，即对入射光线具有遮蔽和透过的功能，可使纵向光或横向光中的一种透过，以对出射光线进行筛选，保证彩膜基板100的显示效果。
69.此外，多条线栅130还具有反光功能，当进入多层折射层120中的光线部分又反射至线栅130时，线栅130可以将该部分光线再次反射至多层折射层120中，以增大出射光线的出光量，提高彩膜基板100的显示亮度。
70.可选的，相邻两条线栅130之间具有第二间隙131，即多条线栅130为间隔分布，使得出射光线在经过多条线栅130时，能通过相邻线栅130之间的第二间隙131射出。通过线栅130线宽以及第二间隙131宽度的调节，能够对彩膜基板100不同区域的出射光线强度进行调节，以实现显示面板10显示的多样性。
71.在一些实施例中，相邻线栅130之间的第二间隙131的宽度相等，即多条线栅130采用均匀分布的方式，此种结构设计使得彩膜基板100各个区域出射光线的出光机率相同，有助于提高彩膜基板100显示亮度的均一性。
72.在另一些实施例中，各个区域的线栅130之间的第二间隙131的宽度不同，即各个区域的出光强度不同。例如，第二间隙131的宽度能够采用从两侧边缘向中间区域逐渐增大的方式，此种结构设计使得彩膜基板100从两侧边缘向中间区域的出光强度逐渐增大，即彩膜基板100越靠近中间区域的位置显示亮度越大。
73.或者，第二间隙131的宽度采用大小交替设置的方式，此种结构设计使得彩膜基板100上的出光强度呈相对强弱交替分布的方式，但出光强度较强的区域能够对其相邻出光强度较弱的区域进行亮度补偿，使得彩膜基板100整体显示亮度仍然保持均匀。
74.需要说明的是，第二间隙131的宽度除上述规律性的分布外，还能够根据需求进行无规律分布，即当彩膜基板100某区域需要较高的出光强度时，将该区域第二间隙131的整体宽度增大，以增大该区域出光量；当彩膜基板100某区域对出光强度要求较低时，将该区域第二间隙131的整体宽度减小，以减小该区域出光量。线栅130的具体分布方式能够根据实际应用需求进行相应调整，此处不做特殊限制。
75.可选的，折射层120上凸起121的延伸方向与线栅130的延伸方向相同，多个凸起121的分布方向与多条线栅130的分布方向相同，即多个凸起121之间的第一间隙122与多条线栅130之间的第二间隙131的分布方向相同。此种结构设计使得从同一第二间隙131射出的光线所经过的第一层折射层120的结构相同，从而便于对从该第二间隙131射出的光线出射角度调节的控制。
76.在一些实施例中，折射层120上的多个凸起121的分布方向与多条线栅130的分布方向呈夹角，即凸起121的延伸方向与线栅130的延伸方向呈夹角，即一条线栅130横跨多个
凸起121所在的区域，从一个第二间隙131射出的光线能够同时射入折射层120的不同凸起121中。通过凸起121的配合设计，能够对出射光线的出射角度进行多角度调节，提高角度调节的多样性。
77.其中，多个凸起121的分布方向与多条线栅130的分布方向能够垂直，即夹角为90
°
，也能够呈其他角度设置，只需保证一个观察点能够接收到不同位置的出射光线即可，此处不做特殊限制。
78.可选的，多个凸起121之间的第一间隙122与多条线栅130之间的第二间隙131在衬底基板110的厚度方向上错位设置。由于相邻折射层120填充多个凸起121之间的第一间隙122，此种结构设计使得出射光线从第二间隙131射出时能够到达相邻两层折射层120的凸起121接触面，从而实现两次折射，有利于出射光线出射角度及出射方向的调节。
79.当多个凸起121之间的第一间隙122与多条线栅130之间的第二间隙131在衬底基板110的厚度方向上对应设置时，从第二间隙131射出的光线通过第一间隙122直接射入另一层折射层120的凸起121结构中，相较于第一间隙122与第二间隙131错位设置的方式，此种结构设计中出射光线的折射次数有一定减少，但更便于对出射光线出射角度的控制。
80.可选的，衬底基板110包括相对的第一侧面和第二侧面，多条线栅130设置于第一侧面上，多层折射层120依次设置于线栅130上，即多条线栅130和多层折射层120沿远离衬底基板110第一侧面的方向依次分布，线栅130位于多层折射层120的最下方，使得进入折射层120的出射光线反射至线栅130上时，能够再次反射进入折射层120，提高彩膜基板100的出光量。
81.其中，多条线栅130也可以位于相邻两层折射层120之间，使得出射光线经过线栅130时，被反射的出射光线能够再次进入线栅130靠近衬底基板110一侧的折射层120中，经折射层120的多次折射后再次射出，同样可以提高彩膜基板100的出光量。
82.可选的，彩膜基板100还包括色阻层140，色阻层140设置于第二侧面，色阻层140包括多个色阻，多个色阻的颜色包括红色、绿色、蓝色和白色中的一种或多种，用于对出射光线进行过滤。通过不同颜色色阻的相互配合，能够满足不同显示画面的显示需求。
83.在一些实施例中，部分折射层120位于衬底基板110的第二侧面，即出射光线经色阻层140过滤后先在部分折射层120中进行折射，然后穿过衬底基板110进入位于第一侧面的部分折射层120中进行折射，以实现对出射光线出射方向和角度的调整。
84.在另一些实施例中，折射层120全部位于衬底基板110的第二侧面，即出射光线经色阻层140过滤后直接进入折射层120实现对出射光线出射角度和方向的调节，然后通过衬底基板110第一侧面上的线栅130进行检偏，最后射出彩膜基板100由人眼接收。
85.其中，线栅130能够设置在衬底基板110的第一侧面，也能够设置在衬底基板110的第二侧面；同时，线栅130可以直接设置在衬底基板110上，也可以设置在相邻两层折射层120之间，其具体设置方式能够根据设计需求进行调整，此处不做限制。
