光学层叠体的制作方法

1.本发明涉及能够双面转印的光学层叠体、所述光学层叠体的制造方法、包含所述光学层叠体的椭圆偏振板及柔性显示器材料。


背景技术：

2.在有机el显示装置等平板显示装置(fpd)中，广泛地使用包含偏振膜和相位差膜的圆偏振板。作为此种圆偏振板，已知有偏振膜或相位差膜为由通过将聚合性液晶化合物涂布于基材上并使之聚合而得到的涂覆层形成的光学各向异性层的光学层叠体(专利文献1～3)。
3.现有技术文献
4.专利文献
5.专利文献1：日本特开2020-56834号公报
6.专利文献2：日本特开2019-91088号公报
7.专利文献3：日本特开2020-13164号公报


技术实现要素：

8.发明所要解决的课题
9.像所述专利文献中公开的那样的光学层叠体可以通过将形成于基材上的光学各向异性层向被转印体转印，即通过剥离所述基材、经由粘合粘接层等向被转印体贴合，而装入显示装置等。
10.然而，根据本发明人等的研究查明，将从此种光学层叠体剥离基材而显现出的2个外层面分别转印后装入显示装置等的光学层叠体在转印时有产生拉链现象(日文：
ジツピング
)、剥离界面的翘起的情况，这些现象能够导致转印后的光学层叠体的光学性能的降低。
11.本发明的目的在于，提供一种光学层叠体，其在向被转印体转印时能够抑制拉链现象的产生、剥离界面的翘起，能够向任意的被转印体容易地转印。
12.用于解决课题的手段
13.本发明人等为了解决上述课题进行了深入研究，结果完成了本发明。即，本发明包含以下的方式。
14.[1]一种光学层叠体，其依次包含第1基材、取向膜、偏振膜、粘合粘接层、相位差膜及第2基材，
[0015]
所述偏振膜及相位差膜各自为包含聚合性液晶化合物的聚合性液晶组合物的固化膜，
[0016]
从该光学层叠体剥离第1基材时的剥离力f1、和从该光学层叠体剥离第2基材时的剥离力f2满足式(1)、(2)及(3)：
[0017]
0.02(n/25mm)≤f1≤0.30(n/25mm)
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(1)
[0018]
0.02(n/25mm)≤f2≤0.30(n/25mm)
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(2)
[0019]
0.02(n/25mm)≤|f1-f2|
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(3)。
[0020]
[2]根据所述[1]中记载的光学层叠体，其中，在第1基材的偏振膜侧的面及第2基材的相位差膜侧的面的至少一个面具有剥离力调整层。
[0021]
[3]根据所述[2]中记载的光学层叠体，其中，剥离力调整层为包含硅烷化合物的层或硬涂层。
[0022]
[4]根据所述[1]～[3]中任一项记载的光学层叠体，其中，第1基材的厚度为20μm以上且100μm以下。
[0023]
[5]根据所述[1]～[4]中任一项记载的光学层叠体，其中，第2基材的厚度为20μm以上且100μm以下。
[0024]
[6]根据所述[1]～[5]中任一项记载的光学层叠体，其中，第1基材为由选自纤维素系树脂、环状烯烃系树脂及聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂中的至少1种形成的树脂膜。
[0025]
[7]根据所述[1]～[6]中任一项记载的光学层叠体，其中，第2基材为由选自纤维素系树脂、环状烯烃系树脂及聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂中的至少1种形成的树脂膜。
[0026]
[8]根据所述[1]～[7]中任一项记载的光学层叠体，其中，偏振膜为包含聚合性液晶化合物和二色性色素的聚合性液晶组合物的固化膜。
[0027]
[9]根据所述[1]～[8]中任一项记载的光学层叠体，其中，相位差膜满足式(4)：
[0028]
120nm≤re(550)≤170nm
