CMOS传感器上的角度滤光器的结构的制作方法

文档序号:31696103发布日期:2022-10-01 05:25阅读:来源:国知局

技术特征:
1.一种包括叠堆的装置(1;101;102;103;104;105;106),所述堆叠按顺序至少包括:mos技术的图像传感器(17),其适于检测辐射(27);第一透镜阵列(19);结构(21),所述结构至少由对所述辐射不透光的壁(39)限定的第一开口(41)矩阵形成;以及第二透镜阵列(23;23

),所述第二阵列的透镜(23;23

)的数量大于所述第一阵列的透镜(19)的数量。2.根据权利要求1所述的装置,其中,所述第二阵列的透镜(23;23

)的数量比所述第一阵列的透镜(19)的数量大2到10倍,优选地大2倍。3.根据权利要求1或2所述的装置,所述装置包括在所述结构(21)和所述第一透镜阵列(19)之间的粘合剂层(37)。4.根据权利要求1至3中任一项所述的装置,所述装置包括位于所述结构(21)和所述第一透镜阵列(19)之间的折射率匹配层(35)。5.根据权利要求1至4中任一项所述的装置,其中:所述第一矩阵的每个开口(41)与所述第二阵列的单个透镜(23)相关联;以及所述第二阵列的每个透镜的光轴与所述第一矩阵的开口(41)的中心对准。6.根据权利要求1至5中任一项所述的装置,其中,所述结构(21)包括位于第一开口(41)矩阵下方的第二开口(53)矩阵,所述第二开口矩阵由对所述辐射(27)不透光的壁(55)限定,所述第一矩阵的开口的数量和第二矩阵的开口的数量相同,并且所述第一矩阵的每个开口的中心与第二矩阵的开口的中心对准。7.根据权利要求1至6中任一项所述的装置,其中,所述第二阵列的透镜(23)和第一阵列的透镜(19)是平凸的,所述第一阵列和第二阵列的透镜的平坦表面位于所述传感器侧(17)。8.根据权利要求1至7中任一项所述的装置,其中,所述开口(41,53)填充有对所述辐射(27)至少部分透光的材料。9.根据权利要求1至8中任一项所述的装置,其中,所述第一阵列的透镜(19)的直径大于第二阵列的透镜(23;23

)的直径。10.根据权利要求1至9中任一权利要求所述的装置,其中,所述结构包括第三平凸透镜阵列(47;47

;47

),所述第二透镜阵列的透镜(23;23

)的平坦表面和第三透镜阵列的透镜的平坦表面彼此面对,所述第三透镜阵列位于所述第一开口(41)矩阵和第一透镜阵列(19)之间或者位于所述第一开口矩阵和第二透镜阵列之间。11.根据权利要求10所述的装置,其中,所述第二阵列的每个透镜(23)的光轴与第三阵列的透镜(47;47

)的光轴对准。12.根据权利要求10或11所述的装置,其中,所述第二阵列的透镜(23;23

)的图像焦平面与第三阵列的透镜(47;47

;47

)的物体焦平面重合。13.根据权利要求10至12中任一项所述的装置,其中,所述第三阵列的透镜(47;47

;47

)的数量大于第二阵列的透镜(23;23

)的数量。14.根据权利要求10至13中任一项所述的装置,其中,所述第二阵列的透镜(23;23

)的直径大于第三阵列的透镜(47;47

;47

)的直径。

技术总结
本发明涉及一种具有叠堆的装置(1),该叠堆按以下顺序至少包括:MOS技术中的图像传感器(17),该图像传感器可适于检测辐射(27);第一透镜阵列(19);结构(21),该结构由至少第一穿孔矩阵形成,所述至少第一穿孔矩阵由对所述辐射不透光的壁限定;以及第二透镜阵列(23)。以及第二透镜阵列(23)。以及第二透镜阵列(23)。


技术研发人员:本杰明
受保护的技术使用者:爱色乐居
技术研发日:2021.02.09
技术公布日:2022/9/30
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