技术特征：
1.一种液晶显示面板，其特征在于，包括阵列基板、彩膜基板和位于所述阵列基板和彩膜基板之间的液晶层，所述阵列基板至少包括衬底、位于所述衬底上的第一金属层和且覆盖所述第一金属层的栅极绝缘层、位于所述栅极绝缘层上的第二金属层、位于所述第二金属层上的第一平坦化层、位于所述第一平坦化层上的pfa层、位于所述pfa层上的公共电极层、位于所述公共电极层上的第三金属层和且覆盖所述第三金属层的第二平坦化层、以及位于所述第二平坦化层上的像素电极层；所述第二平坦化层至所述第一平坦化层之间设置有第一过孔和第二过孔，所述像素电极层通过所述第一过孔与所述第二金属层中的漏电极电性连接，所述公共电极层通过所述第二过孔与所述第二金属层中的连接电极电性连接；其中，所述pfa层对应所述第一过孔和所述第二过孔的内壁位置上均至少设置有一步台阶。2.根据权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述台阶围绕所述第一过孔和所述第二过孔的内壁设置，所述台阶在衬底平面上的投影呈闭环状。3.根据权利要求2所述的液晶显示面板，其特征在于，所述台阶的宽度为2um-5um。4.根据权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述pfa层的材料为有机光阻材料。5.根据权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述第三金属层包括至少一条低电阻信号线，所述低电阻信号线与所述公共电极层电连接。6.根据权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述第一金属层包括公共电极信号输入电极，所述第二过孔内设置有搭接电极，所述公共电极层通过搭接电极和所述连接电极与所述公共电极信号输入电极电性连接；其中，所述搭接电极与所述像素电极层同层设置，且同一道光罩制备而成。7.一种液晶显示面板的制备方法，包括阵列基板、彩膜基板和位于所述阵列基板和彩膜基板之间的液晶层，其特征在于，所述方法包括：步骤s1、提供一衬底、在所述衬底之上至少形成第一金属层、位于所述衬底上的第一金属层和且覆盖所述第一金属层的栅极绝缘层、位于所述栅极绝缘层上的第二金属层、位于所述第二金属层上的第一平坦化层、位于所述第一平坦化层上的pfa层、以及位于所述pfa层上的公共电极层；步骤s2、由所述公共电极层向所述pfa层刻蚀第三过孔和第四过孔，且所述pfa层对应第三过孔和第四过孔的边缘位置均至少形成一步台阶，然后在所述公共电极层上形成光阻层；步骤s3、图案化所述光阻层，以使所述公共电极层上以形成具有镂空图案，然后在镂空图案上形成第三金属层，并剥离剩余的所述光阻层；其中，所述第三金属层包括至少一条低电阻信号线，所述低电阻信号线与所述公共电极层电连接；步骤s4、在所述公共电极层上制备覆盖所述第三金属层的第二平坦化层，在所述第二平坦化层上制备像素电极。8.根据权利要求7所述的液晶显示面板的制备方法，其特征在于，在步骤s1中：所述第一金属层包括公共电极信号输入电极和栅电极，所述第二金属层包括连接电极和漏电极，所述连接电极与所述公共电极信号输入电极电性连接。
9.根据权利要求8所述的液晶显示面板的制备方法，其特征在于，步骤s3还包括：待所述第三金属层制备完成后，沿着第三过孔和第四过孔继续向所述第一平坦化层刻蚀，以形成所需的第一过孔和第二过孔。10.根据权利要求9所述的液晶显示面板的制备方法，其特征在于，步骤s4具体包括：在所述第一过孔和所述第二平坦化层上制备像素电极，在所述第二过孔和所述第二平坦化层上制备搭接电极，所述公共电极层通过搭接电极和所述连接电极与所述公共电极信号输入电极电性连接，所述像素电极层通过所述第一过孔与所述漏电极电性连接。
技术总结
本发明提供一种液晶显示面板及其制备方法，本发明的液晶显示面板制备过程中PFA层对应过孔的边缘位置均至少形成一步台阶，然后在公共电极层上形成光阻层；图案化光阻层，在公共电极层上以形成第三金属层，并剥离剩余的光阻层；本发明的第三金属层与公共电极层电连接，以降低公共电极层的阻抗，同时PFA层对应过孔的内壁位置上均至少设置有一步台阶，台阶结构优化PFA膜层边缘倾斜角度，使角度变小，坡度变缓，底部角度变缓，使边缘光阻PR堆积不容易掉落PFA层的过孔孔内，降低制程波动，无需额外加大公共电极的过孔边缘安全距离和像素电极的过孔边缘的安全距离，与现有技术对比之下，本发明提高背光的穿透率，降低HFS LCD显示屏功耗，从而提高显示效果。从而提高显示效果。从而提高显示效果。
技术研发人员：刘倩
受保护的技术使用者：TCL华星光电技术有限公司
技术研发日：2021.12.03
技术公布日：2022/3/4