1.本实用新型涉及一种硬性接触镜的度数调整装置。
背景技术:2.硬性接触镜通常是指由硬性透氧材料制备的隐形眼镜,也可以称为硬性隐形眼镜或硬性眼内镜。
3.硬性接触镜的制备方法和普通的框架眼镜的制备方法类似,通常可以采用机加工制备或模具制备。另外,硬性接触镜的制备方法通常包括测量佩戴者眼部参数、基于眼部参数设计具有光学区的硬性接触镜、以及对接触镜进行加工/成型几个步骤。
4.在制备硬性接触镜的过程中,以上所述的各个步骤中都有可能会出现或多或少的误差,导致佩戴者在试佩戴时出现镜片的度数不适合的问题,此时需要对度数不适合的镜片的度数进行调整以使其适配于佩戴者的相关眼部参数。
技术实现要素:5.本实用新型是有鉴于上述现有技术的状况而提出的,其目的在于提供一种能够对硬性接触镜的度数进行预设程度的调整的度数调整装置。
6.为此,本实用新型提供了一种硬性接触镜的度数调整装置,所述硬性接触镜包括呈凸状的前表面、以及与所述前表面相对且呈凹状的后表面,所述度数调整装置包括相对布置的研磨机构和支承机构,所述研磨机构包括压力测量部、面向所述支承机构的可转动的具有研磨面的研磨部以及与所述压力测量部和所述研磨部相连接的控制部,所述支承机构包括驱动部、以及由所述驱动部驱动以相对于所述研磨部进行移动的定位部,所述定位部朝向所述研磨部的一端形成为与所述硬性接触镜的后表面的形状相匹配且呈凸状的帽部,所述压力测量部测量所述硬性接触镜与所述研磨部之间的接触压力并传递给所述控制部,所述控制部基于所述接触压力控制所述研磨部转动预设角度。
7.在本实用新型所涉及的度数调整装置中,度数调整装置包括与硬性接触镜的表面形状相匹配的定位部,通过支承机构和研磨部配合可以对硬性接触镜进行减薄从而对其度数进行调整;另外,控制部基于压力测量部反馈的硬性接触镜与研磨部之间的接触压力控制研磨部的转动角度,能够对硬性接触镜的减薄程度进行控制。由此,通过本实用新型的度数调整装置能够对硬性接触镜的度数进行预设程度的调整。
8.另外,在本实用新型所涉及的制备方法中,可选地,所述驱动部具有角度调整单元,所述角度调整单元被构造成用于调整所述定位部的中心轴线与所述研磨面之间的夹角。由此,能够在硬性接触镜以任意姿态与研磨面接触时,定位部都能以某种角度为硬性接触镜提供支承。
9.另外,在本实用新型所涉及的制备方法中,可选地,所述驱动部具有连接于所述角度调整单元的转动单元,所述转动单元驱动所述定位部以其中心轴线为旋转轴进行自转。在这种情况下,转动单元能够通过定位部带动硬性接触镜灵活地转动,减少硬性接触镜长
期处于特定的姿态时而导致硬性接触镜无法被均匀减薄的可能性。
10.另外,在本实用新型所涉及的制备方法中,可选地,所述角度调整单元和所述转动单元配合以调整设置在所述定位部上的所述硬性接触镜抵接于所述研磨面的部位。在这种情况下,通过角度调整单元和转动单元的配合可以使硬性接触镜的不同部位都能被研磨面所打磨。
11.另外,在本实用新型所涉及的制备方法中,可选地,所述驱动部驱动所述定位部沿着预定路径相对于所述研磨面进行移动。由此,能够减少研磨时由于研磨面与硬性接触镜的配合不合理而导致研磨不充分的可能性。
12.另外,在本实用新型所涉及的制备方法中,可选地,所述定位部远离所述研磨面的一端形成为呈柱状的柄部,所述驱动部可释放地夹持所述柄部。由此,定位部能够以可拆卸的方式设置于驱动部。
13.另外,在本实用新型所涉及的制备方法中,可选地,所述研磨面为柔性的研磨平面。由此,能够用于打磨硬性接触镜的前表面。
14.另外,在本实用新型所涉及的制备方法中,可选地,所述压力测量部基于所述研磨面被所述硬性接触镜挤压时的变形量计算出所述接触压力。由此,压力测量部能够敏感的基于研磨面的微小变形计算出实时的接触压力。
15.另外,在本实用新型所涉及的制备方法中,可选地,所述研磨部以不改变所述研磨面的法向方向的方式转动。由此,能够使硬性接触镜在研磨时平稳地抵接于研磨面。
16.另外,在本实用新型所涉及的制备方法中,可选地,所述硬性接触镜通过粘接剂而固定于所述定位部。由此,能够减少硬性接触镜被磨削时抖动或脱落的可能性。