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(4)
[0029]
〔式中，re(λ)表示波长λnm处的相位差膜的面内相位差值〕。
[0030]
[10]根据所述[9]中记载的光学层叠体，其还包含作为正c板的液晶固化膜。
[0031]
[11]根据所述[1]～[10]中任一项记载的光学层叠体，其中，偏振膜、粘合粘接层及相位差膜的合计膜厚为20μm以下。
[0032]
[12]一种长条状光学膜的制造方法，该制造方法包括：
[0033]
制造将所述[1]～[11]中任一项记载的光学层叠体卷绕成卷筒状而成的长条状光学层叠体卷的工序；以及
[0034]
从所述长条状光学层叠体卷连续地剥离构成光学层叠体的第1基材和第2基材中的、从该光学层叠体剥离时的剥离力小的一方的基材的第1剥离工序。
[0035]
[13]根据所述[12]中记载的长条状光学膜的制造方法，其还包括：
[0036]
贴合工序，在第1剥离工序中剥离的基材所邻接的面，经由粘合粘接层贴合第3基材；以及
[0037]
第2剥离工序，将第1剥离工序中没有被剥离的第1基材或第2基材剥离。
[0038]
[14]一种椭圆偏振板，其包含所述[1]～[11]中任一项记载的光学层叠体。
[0039]
[15]一种柔性显示器材料，其包含所述[1]～[11]中任一项记载的光学层叠体。
[0040]
发明效果
[0041]
根据本发明，可以提供一种光学层叠体，其能够在向被转印体转印时抑制拉链现象的产生、剥离界面的翘起，能够向任意的被转印体容易地转印。
附图说明
[0042]
图1是表示本发明的光学层叠体的层构成的一例的示意剖视图。
[0043]
图2是表示本发明的光学层叠体的层构成的一例的示意剖视图。
[0044]
附图标记说明
[0045]
1第1基材，2取向膜，3偏振膜，4粘合粘接层，5相位差膜，6取向膜，7第2基材，8、9剥离力调整层，11光学层叠体，12层叠体结构。
具体实施方式
[0046]
以下，对本发明的实施方式进行详细说明。需要说明的是，本发明的范围并不限定于此处说明的实施方式，可以在不损害本发明的主旨的范围中进行各种变更。
[0047]
本发明的光学层叠体依次包含第1基材、取向膜、偏振膜、粘合粘接层、相位差膜及第2基材。以下，基于图1及图2对本发明的光学层叠体的层构成的一例进行说明，然而本发明的层叠体并不限定于这些方式。
[0048]
图1所示的光学层叠体11依次层叠第1基材1、取向膜2、偏振膜3、粘合粘接层4、相位差膜5、取向膜6及第2基材7而成。在图1所示的光学层叠体11中，第1基材1及第2基材7各自能够剥离，可以从光学层叠体11剥离能够剥离的第1基材及第2基材，将包含取向膜2、偏振膜3、粘合粘接层4、相位差膜5、取向膜6的层叠体结构12向例如(柔性)oled、(柔性)触控面板等被转印体转印。
[0049]
在本发明的优选的一个实施方式中，本发明的光学层叠体在第1基材的偏振膜侧的面及第2基材的相位差膜侧的面的至少一个面包含剥离力调整层。图2所示的光学层叠体12在第1基材1与取向膜2之间具有剥离力调整层8，在第2基材7与取向膜6之间具有剥离力调整层9。在本发明的一个实施方式中，在第1基材与取向膜之间仅配置剥离力调整层，在另一实施方式中，在第2基材与相位差膜之间仅配置剥离力调整层及取向膜。
[0050]
只要不对本发明的效果造成影响，本发明的光学层叠体可以在包含第1基材、取向膜、偏振膜、粘合粘接层、相位差膜、第2基材及剥离力调整层的基础上，还包含其他的层而构成。作为其他的层，例如可以举出相位差膜形成用的取向膜、第二相位差膜、偏振膜及相位差膜间的粘合粘接层以外的粘合粘接层、具有uv吸收能力的树脂层等。
[0051]
在本发明的光学层叠体中，从该光学层叠体剥离第1基材时的剥离力f1、与从该光学层叠体剥离第2基材时的剥离力f2满足式(1)、(2)及(3)：
[0052]
0.02(n/25mm)≤f1≤0.30(n/25mm)
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(1)
