1.一种光刻胶组合物，其特征在于，其由下述原料制得，所述原料包括：无规共聚物、光致生酸剂、光敏聚合物和有机溶剂；
2.如权利要求1所述的光刻胶组合物，其特征在于，
3.如权利要求1所述的光刻胶组合物，其特征在于，
4.如权利要求1所述的光刻胶组合物，其特征在于，
5.一种光刻胶组合物，其特征在于，其由下述原料制得，所述原料包括：无规共聚物、光致生酸剂、光敏聚合物和有机溶剂；
6.如权利要求5所述的光刻胶组合物，其特征在于，所述无规共聚物的分子量分布的值为1.62-1.73，例如1.62、1.65、1.69、1.72或1.73。
7.如权利要求1-6中任一项所述的光刻胶组合物，其特征在于，所述光刻胶组合物还包含其他组分，所述其他组分选自流平剂、表面活性剂、助粘剂、猝灭剂和交联剂中的一种或多种。
8.如权利要求7所述的光刻胶组合物，其特征在于，以质量分数计，
9.一种如权利要求1-8中任一项所述的光刻胶组合物的制备方法，其特征在于，将原料混合后得到混合物，即可。
10.一种如权利要求1-8中任一项所述的光刻胶组合物用于光刻胶时的应用，或所述的光刻胶组合物在制造半导体器件中的应用。