17.另外,在本实用新型所涉及的制备方法中,可选地,所述定位部为可加热元件;和/或所述压力测量部为压力传感器。由此,硬性接触镜可以通过低熔点粘接剂粘接于定位部,并且定位部加热后能够将低熔点粘接剂融化。另外,压力传感器能够测量接触压力。
18.另外,在本实用新型所涉及的制备方法中,可选地,所述预设角度为最小角度的整数倍,所述最小角度为0.1至0.19度。由此,能够控制研磨面转动的度数,进一步能够控制对硬性接触镜进行度数调整的程度。
19.根据本实用新型,能够提供一种能够对硬性接触镜的度数进行预设程度的调整的度数调整装置。
附图说明
20.现在将仅通过参考附图的例子进一步详细地解释本实用新型,其中:
21.图1是示出了本实用新型示例所涉及的硬性接触镜的示意图。
22.图2是示出了本实用新型示例所涉及的硬性接触镜的径向截面示意图。
23.图3是示出了本实用新型示例所涉及的对硬性接触镜的周边光学区进行减薄的示意图。
24.图4是示出了本实用新型示例所涉及的对硬性接触镜的中央光学区进行减薄的示意图。
25.图5是示出了本实用新型示例所涉及的度数调整装置的结构框图。
26.图6a是示出了本实用新型示例所涉及的度数调整装置对硬性接触镜的中央光学
区进行研磨的主视图。
27.图6b是示出了本实用新型示例所涉及的度数调整装置对硬性接触镜的周边光学区进行研磨的主视图。
28.图7是示出了本实用新型示例所涉及的预定路径的俯视图。
29.图8是示出了本实用新型示例所涉及的硬性接触镜粘接于定位部的示意图。
具体实施方式
30.以下,参考附图,详细地说明本实用新型的优选实施方式。在下面的说明中,对于相同的部件赋予相同的符号,省略重复的说明。另外,附图只是示意性的图,部件相互之间的尺寸的比例或者部件的形状等可以与实际的不同。
31.需要说明的是,本实用新型中的术语“包括”和“具有”以及它们的任何变形,例如所包括或所具有的一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元,而是可以包括或具有没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。
32.本实用新型主要涉及一种能够对硬性接触镜的度数进行预设程度的调整的度数调整装置,以下简称为度数调整装置。在一些示例中,硬性接触镜可以是角膜接触镜或巩膜接触镜等。
33.图1是示出了本实用新型示例所涉及的硬性接触镜20的示意图。图2是示出了本实用新型示例所涉及的硬性接触镜20的径向截面示意图。
34.在一些示例中,硬性接触镜20通常包括呈凸状的前表面21和与前表面21相对且呈凹状的后表面22(参见图2)。在一些示例中,前表面21和后表面22可以具有预设的曲率,并且前表面21和后表面22 之间互相配合可以起到矫正屈光不正的效果。
35.在一些示例中,硬性接触镜20可以包括绕光轴中心、大致呈环状、由内到外依次分布的光学区、过渡区和着陆区(未图示)。为便于描述,本实用新型中将光学区分为中央光学区和周边光学区。在一些示例中,中央光学区和周边光学区之间并没有严格的分界线。在一些示例中,对硬性接触镜20的不同区域进行不同程度的减薄可以改变前表面21和后表面22的曲率,从而能够对硬性接触镜20的度数进行调整。
36.图3是示出了本实用新型示例所涉及的对硬性接触镜20的周边光学区进行减薄的示意图。图4是示出了本实用新型示例所涉及的对硬性接触镜20的中央光学区进行减薄的示意图。
37.考虑到中央光学区和周边光学区度数改变对硬性接触镜20的度数改变影响较大,这里仅以中央光学区和周边光学区为例对本实用新型做进一步描述。在一些示例中,对硬性接触镜20的减薄可以不限于图示的中央光学区和周边光学区。
38.对凹透镜而言,前表面21的曲率半径整体上减小可以意味着负光度的减少。在这种情况下,通过使前表面21中周边光学区部分的减薄程度整体上大于前表面21中中央光学区部分的减薄程度,能够减少硬性接触镜20的负光度。考虑到凹透镜通常是中央光学区较薄,周边光学区较厚,因此同等厚度的减薄量对于中央光学区和周边光学区的影响是不同的。因此本实用新型中对前表面21中对应于中央光学区的区域的减薄程度和对前表面21中对应于周边光学区的区域的减薄程度应当理解为相对减薄程度。