[0053]
0.02(n/25mm)≤f2≤0.30(n/25mm)
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(2)
[0054]
0.02(n/25mm)≤|f1-f2|
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(3)。
[0055]
若剥离力f1和剥离力f2分别是所述式(1)或式(2)中特定的范围的剥离力、并且剥离力f1和剥离力f2处于所述式(3)所示的关系，则可以抑制将从光学层叠体剥离基材而显现出的2个外层面分别转印而装入显示装置等时的拉链现象、剥离界面的翘起的产生，可以期待抑制由转印引起的光学性能降低的效果。
[0056]
本发明中，剥离力f1优选为小于0.30n/25mm，更优选为0.25n/25mm以下，进一步优选为0.15n/25mm以下。若剥离力f1的上限为所述范围内，则易于从光学层叠体剥离第1基材，易于将剥离力f1在与剥离力f2的关系中控制在对于抑制拉链现象、翘起的产生有效的范围中。另外，剥离力f1优选为0.04n/25mm以上，更优选为0.06n/25mm以上，进一步优选为0.08n/25mm以上。若剥离力f1为所述下限以上，则可以在确保从光学层叠体剥离第1基材时
的易剥离性的同时，抑制将层叠体向显示装置等装入的转印前的意料之外的第1基材的剥离。
[0057]
本发明中，剥离力f2优选为小于0.30n/25mm，更优选为0.25n/25mm以下，进一步优选为0.15n/25mm以下。若剥离力f2的上限为所述范围内，则易于从光学层叠体剥离第2基材，易于将剥离力f2在与剥离力f1的关系中控制在对于抑制拉链现象、翘起的产生有效的范围中。另外，剥离力f2优选为0.04n/25mm以上，更优选为0.06n/25mm以上，进一步优选为0.08n/25mm以上。若剥离力f2为所述下限以上，则可以在确保从光学层叠体剥离第2基材时的易剥离性的同时，抑制将层叠体向显示装置等装入的转印前的意料之外的第2基材的剥离。
[0058]
若剥离力f1与剥离力f2满足所述式(3)所示的关系，则在光学层叠体的第1基材的密合力与光学层叠体的第2基材的密合力之间产生适度的强弱关系。因此，在满足上述关系的情况下，可以抑制转印时的拉链现象、剥离界面的翘起的产生，可以从光学层叠体以所期望的顺序容易地剥离第1基材及第2基材。由此，可以期待抑制因转印的原因而产生的光学层叠体的光学性能的降低的效果。特别是从抑制剥离界面的翘起的产生的效果优异的方面出发，本发明的f1-f2的绝对值优选为0.03n/25mm以上，更优选为0.04n/25mm以上。另外，从提高拉链现象的产生抑制效果的方面出发，f1-f2的绝对值的上限值通常为0.3n/25mm以下，优选为0.2n/25mm以下，更优选为0.08n/25mm以下。f1-f2的值可以通过分别调整剥离力f1和剥离力f2来控制。需要说明的是，通常如下所示地设计剥离力f1及剥离力f2，即，先被剥离的基材侧的剥离力小于后被剥离的基材侧的剥离力。
[0059]
剥离力f1及f2各自为如下所示地得到的测定值，即，在将设为测定对象的光学层叠体的、剥下与测定剥离力的基材相反的一侧的基材(例如，测定f1时为第2基材，测定f2时为第1基材)后的面通过利用粘合粘接剂向玻璃板贴合等而固定的试验片中，作为为了将测定剥离力的第1基材或第2基材从试验片的光学层叠体剥离而必需的剥离力测定。所述剥离力的测定可以依照jis k 6854-1：1999中规定的90
°
剥离试验法来进行。剥离力f1及f2的详细的测定方法记载于后述的实施例中。
[0060]
剥离力f1及剥离力f2例如可以利用与第1基材及第2基材分别邻接的层的构成及其厚度、第1基材及第2基材的种类、其厚度、第1基材、第2基材和/或与这些基材邻接的层的表面处理等来调整。例如，通过对如后所述的第1基材和/或第2基材表面上实施改性处理、或设置用于将剥离力控制在所期望的范围中的层(以下称作“剥离力调整层”)作为与第1基材或第2基材邻接的层，可以控制第1基材或第2基材从光学层叠体的剥离力。
