一种双龙门光刻机的制作方法

文档序号:29802190发布日期:2022-04-23 20:31阅读:174来源:国知局
一种双龙门光刻机的制作方法

1.本实用新型涉及光学加工技术领域,具体是一种双龙门光刻机。


背景技术:

2.光学加工广泛应用于半导体和pcb生产领域,是制作半导体器件、芯片和pcb板等产品的重要加工方法,其用于在工件表面上光刻特征图形,印刷电路板防焊油墨的处理以及多层电路板之间电气互连的打孔处理等。
3.对于印刷电路板来说,通常在印刷电路板对应的双面进行电路图形和防焊油墨的加工,传统的光刻技术需要制作掩膜的母版或者菲林底片进行曝光操作,制作周期长,且每一版对应单一图形,不能广泛应用。现有的直写光刻机构采用双工作台进行双面加工时,通常是采用一个工作台对印刷电路板的正面进行加工,利用另一工作台对印刷电路板的反面进行加工,通过两个工作台完成双面加工,由于两个工作台在生产及装配过程中会产生误差,导致双面加工时容易产生误差。现有的光刻机的斜块升降机构结构复杂,重量高,占用空间大,成本高。


技术实现要素:

4.本实用新型的目的在于提供一种双龙门光刻机,具有不易产生误差、工作运行更加稳定、提高了生产效率的有益效果,以解决上述背景技术中提出的问题。
5.为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:
6.一种双龙门光刻机,包括基座、双龙门、光学机构、对位机构和工作台机构,所述双龙门连接于所述基座顶侧,所述光学机构和对位机构均连接于所述双龙门上,所述工作台机构连接于所述基座上,并设于所述对位机构的下方;
7.所述光学机构包括光刻镜头,所述光刻镜头和镜头移动板,所述光刻镜头连接于所述镜头移动板上,所述镜头移动板连接于所述双龙门上;
8.所述对位机构包括对位相机,所述对位相机设于所述工作台机构上方,并与所述双龙门连接;
9.所述工作台机构包括上工作台和下工作台,所述上工作台和所述下工作台均可在所述基座上移动,所述上工作台上设有丝杠升降机构,所述下工作台上设有斜块升降机构;
10.作为本实用新型再进一步的方案:所述基座上设有移动模组,所述上工作台和所述下工作台可在所述移动模组上移动。
11.作为本实用新型再进一步的方案:所述光刻镜头的数量为1、4、5、6、7、8或12个,所述双龙门上连接有滑轨,所述镜头移动板可滑动地连接于滑轨上,所述光刻镜头连接于所述镜头移动板上;每个光刻镜头对应一个光路,在工件上形成一个成像区域。
12.作为本实用新型再进一步的方案:所述对位相机设有两个,所述对位相机侧面连接有相机移动板,所述相机移动板侧面连接有导轨,所述相机移动板可滑动地连接于所述导轨上,所述导轨固定于所述双龙门上。
13.作为本实用新型再进一步的方案:所述对位机构还包括工作台校对相机和龙门校对相机,所述工作台校对相机设有两个,均连接于工作台机构的侧面;所述龙门校对相机设有两个,一个连接于镜头移动板一端,另一个连接于镜头移动板另一端。
14.作为本实用新型再进一步的方案:所述上工作台完成光刻加工后,移动到起点位置;所述下工作台完成光刻加工后,通过斜块升降机构垂直降低台面,并移动到起点位置;所述上工作台与所述下工作台相遇时,所述上工作台的台面高度高于所述下工作台的台面高度。
15.作为本实用新型再进一步的方案:所述斜块升降机构的升降幅度大于所述丝杠升降机构。
16.与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
17.本实用新型的上工作台通过丝杠升降机构垂直升降台面,下工作台通过斜块升降机构对台面进行垂直升降台面,丝杠升降机构的结构简单,重量低,占用空间小;本实用新型通过上工作台和下工作台的紧密配合工作,提高了工作效率,且不易产生误差。
附图说明
18.图1为本实用新型光刻机的结构示意图。
19.图2为本实用新型光刻机的立体图。
20.图3为本实用新型光刻机另一方向的立体图。
21.图4为本实用新型光刻机的光刻镜头为12个的结构示意图。
22.图5为本实用新型光刻机的光刻镜头的实施例示意图。
23.图中标识:
24.1、基座;2、双龙门;3、光学机构;4、对位机构;5、工作台机构;
25.11、移动模组;
26.22、滑轨;
27.31、镜头移动板;32、光刻镜头;
28.41、相机移动板;42、对位相机;43、导轨;44、工作台校对相机;45、龙门校对相机;
29.51、上工作台;52、下工作台;53、丝杠升降机构;54、斜块升降机构。
具体实施方式
30.下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
31.请参阅附图1~5,本实用新型实施例中,一种双龙门光刻机,请参阅附图1-3,包括基座1、双龙门2、光学机构3、对位机构4和工作台机构5,双龙门2固定地连接于基座1顶侧,光学机构3设于对位机构4一侧,光学机构3和对位机构4均连接于双龙门2上,工作台机构5连接于基座1上,并设于对位机构4的下方;