39.同样,对凹透镜而言,前表面21的曲率半径整体上增大可以意味着负光度的增加。在这种情况下,通过使前表面21中周边光学区部分的减薄程度整体上小于前表面21中中央光学区部分的减薄程度,能够增加硬性接触镜20的负光度。
40.相对应的,凸透镜的度数调整方式与凹透镜相反,这里不再赘述。
41.在一些示例中,可以通过本实用新型涉及的度数调整装置对硬性接触镜20的度数进行调整。
42.图5是示出了本实用新型示例所涉及的度数调整装置10的结构框图。图6a是示出了本实用新型示例所涉及的度数调整装置10对硬性接触镜20的中央光学区进行研磨的主视图。图6b是示出了本实用新型示例所涉及的度数调整装置10对硬性接触镜20的周边光学区进行研磨的主视图。
43.在一些示例中,度数调整装置10可以包括研磨机构100和支承机构200(参见图5)。支承机构200可以用于支承硬性接触镜20。研磨机构100可以用于对硬性接触镜20进行减薄。在一些示例中,研磨机构100和支承机构200可以是相对布置的。
44.在一些示例中,研磨机构100可以具有研磨部110。研磨部110面向支承机构200。在一些示例中,研磨部110可以具有研磨面111。在一些示例中,研磨部110可以转动以对硬性接触镜20进行减薄。
45.在一些示例中,研磨机构100可以包括研磨部110、压力测量部 120以及控制部130。压力测量部120可以用于测量研磨部110受到的压力。控制部130可以用于控制研磨部110转动。在一些示例中,控制部130可以与压力测量部120和研磨部110相连。在一些示例中,压力测量部120可以测量硬性接触镜20与研磨部110之间的接触压力并传递给控制部130,控制部130可以基于接触压力控制研磨部110转动预设角度。在一些示例中,研磨部110可以以不改变研磨面111的朝向的方式转动(旋转)。
46.在一些示例中,在相同的接触压力下,预设角度越大,对硬性接触镜20的研磨时间越久,减薄的程度越大。例如相同的接触压力下,预设角度为1080度的减薄程度大于预设角度为720度的减薄程度。在一些示例中,在预设角度相同时,接触压力越大,对硬性接触镜20的研磨程度越大。因此,基于接触压力控制研磨部110转动的预设角度,可以准确获得需要的研磨减薄量。
47.在一些示例中,预设角度可以为最小角度的整数倍。在一些示例中,最小角度可以为0.1至0.19度。在一些示例中,最小角度可以与研磨部110的最小可转动角度(转动精度)是相等的。由此,能够控制研磨面111转动的度数,进一步能够控制对硬性接触镜20进行度数调整的程度。
48.参见图6a,在一些示例中,支承机构200可以包括定位部210。
49.在一些示例中,定位部210的一端可以形成为帽部211。在一些示例中,帽部211的形状可以与硬性接触镜20的后表面22的形状相匹配。在一些示例中,帽部211可以呈凸状。在一些示例中,定位部210可以配置为帽部211朝向研磨部110。在一些示例中,定位部200可以通过帽部211将硬性接触镜20压紧在研磨部110的研磨面111上。
50.在一些示例中,支承机构200可以包括定位部210和驱动部220。在一些示例中,驱动部220可以驱动定位部210相对于研磨部110移动。在一些示例中,定位部210远离研磨面111的一端可以形成为呈柱状的柄部212。驱动部220可释放地夹持柄部212。由此,定位部
210 能够以可拆卸的方式设置于驱动部220。
51.在本实用新型所涉及的度数调整装置10中,支承机构200和研磨部110配合可以以对硬性接触镜20进行减薄。另外,控制部130可以基于压力测量部120反馈的硬性接触镜20与研磨部110之间的接触压力控制研磨部110的转动角度,以实现对硬性接触镜20的减薄程度进行控制。由此,能够对硬性接触镜20的度数进行预设程度的调整。