[0061]
以下，对本发明的光学层叠体的各构成进行详细说明。
[0062]
〔第1基材及第2基材〕
[0063]
第1基材及第2基材各自为能够剥离地层叠于光学层叠体的层。第1基材及第2基材只要是能够成为使剥离力f1及f2满足上述式(1)、式(2)及式(3)的构成的基材即可，例如可以使用光学膜的领域中以往公知的树脂膜等。作为形成第1基材及第2基材的树脂，例如可以举出聚乙烯、聚丙烯及降冰片烯系聚合物之类的聚烯烃；环状烯烃系树脂；聚乙烯醇；聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯；聚甲基丙烯酸酯；聚丙烯酸酯；三乙酰纤维素、二乙酰纤维素及乙酸丙酸纤维素之类的纤维素系树脂；聚碳酸酯；聚砜；聚醚砜；聚醚酮；聚苯硫醚及聚苯醚之类的塑料。其中，从平滑性、作为涂布基
材的品质的观点出发，优选为选自纤维素系树脂、环状烯烃系树脂及聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂中的至少1种。它们可以单独使用，也可以组合使用2种以上。可以将此种树脂利用溶剂流延法、熔融挤出法等公知的方法制膜而制成树脂膜。需要说明的是，在本说明书中，在仅记作“基材”的情况下，作为该“基材”包含第1基材及第2基材。
[0064]
为了对膜表面赋予所期望的脱模性、密合性，并易于将剥离力f1及f2控制在所期望的范围，可以根据邻接的层的构成等，利用电晕处理、等离子体处理、火焰处理等对基材表面实施改性处理。在本发明的光学层叠体中，在对第1基材及第2基材进行表面改性处理的情况下，其处理方法彼此可以相同，也可以不同。
[0065]
第1基材及第2基材的厚度只要根据第1基材及第2基材的构成、与该基材邻接的层的构成等适当地确定即可，从涂布、干燥时的膜面品质的观点出发，各自优选为20μm以上，更优选为30μm以上，进一步优选为40μm以上，另外，优选为120μm以下，更优选为100μm以下，进一步优选为80μm以下。在本发明的光学层叠体中，第1基材与第2基材的厚度彼此可以相同，也可以不同。
[0066]
基材的厚度可以利用激光显微镜、膜厚计等测定，以下，构成光学层叠体的偏振膜、相位差膜等各层、膜的厚度的测定也相同。
[0067]
〔剥离力调整层〕
[0068]
本发明的光学层叠体优选在第1基材的偏振膜侧的面及第2基材的相位差膜侧的面的至少一个面具有剥离力调整层。通过设置剥离力调整层，即使是长条状的光学层叠体，也易于在其全长确保所期望的剥离力，易于增进抑制拉链现象、剥离界面的翘起的效果。在本发明的光学层叠体包含剥离力调整层的情况下，剥离力调整层通常与第1基材的偏振膜侧的面或第2基材的相位差膜侧的面邻接地配置。
[0069]
本发明中所谓剥离力调整层，是在第1基材的偏振膜侧的面和/或第2基材的相位差膜侧的面形成的层，是指具有控制从光学层叠体剥离第1基材时的剥离力f1和/或从光学层叠体剥离第2基材时的剥离力f2的功能的层。剥离力调整层可以为单层，也可以为2层以上的多层。若剥离力调整层由包含不同成分的2层以上的层形成，则有易于将剥离力f1或剥离力f2容易地控制在所期望的范围的情况，在长条状的光学层叠体中也能够更加稳定地在其全长确保所期望的剥离力，从这一点考虑能够是有利的。
[0070]
需要说明的是，本发明的光学层叠体中，剥离力f1和/或剥离力f2也可以通过如上所述地对基材表面进行电晕处理、等离子体处理等来控制，然而在本说明书中，“剥离力调整层”是在第1基材的偏振膜侧的面上或第2基材的相位差膜侧的面上独立地形成的层，例如在对第1基材、第2基材和/或与这些基材邻接的层的表面自身利用电晕处理、等离子体处理等进行了表面改性的情况下，此种改性表面不包含于“剥离力调整层”中。
[0071]
