一种非对称性UV曝光方法与流程

文档序号:28377841发布日期:2022-01-07 22:22阅读:来源:国知局

技术特征:
1.一种非对称性uv曝光方法,其包括将uv可固化涂层#1施加在光学透明基板的一侧上,并将uv可固化涂层#2施加在所述光学透明基板的另一侧上,并且将所述光学透明基板的两侧同时曝光于uv光,其中,所述uv可固化涂层#1与所述uv可固化涂层#2在不同的波长处具有uv吸收峰。2.根据权利要求1所述的非对称性uv曝光方法,其中,所述uv可固化涂层#1与所述uv可固化涂层#2的uv吸收峰之间的波长差异为至少10nm。3.根据权利要求1所述的非对称性uv曝光方法,其中,所述uv可固化涂层#1和所述uv可固化涂层#2各自独立地选自由正性光刻胶和负性光刻胶组成的组。4.根据权利要求3所述的非对称性uv曝光方法,其中,所述正性光刻胶包含曝光后可溶于显影液的树脂材料,并且所述负光刻胶包含曝光后不溶于显影液的树脂材料。5.根据权利要求1所述的非对称性uv曝光方法,其中,所述uv可固化涂层#1和所述uv可固化涂层#2各自包含光引发剂。6.根据权利要求5所述的非对称性uv曝光方法,其中,所述uv可固化涂层#1和所述uv可固化涂层#2的光引发剂各自独立地为选自由苯乙酮类化合物、二苯甲酮类化合物、三嗪类化合物、噻吨酮类化合物和肟酯类化合物组成的组中的至少一种。7.根据权利要求5或6所述的非对称性uv曝光方法,其中,通过使用在不同的波长下具有uv吸收峰的两种不同的光引发剂来实现所述uv可固化涂层#1与所述uv可固化涂层#2的uv吸收峰之间的波长差异。8.根据权利要求1所述的非对称性uv曝光方法,其中,所述光学透明基板由pet、cop、cpi、或者其他柔性或刚性材料制成。9.根据权利要求1或8所述的非对称性uv曝光方法,其中,所述光学透明基板不需要具有uv阻隔功能。10.一种金属网格触摸传感器,其通过根据前述权利要求中任一项所述的非对称性uv曝光方法制造。

技术总结
一种非对称性UV曝光方法,以及使用它制造的金属网格传感器,包括将UV可固化涂层#1施加在光学透明基板的一侧上,并将UV可固化涂层#2施加在光学透明基板的另一侧上,并且将所述光学透明基板的两侧同时曝光于UV光,其中,UV可固化涂层#1与UV可固化涂层#2在不同的波长处具有UV吸收峰。不仅允许用于制造金属网格触摸传感器的光学透明基板的选择更大,而且还实现了更好的柔性和改善的光学特性。了更好的柔性和改善的光学特性。了更好的柔性和改善的光学特性。


技术研发人员:王钧 黄腾纬 刘江 江建国
受保护的技术使用者:浙江鑫柔科技有限公司
技术研发日:2021.06.17
技术公布日:2022/1/6
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