52.在一些示例中,驱动部220可以具有角度调整单元。在一些示例中,角度调整单元可以被构造成用于调整定位部210的中心轴线与研磨面111之间的夹角。由此,能够在硬性接触镜20以任意姿态与研磨面111接触时,定位部210都能以某种角度为硬性接触镜20提供支承。在一些示例中,通过角度调整单元,可以实现度数调整装置10在图6a 所示的状态和图6b所示的状态之间切换,以对光学区的不同区域进行研磨减薄。
53.在一些示例中,驱动部220可以具有转动单元。在一些示例中,转动单元可以连接于角度调整单元。转动单元可以驱动定位部210以其中心轴线为旋转轴进行自转。在这种情况下,转动单元能够通过定位部210带动硬性接触镜20灵活地转动,从而有利于对硬性接触镜20 进行均匀减薄。
54.在一些示例中,驱动部220可以包括角度调整单元和转动单元。在一些示例中,角度调整单元和转动单元配合可以调整设置在定位部 210上的硬性接触镜20抵接于研磨面111的部位。在这种情况下,通过角度调整单元和转动单元的配合能够使硬性接触镜20的不同部位都能被研磨面111所打磨。
55.在一些示例中,研磨面111可以是研磨平面。在一些示例中,研磨面111可以为柔性的研磨平面。由此,能够用于打磨硬性接触镜20 的前表面21。
56.在一些示例中,压力测量部120可以基于研磨面111被硬性接触镜20挤压时的变形量计算出接触压力。由此,压力测量部120能够敏感的基于研磨面111的微小变形计算出实时的接触压力。在一些示例中,压力测量部120可以为压力传感器。
57.在一些示例中,研磨部110可以以不改变研磨面111的法向方向的方式转动。由此,能够使硬性接触镜20在研磨时平稳地抵接于研磨面111。
58.图7是示出了本实用新型示例所涉及的预定路径300的俯视图。
59.参见图7,在一些示例中,驱动部220可以驱动定位部210沿着预定路径300相对于研磨面111进行移动。由此,能够减少研磨时由于研磨面111与硬性接触镜20的配合不合理而导致研磨不充分的可能性。
60.在一些示例中,预定路径300可以包括第一路径301和第二路径 302。在一些示例中,第一路径301可以大致呈圆形。第二路径302可以大致呈圆形。在一些示例中,第二路径302的半径可以大于第一路径301的外围。
61.在一些示例中,当研磨靠近硬性接触镜20光轴的环状区域时,驱动部220可以驱动定位部210沿着第一路径301移动。对应地,当研磨远离硬性接触镜20光轴的环状区域时,驱动部220可以驱动定位部 210沿着第二路径302移动。在一些示例中,当驱动部220驱动定位部 210沿第一路径301移动时,靠近硬性接触镜20光轴的环状区域在第一路径301的不同位置时,靠近硬性接触镜20光轴的环状区域的组成区域可以依次被研磨减薄。
62.在一些示例中,预设路径300可以包括过渡路径303。在一些示例中,当靠近硬性接触镜20光轴的环状区域被研磨减薄完成后,驱动部 220可以驱动定位部210经过渡路径303
后对远离硬性接触镜20光轴的环状区域进行研磨。
63.图8是示出了本实用新型示例所涉及的硬性接触镜20粘接于定位部210的示意图。
64.参见图8,在一些示例中,硬性接触镜20可以通过粘接剂而固定于定位部210。由此,能够减少硬性接触镜20被磨削时抖动或脱落的可能性。
65.在一些示例中,定位部210可以为可加热元件。由此,硬性接触镜20可以通过低熔点粘接剂粘接于定位部210,并且定位部210加热后能够将低熔点粘接剂融化,硬性接触镜20与定位部210分离。
66.在一些示例中,硬性接触镜20可以不固定设置于定位部210。换言之,在减薄的过程中,硬性接触镜20是被定位部210和研磨部110 所夹持。在一些示例中,定位部210的帽部211的材质的硬度可以低于硬性接触镜20的硬度。在一些示例中,可以在定位部210与硬性接触镜20之间设置有眼镜布。由此,能够起到保护硬性接触镜20的后表面22的效果。
67.虽然以上结合附图和示例对本实用新型进行了具体说明,但是可以理解,上述说明不以任何形式限制本实用新型。本领域技术人员在不偏离本实用新型的实质精神和范围的情况下可以根据需要对本实用新型进行变形和变化,这些变形和变化均落入本实用新型的范围内。