剥离力调整层例如可以通过在成为基材的树脂膜的表面涂布剥离力调整层形成用组合物而形成，所述剥离力调整层形成用组合物包含能够调整基材相对于夹隔着该剥离力调整层与该基材邻接的面的密合性的成分。作为剥离力调整层，只要能够确保所期望的剥离力，则可以使用该领域中以往公知的材料等。作为在本发明中能够形成剥离力调整层的剥离力调整层形成用组合物，例如可以举出包含硅烷化合物的溶液；含有二氧化硅粉等的溶液；固化性树脂组合物；包含氟系材料、长链烷基系材料、脂肪酸酰胺系材料等脱模材料的组合物等。其中，从易于容易地形成能够赋予所期望的剥离力的层的观点出发，优选剥
离力调整层包含选自包含硅烷化合物的层及硬涂层中的至少1层。需要说明的是，在本说明书中，所谓硬涂层，是指与邻接的基材相比表面平滑性高、并且能够从该基材剥离的固化树脂层。
[0072]
能够构成剥离力调整层的包含硅烷化合物的层是包含硅烷化合物而形成的层，只要能够在光学层叠体中确保所期望的剥离力f1和/或剥离力f2，则可以由该领域中公知的材料形成。
[0073]
作为硅烷化合物，例如可以举出聚硅烷之类的硅聚合物、硅油及硅树脂之类的硅酮树脂、以及硅酮低聚物、倍半硅氧烷及烷氧基硅烷之类的有机无机硅烷化合物、更具体而言可举出硅烷偶联剂等包含si元素的非离子性的化合物。这些硅烷化合物可以单独使用1种，或者组合使用2种以上。其中，优选硅烷偶联剂。
[0074]
作为硅烷偶联剂，优选为具有选自乙烯基、氨基、脲基、巯基、(甲基)丙烯酰基、异氰酸酯基、咪唑基及环氧基中的至少1种官能团的硅烷化合物，更优选为具有所述至少1种官能团、和至少1个烷氧基甲硅烷基或硅醇基的包含si元素的化合物。乙烯基、氨基、脲基、巯基、(甲基)丙烯酰基、异氰酸酯基、咪唑基及环氧基具有极性，通过恰当地选择这些官能团，可以控制基材与夹隔着剥离力调整层层叠的层的密合性，易于将剥离力f1和/或剥离力f2控制在所期望的范围。从该观点出发，硅烷偶联剂优选为具有烷氧基甲硅烷基和所述至少1种官能团的硅烷偶联剂。需要说明的是，所述官能团也可以为了控制硅烷偶联剂的反应性而恰当地具有取代基或保护基。
[0075]
作为硅烷偶联剂，具体而言，例如可以举出乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、n-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、n-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、3-三乙氧基甲硅烷基-n-(1，3-二甲基-丁叉)丙基胺、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、2-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、3-氯丙基甲基二甲氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷、3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-巯基丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基二甲氧基甲基硅烷、以及3-环氧丙氧基丙基乙氧基二甲基硅烷。
[0076]
另外，作为市售的硅烷偶联剂，例如可以举出kp321、kp323、kp324、kp326、kp340、kp341、x22-161a、kf6001、kbm-1003、kbe-1003、kbm-303、kbm-402、kbm-403、kbe-402、kbe-403、kbm-1403、kbm-502、kbm-503、kbe-502、kbe-503、kbm-5103、kbm-602、kbm-603、kbm-903、kbe-903、kbe-9103、kbm-573、kbm-575、kbm-9659、kbe-585、kbm-802、kbm-803、kbe-846、以及kbe-9007之类的信越化学工业(株)制的硅烷偶联剂。
[0077]
作为剥离力调整层发挥作用的包含硅烷化合物的层例如可以由将硅烷化合物混合溶解在适当的溶剂中的含有硅烷化合物的溶液形成。
[0078]