86.其次，本技术实施例提供一种显示面板，该显示面板包括彩膜基板，该彩膜基板的具体结构参照上述实施例，由于本显示面板采用了上述所有实施例的全部技术方案，因此至少具有上述实施例的技术方案所带来的所有有益效果，在此不再一一赘述。
87.图2为本技术实施例提供的一种显示面板10的结构示意图，如图2所示，显示面板10包括彩膜基板100、阵列基板200和液晶层300。其中，阵列基板200位于彩膜基板100中衬
底基板110的第二侧面，即阵列基板200位于彩膜基板100中色阻层140所在的一侧。
88.组装时，阵列基板200和彩膜基板100扣合形成容纳腔，液晶层300则填充在彩膜基板100和阵列基板200之间的容纳腔内，通过驱动电压调控控制液晶层300中液晶分子转动，以形成不同出射角度和方向的出射光线。
89.可选的，为保证液晶层300具有足够的容纳空间以及彩膜基板100和阵列基板200的相对稳定，避免显示面板10表面不平整或高度不一，需要在彩膜基板100与阵列基板200之间设置隔垫物400，以对彩膜基板100和阵列基板200进行支撑，保证显示面板10表面的平整性。
90.最后，本技术实施例还提供一种彩膜基板100的制作方法，如图3所示，彩膜基板100的制作方法主要包括以下步骤：
91.s100、提供一衬底基板110。其中，所用衬底基板110可以是玻璃基板或其他类型基板，用于支撑彩膜基板100中各膜层结构，其具体材质可以根据实际设计需求进行调整，此处不做限制。
92.需要说明的是，由于彩膜基板100整体位于出光侧，为保证彩膜基板100的出光率，所用衬底基板110需要具有较好的透光性，避免光线经过衬底基板110时出现大量损耗，从而提高彩膜基板100的出光率效果。
93.s200、在衬底基板110上形成多条线栅130，多条线栅130并列设置。
94.具体的，如图4所示，先在衬底基板110上沉积一层金属层，然后对金属层进行刻蚀，使金属层形成为多条并列设置的线栅130。相邻两条线栅130之间具有第二间隙131，通过刻蚀工艺的调整，能够对第二间隙131的位置及尺寸进行相应调整，以满足不同的出光需求。
95.s300、在衬底基板110上依次形成多层折射层120，相邻两层折射层120的折射率不相同，多层折射层120中靠近衬底基板110的折射层120的折射率与衬底基板110的折射率不相同。
96.如图5所示，制作过程中，采用物理或化学沉积的方式在衬底基板110上依次沉积多层折射层120，且相邻两层折射层120的折射率不相同，多层折射层120中靠近衬底基板110的折射层120的折射率与衬底基板110的折射率不相同，使得出射光线在穿过每层折射层120时出射光线的出射角度都会发生变化，通过多层折射层120的折射率的配合设计，使得不同位置的出射光线汇聚至同一观察点，以改善不同观察点的色偏问题，提高彩膜基板100的显示效果。
97.可选的，在逐层形成折射层120的过程中，对其中至少一层折射层120的表面进行刻蚀，以使该层折射层120表面形成多个凸起121。通过刻蚀工艺的设计，能够对凸起121的形状进行调节，使得出射光线的出射角度更加多样，从而有利于对出射光线出射角度的调节。
98.在其中某一层表面形成多个凸起121后，后续相邻的折射层120则填充在多个凸起121的第一间隙122中，即后续相邻的折射层120靠近多个凸起121的一侧形成与该层折射层120互补的凸起121，从而使得对出射光线的出射角度和出射方向的调节更加多样。
99.需要说明的是，凸起121可以形成在任意一层或多层折射层120的一侧表面或者同时形成在折射层120的两侧表面，其具体形成位置能够根据实际应用需求进行相应设计调
整，此处不做特殊限制。
100.可选的，在彩膜基板100的制作过程中，在完成线栅130和折射层120的制作后，还需在衬底基板110上形成色阻层140，以完成彩膜基板100的制作。其中，色阻层140包括多个色阻，多个色阻的颜色包括红色、绿色、蓝色和白色中的一种或多种，用于对出射光线进行过滤。通过不同颜色色阻的相互配合，能够满足不同显示画面的显示需求。
101.在一些实施例中，多条线栅130和多层折射层120位于衬底基板110的同一侧，且多条线栅130位于多层折射层120靠近衬底基板110的一侧，色阻层140则位于衬底基板110的另一侧。即先进行步骤s200在衬底基板110上形成线栅130，然后进行步骤s300在线栅130上依次形成多层折射层120。
102.在另一些实施例中，多层折射层120和色阻层140位于衬底基板110的同一侧，多条线栅130位于衬底基板110的另一侧，则步骤s200和s300的顺序能够根据制作过程进行调整。或者，多层折射层120分布在衬底基板110的相对两侧，则采用先进行步骤s200然后进行步骤s300的制作工序，以简化工艺流程。
103.需要说明的是，在制作彩膜基板100的过程中，能够根据线栅130和折射层120的设置位置对步骤s200和s300的顺序进行配合调整，即步骤s200和s300仅分别表示制作线栅130和折射层120的过程，不代表其制作的先后顺序，随着彩膜基板100结构的改变，其制作顺序也会进行相应调整。
104.以上对本技术实施例所提供的一种彩膜基板、显示面板及彩膜基板的制作方法进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本技术的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本技术的方法及其核心思想；同时，对于本领域的技术人员，依据本技术的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本技术的限制。