32.光学机构3包括光刻镜头32,光刻镜头32和镜头移动板31,光刻镜头32连接于镜头移动板31上,镜头移动板31连接于双龙门2上;
33.对位机构4包括对位相机42,对位相机42设于工作台机构5上方,并与双龙门2连接;
34.工作台机构5包括上工作台51和下工作台52,上工作台51和下工作台52均连接于基座1上,并可在基座1上移动,上工作台51上设有丝杠升降机构53,上工作台51通过丝杠升降机构53对台面进行垂直升降;下工作台52上设有斜块升降机构54,下工作台52通过斜块升降机构54对台面进行垂直升降;
35.上工作台51移动至对位机构4下方进行对位加工,对位加工后,移动至光学机构3下方,并往复移动进行光刻加工,光刻加工后,移动到起点位置;下工作台52移动至对位机构4下方,并通过斜块升降机构54垂直升高台面,进行对位加工,对位加工后,移动至光学机构3下方,并往返移动进行光刻加工,光刻加工后,下工作台52通过斜块升降机构54垂直降低台面,并移动到起点位置。本实用新型的上工作台51通过丝杠升降机构53垂直升降台面,下工作台52通过斜块升降机构54对台面进行垂直升降台面,丝杠升降机构53的结构简单,重量低,占用空间小;本实用新型通过上工作台51和下工作台52的紧密配合工作,提高了工作效率,且不易产生误差。
36.作为本实用新型再进一步的方案:基座1上设有移动模组11,上工作台51和下工作台52可在移动模组11上移动。
37.作为本实用新型再进一步的方案:光刻镜头32的数量为1、4、5、6、7、8或12个,双龙门2上连接有滑轨22,镜头移动板31可滑动地连接于滑轨22上,光刻镜头32连接于镜头移动板31上;请参阅附图5,每个光刻镜头32对应一个光路,在工件上形成一个成像区域;请参阅附图4,本实用新型的光刻镜头32的数量为12个。
38.作为本实用新型再进一步的方案:对位相机42设有两个,对位相机42侧面连接有相机移动板41,相机移动板41侧面连接有导轨43,相机移动板41可滑动地连接于导轨43上,导轨43固定于双龙门2上;根据pcb大小尺寸,可调节对位相机42的位置。
39.本实用新型中一个较佳的实施例,对位机构4还包括工作台校对相机44和龙门校对相机45,工作台校对相机44设有两个,均连接于工作台机构5的侧面;龙门校对相机45设有两个,一个连接于镜头移动板31一端,另一个连接于镜头移动板31另一端;工作台校对相机44和龙门校对相机45可用于检测工作台机构5是否倾斜,若检测到工作台机构5倾斜时,可以进行调整对位机构4的位置,是对位机构4与工作台机构5始终保持平行。
40.本实用新型中一个较佳的实施例,上工作台51完成光刻加工后,移动到起点位置;下工作台52完成光刻加工后,通过斜块升降机构54垂直降低台面,并移动到起点位置;上工作台51与下工作台52相遇时,上工作台51的台面高度高于下工作台52的台面高度。
41.本实用新型中一个较佳的实施例,斜块升降机构54的升降幅度大于丝杠升降机构53。
42.本实用新型三工位双龙门斜块升降式光刻机的加工方法如下:将pcb放置于上工作台51,上工作台51移动至对位相机42下方,并对pcb进行对位加工,两个对位相机42对pcb抓取靶标进行标定,即对pcb进行定位,对位加工后,上工作台51移动至光刻镜头32下方,并往复移动对pcb进行光刻加工,光刻镜头32在pcb上形成成像区域,光刻加工后,上工作台51移动到起点位置;上工作台51移动至对位相机42下方时,人工将另一个pcb放置于下工作台52,下工作台52移动至对位相机42下方,并通过斜块升降机构54垂直升高台面,此时,上工
作台51移动至起点位置,不会干涉,对位相机42对pcb进行对位加工,两个对位相机42对pcb抓取靶标进行标定,即对pcb进行定位,对位加工后,下工作台52移动至光刻镜头32下方,并往返移动对pcb进行光刻加工,光刻镜头32在pcb上形成成像区域,光刻加工后,下工作台52通过斜块升降机构54垂直降低台面,并移动到起点位置;第一块pcb加工好后,光刻机可连续地对pcb进行光刻加工。
43.本实用新型的上工作台51通过丝杠升降机构53垂直升降台面,下工作台52通过斜块升降机构54对台面进行垂直升降台面,丝杠升降机构53的结构简单,重量低,占用空间小;本实用新型通过上工作台51和下工作台52的紧密配合工作,提高了工作效率,且不易产生误差。
44.尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明,对于本领域的技术人员来说,其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
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