含有硅烷化合物的溶液中使用的溶剂可以根据所用的硅烷化合物的溶解性等恰当地选择。具体而言，例如可以举出水、甲醇、乙醇、乙二醇、异丙醇、丙二醇、甲基溶纤剂、丁基溶纤剂、丙二醇单甲醚等醇溶剂、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲基醚乙酸酯、γ-丁内酯、丙二醇甲基醚乙酸酯、乳酸乙酯等酯溶剂、丙酮、甲乙酮、环戊酮、环己酮、甲基戊基酮、甲基异丁基酮等酮溶剂、戊烷、己烷、庚烷等脂肪族烃溶剂、甲苯、二甲苯等芳香族烃溶剂、乙腈
等腈溶剂、四氢呋喃、二甲氧基乙烷等醚溶剂、以及氯仿、氯苯等氯代烃溶剂等。这些溶剂可以单独使用或组合使用2种以上。
[0079]
对于含有硅烷化合物的溶液中的硅烷化合物的含量，从易于控制剥离力的观点出发，相对于含有硅烷化合物的溶液的总质量，优选为0.01质量％以上，更优选为0.1质量％以上，进一步优选为0.25质量％以上。硅烷化合物的含量相对于含有硅烷化合物的溶液的总质量优选为30质量％以下，更优选为10质量％以下，进一步优选为5质量％以下。
[0080]
含有硅烷化合物的溶液只要能够对第1基材和/或第2基材赋予所期望的剥离力，则可以包含硅烷化合物及溶剂以外的其他成分，然而在本发明的一个实施方式中，含有硅烷化合物的溶液实质上由硅烷化合物和溶剂构成。
[0081]
作为剥离力调整层发挥作用的包含硅烷化合物的层例如可以通过将含有硅烷化合物的溶液涂布于第1基材或第2基材等的形成剥离力调整层的面后、将溶剂干燥、除去而形成。
[0082]
作为在形成剥离力调整层的面涂布含有硅烷化合物的溶液的方法，例如可以举出旋涂法、挤出法、凹版涂布法、模涂法、棒涂法、涂布器法等涂布法、柔性版法等印刷法等公知的方法。
[0083]
作为除去由含有硅烷化合物的溶液得到的涂膜中含有的溶剂的干燥方法，可以举出自然干燥法、通风干燥法、加热干燥及减压干燥法等。干燥温度及干燥时间等各条件可以根据含有硅烷化合物的溶液的组成、形成剥离力调整层的面(基材)的材料等恰当地确定。
[0084]
作为剥离力调整层发挥作用的包含硅烷化合物的层的厚度通常为10nm～1000nm，优选为10nm～500nm，更优选为30nm～300nm。
[0085]
在本发明的光学层叠体中，作为剥离力调整层形成的硬涂层只要能够在光学层叠体中确保所期望的剥离力f1和/或剥离力f2，则可以由该领域中公知的材料形成，例如可以举出由包含水溶性聚合物的树脂组合物形成的层、由包含活性能量射线固化型或热固化型的树脂成分的树脂组合物形成的固化树脂层。其中，优选由包含活性能量射线固化型的树脂成分的树脂组合物形成的固化树脂层，更优选由包含活性能量射线固化型的树脂成分及交联剂的树脂组合物形成的固化树脂层。
[0086]
本发明中，形成硬涂层的树脂组合物通常包含树脂成分(聚合物)。作为树脂成分，例如可以举出(甲基)丙烯酸系聚合物、氨基甲酸酯系聚合物、聚酯系聚合物、硅酮系聚合物、聚乙烯基醚系聚合物、聚乙烯醇系聚合物等树脂成分(聚合物)。这些树脂成分可以单独使用1种，也可以组合使用2种以上。其中，优选(甲基)丙烯酸系聚合物及氨基甲酸酯系聚合物，更优选包含氨基甲酸酯丙烯酸酯聚合物。
[0087]
作为(甲基)丙烯酸系聚合物，例如可以举出以(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯之类的(甲基)丙烯酸酯的1种或2种以上作为单体的聚合物或共聚物。
[0088]
作为氨基甲酸酯系聚合物，例如可以举出醚系聚氨酯、酯系聚氨酯、碳酸酯系聚氨酯等聚氨酯、将氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸烷基酯共聚而得的丙烯酸类-氨基甲酸酯共聚物等。通过使硬涂层包含氨基甲酸酯系聚合物，弯曲性易于提高，易于获得适合作为柔性显示器材料的光学层叠体。醚系聚氨酯、酯系聚氨酯、碳酸酯系聚氨酯等聚氨酯；将氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸烷基酯共聚而得的丙烯酸类-氨基甲酸酯
