具有内置同轴照射的光刻预对准成像传感器的制作方法

文档序号:33183220发布日期:2023-02-04 05:33阅读:来源:国知局

技术特征:
1.一种图案形成装置预对准传感器系统,包括:至少一个照射源,所述至少一个照射源被配置成提供沿法线方向朝向图案形成装置的入射束;沿所述法线方向的物镜组通路,所述物镜组通路被配置成从所述图案形成装置接收0阶折射束;第一光反射器,所述第一光反射器被配置成对0阶折射束进行重定向以形成第一回射束;以及第一图像透镜组通路,所述第一图像透镜组通路被配置成将所述第一回射束传输到第一光传感器;其中所述第一光传感器被配置成检测所述第一回射束以确定所述图案形成装置的部位特征。2.根据权利要求1所述的系统,其中,所述至少一个照射源包括第一照射源,所述第一照射源被布置成靠近于所述第一光反射器,并且被配置成沿所述物镜组通路发射所述入射束。3.根据权利要求1所述的系统,其中:所述至少一个照射源包括靠近于所述第一图像透镜组通路布置的第一照射源;以及所述第一图像透镜组通路包括第一源反射器,所述第一源反射器被配置成将从所述第一照射源发射的入射光重定向到沿第一图像透镜组通路的方向。4.根据权利要求1所述的系统,其中:所述第一光反射器包括第一分束器;以及所述系统还包括:下物镜组通路,所述下物镜组通路被配置成接收来自所述第一分束器的所述0阶折射束;第二光反射器,所述第二光反射器被配置成对所述0阶折射束进行重定向以形成第二回射束;以及第二图像透镜组通路,所述第二图像透镜组通路被配置成将所述第二回射束传输到第二光传感器;其中所述第二光传感器被配置成检测所述第二回射束以确定所述图案形成装置的另外的部位特征。5.根据权利要求4所述的系统,其中:所述第一光传感器和所述第二光传感器被配置成检测所述第一回射束和所述第二回射束以确定所述图案形成装置的x-y平面部位特征和旋转特征。6.根据权利要求4所述的系统,其中:所述至少一个照射源包括第一照射源,所述第一照射源被布置成靠近于所述第二光反射器,并且被配置成沿所述下物镜组通路发射所述入射束。7.根据权利要求6所述的系统,其中,所述第一照射源同时地照射所述第一透镜组通路和第二图像透镜组通路。8.根据权利要求6所述的系统,其中:所述至少一个照射源还包括第二照射源,所述第二照射源被布置成靠近于所述第二光
反射器,并且被配置成沿所述下物镜组通路发射所述入射束;以及所述第一照射源和所述第二照射源产生不同的波长。9.根据权利要求4所述的系统,其中,所述至少一个照射源包括:第一照射源,被布置成靠近于所述第一图像透镜组通路;和第二照射源,被布置成靠近于所述第二图像透镜组通路;其中:所述第一图像透镜组通路包括第一源反射器,所述第一源反射器被配置成将从所述第一照射源发射的入射光重定向到沿所述第一图像透镜组通路的第一方向;以及所述第二图像透镜组通路包括第二源反射器,所述第二源反射器被配置成将从所述第二照射源发射的入射光重定向到沿所述第二图像透镜组通路的第二方向。10.根据权利要求9所述的系统,其中:所述第一照射源和所述第二照射源产生不同的波长。11.根据权利要求4所述的系统,还包括:第三光反射器,所述第三光反射器被配置成对所述0阶折射束进行重定向以形成第三回射束;和第三图像透镜组通路,所述第三图像透镜组通路包括被配置成将所述第三回射束聚焦到第三光传感器的准直器;其中,所述第三光传感器被配置成检测被聚焦的第三回射束以确定所述图案形成装置的相对倾斜。12.根据权利要求11所述的系统,其中:所述至少一个照射源包括第一照射源,所述第一照射源被布置成靠近于所述第二光反射器,并且被配置成沿所述下物镜组通路发射所述入射束,以同时地照射所述第一图像透镜组通路、第二图像透镜组通路和所述第三图像透镜组通路。13.根据权利要求12所述的系统,其中,所述至少一个照射源还包括:第二照射源,所述第二照射源被布置成靠近于所述第二光反射器,并且被配置成沿所述下物镜组通路发射所述入射束;以及所述第一照射源和所述第二照射源产生不同的波长。14.根据权利要求12所述的系统,其中:所述至少一个照射源包括产生准直束的第三光源,所述准直束照射所述图案形成装置;所述第三光传感器被配置成基于所述第三光传感器的焦点与由所述被聚焦的第三回射束所产生的点之间的位移测量值来测量所述图案形成装置的所述相对倾斜。15.根据权利要求14所述的系统,其中,所述第三光源是被配置成提供对所述图案形成装置的均匀照射的同轴科勒照射源。16.根据权利要求14所述的系统,其中:所述第三光源被布置成靠近于所述第三图像透镜组通路;其中所述第三图像透镜组通路包括第三源反射器,所述第三源反射器被配置成将从所述第三照射源发射的准直束重定向到沿第三图像透镜组通路的第三方向。17.根据权利要求14所述的系统,其中:
所述第三光源被布置在所述物镜组通路内。18.根据权利要求11所述的系统,其中,所述至少一个照射源包括:第一照射源,被布置成与所述第一图像透镜组通路相邻;第二照射源,被布置成与所述第二图像透镜组通路相邻;第三照射源,被布置成与所述第三图像透镜组通路相邻;其中:所述第一图像透镜组通路包括第一源反射器,所述第一源反射器被配置成将从所述第一照射源发射的入射光重定向到沿所述第一图像透镜组通路的第一方向,所述第二图像透镜组通路包括第二源反射器,所述第二源反射器被配置成将从所述第二照射源发射的入射光重定向到沿所述第二图像透镜组通路的方向,并且所述第三图像透镜组通路包括第三源反射器,所述第三源反射器被配置成将从所述第三照射源发射的入射光重定向到沿所述第三图像透镜组通路的方向。19.一种光刻设备,包括:图案形成装置预对准传感器系统,所述图案形成装置预对准传感器系统包括:至少一个照射源,所述至少一个照射源被配置成提供沿法线方向朝向图案形成装置的入射束;沿所述法线方向的物镜组通路,所述物镜组通路被配置成从所述图案形成装置接收0阶折射束;第一光反射器,所述第一光反射器被配置成对所述0阶折射束进行重定向以形成第一回射束;以及第一图像透镜组通路,所述第一图像透镜组通路被配置成将所述第一回射束传输到第一光传感器;其中所述第一光传感器被配置成检测所述第一回射束以确定所述图案形成装置的部位特征。20.根据权利要求19所述的光刻设备,其中,所述图案形成装置预对准传感器系统还包括:下物镜组通路,所述下物镜组通路被配置成接收来自所述第一光反射器的所述0阶折射束;第二光反射器,所述第二光反射器被配置成对所述0阶折射束进行重定向以形成第二回射束;以及第二图像透镜组通路,所述第二图像透镜组通路被配置成将所述第二回射束传输到第二光传感器;其中所述第二光传感器被配置成检测所述第二回射束以确定所述图案形成装置的另外的部位特征。

技术总结
披露了一种图案形成装置预对准传感器系统。所述系统包括至少一个照射源,所述至少一个照射源被配置成提供沿法线方向朝向图案形成装置的入射束。所述系统还包括沿所述法线方向的物镜组通路,所述物镜组通路被配置成从所述图案形成装置接收0阶折射束。所述系统还包括第一光反射器,所述第一光反射器被配置成对0阶折射束进行重定向以形成第一回射束。所述系统还包括第一图像透镜组通路,所述第一图像透镜组通路被配置成将所述第一回射束传输到第一光传感器。所述第一光传感器被配置成检测所述第一回射束以确定所述图案形成装置的部位特征。位特征。位特征。


技术研发人员:Y
受保护的技术使用者:ASML控股股份有限公司
技术研发日:2021.05.20
技术公布日:2023/2/3
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