695、s-683-im等水性三聚氰胺树脂、商品名beckamine p-198等。此外，作为所述三聚氰胺化合物的市售品，可以举出商品名cymel 303(日本cytec industries(株)制)等，作为此种苯胍胺化合物的市售品，可以举出商品名cymel 1123(日本cytec industries(株)制)。
[0093]
所谓多官能硫醇化合物，是指在1个分子中具有2个以上的硫醇基的化合物。作为多官能硫醇化合物，例如可以举出己二硫醇、癸二硫醇、1，4-二甲基巯基苯、丁二醇双巯基丙酸酯、丁二醇双巯基乙酸酯、乙二醇双巯基乙酸酯、三羟甲基丙烷三巯基乙酸酯、丁二醇双巯基丙酸酯、三羟甲基丙烷三巯基丙酸酯、三羟甲基丙烷三巯基乙酸酯、季戊四醇四巯基丙酸酯、季戊四醇四巯基乙酸酯、三羟基乙基三巯基丙酸酯、季戊四醇四(3-巯基丁酸酯)、1，4-双(3-巯基丁酰氧基)丁烷等。
[0094]
所谓多官能(甲基)丙烯酸酯化合物，是指在1个分子中具有2个以上的(甲基)丙烯酰氧基的化合物。需要说明的是，在本说明书中，所谓“(甲基)丙烯酸酯”是指“丙烯酸酯”或“甲基丙烯酸酯”，“(甲基)丙烯酰基”也同样地是指“丙烯酰基”或“甲基丙烯酰基”。
[0095]
作为多官能(甲基)丙烯酸酯的具体例，可以举出乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、十四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，3-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四羟甲基甲烷四(甲基)丙烯酸酯、1，4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等。
[0096]
在使用多官能(甲基)丙烯酸酯化合物作为交联剂的情况下，其(甲基)丙烯酰基的个数优选为4以上，更优选为6以上，优选为10以下，更优选为8以下。若多官能(甲基)丙烯酸酯化合物的(甲基)丙烯酰基的个数为上述的下限以上，则会提高硬涂层的交联密度，不仅可以作为剥离力调整层发挥作用，而且可以还兼具作为偏振膜、相位差膜的保护层的功能。
[0097]
对于多官能(甲基)丙烯酸酯化合物，可以通过控制该化合物的交联点间分子量及交联点数，来调整硬涂层的交联密度。更具体而言，交联点间分子量越小，则交联密度越是提高，另外交联点数越多，则交联密度越大，可以提高作为偏振膜、相位差膜的保护层的功能，特别是可以提高所得的光学层叠体的耐热性。
[0098]
在本发明的一个实施方式中，从通过控制交联密度而可形成还能够作为偏振膜、相位差膜的保护层发挥作用的硬涂层的观点出发，优选多官能(甲基)丙烯酸酯化合物具有支链结构，且连接该支链结构中的最接近(甲基)丙烯酰基的支化点与该(甲基)丙烯酰基的链(有时称作连接链)的原子数为3以下，更优选为2以下。若该原子数为上述的上限以下，则硬涂层的交联密度变大，可以期待光学层叠体的耐热性增进。此处，在存在多个该连接链的情况下，至少1个连接链满足上述原子数的范围即可，从耐热性增进的观点出发，优选全部的连接链满足上述原子数的范围。
[0099]
形成硬涂层的树脂组合物中的交联剂的含量可以根据所用的交联剂的种类等恰当地确定，然而相对于树脂组合物的固体成分100质量份，优选为50质量份以上，更优选为60质量份以上，进一步优选为70质量份以上，另外，优选为100质量份以下，更优选为95质量份以下，进一步优选为90质量份以下。若交联剂的含量为上述范围内，则易于将剥离力f1和/或剥离力f2控制在所期望的范围。
[0100]
从增进固化性等观点出发，形成硬涂层的树脂组合物可以包含聚合引发剂。聚合
引发剂只要以能够引发树脂组合物中含有的固化性化合物(树脂)的固化的方式从公知的光聚合引发剂、热聚合引发剂中恰当地选择即可，然而从生产率增进的观点出发，优选使用光聚合引发剂。作为光聚合引发剂，例如可以举出苯乙酮、3-甲基苯乙酮、苯偶酰二甲基缩酮、1-(4-异丙基苯基)-2-羟基-2-甲基-1-丙酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉基-1-丙酮及2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮等苯乙酮系引发剂；二苯甲酮、4-氯二苯甲酮及4，4
’‑
二氨基二苯甲酮等二苯甲酮系引发剂；2，2-二甲氧基-1，2-二苯基-1-乙酮、1-羟基环己基苯基酮等烷基苯酮系引发剂；苯偶姻丙醚及苯偶姻乙醚等苯偶姻醚系引发剂；4-异丙基噻吨酮等噻吨酮系引发剂；双(2，4，6-三甲基苯甲酰基)-苯基氧化膦等酰基氧化膦系引发剂；以及氧杂蒽酮、芴酮、樟脑醌、苯甲醛、蒽醌等。它们可以单独使用，也可以组合使用2种以上。
[0101]
关于形成硬涂层的树脂组合物中的聚合引发剂的量，相对于树脂组合物的固体成分100质量份优选为1质量份以上，更优选为2质量份以上，另外，优选为10质量份以下，更优选为8质量份以下。若聚合引发剂的含量为上述范围内，则可以不对光学层叠体的光学性能造成影响地获得充分的固化性。
[0102]
另外，形成硬涂层的树脂组合物根据需要可以包含聚合引发剂以外的其他添加剂，例如紫外线吸收剂、防静电剂、稳定化剂、抗氧化剂、着色剂、表面调整剂等。其他添加剂可以单独使用，另外也可以组合使用2种以上。在包含其他添加剂的情况下，关于其含量，相对于树脂组合物的固体成分的总质量优选为0.1～20质量％左右。
[0103]
为了增进涂布性，可以通过向形成硬涂层的树脂组合物中加入溶剂来进行粘度调整。作为溶剂，只要是能够溶解形成树脂组合物的各种成分的溶剂即可，可以举出与作为含有硅烷化合物的溶液中使用的溶剂例示的例子相同的溶剂。
[0104]
溶剂的种类及含量可以根据树脂组合物中含有的成分的种类、含量、形状、涂布方法、硬涂层的厚度等恰当地选择，例如，关于溶剂的含量，相对于树脂组合物的固体成分100质量份优选为3质量份以上，更优选为5质量份以上，进一步优选为7质量份以上，另外，优选为1000质量份以下，更优选为100质量份以下，进一步优选为50质量份以下。
[0105]
作为剥离力调整层发挥作用的硬涂层例如可以通过向基材或其他的剥离力调整层等的形成硬涂层的面上涂布树脂组合物、并使该树脂组合物固化而得到。作为树脂组合物的涂布方法，可以采用与将含有硅烷化合物的溶液向基材上等涂布的方法同样的方法。
[0106]
树脂组合物的固化方法只要根据该树脂组合物的组成恰当地确定即可。例如，在树脂组合物为活性能量射线固化型组合物的情况下，通过照射活性能量射线，可以使该组合物中含有的固化性成分固化而得到硬涂层。作为活性能量射线，例如可以举出可见光、紫外光、红外光、x射线、α射线、β射线及γ射线等。其中，从易于控制反应的推进的方面、能够使用该领域中广泛地使用的光聚合装置的方面考虑，优选紫外光。
[0107]
作为所述活性能量射线的光源，例如可以举出低压水银灯、中压水银灯、高压水银灯、超高压水银灯、氙灯、卤素灯、碳弧灯、钨灯、镓灯、准分子激光器、发出波长范围380～440nm的光的led光源、化学灯、黑光灯、微波激发水银灯、金属卤化物灯等。
[0108]
紫外线照射强度通常为10～3000mw/cm2。紫外线照射强度优选为对于聚合引发剂的活化有效的波长区域中的强度。照射光的时间通常为0.1秒～10分钟，优选为1秒～5分钟，更优选为5秒～3分钟，进一步优选为10秒～1分钟。若以此种紫外线照射强度照射1次或
多次，则其累计光量为10～3000mj/cm2，优选为50～2000mj/cm2，更优选为100～1000mj/cm2。
[0109]
作为剥离力调整层发挥作用的硬涂层的厚度通常为0.1～10μm，优选为0.2μm以上，更优选为0.3μm以上，另外，优选为5μm以下，更优选为3μm以下。
[0110]
剥离力调整层的构成只要根据第1基材或第2基材的种类、以及与夹隔着该剥离力调整层邻接于这些基材的层的关系等恰当地确定即可。例如，使用由聚对苯二甲酸乙二醇酯形成的树脂膜作为形成基材的树脂膜，作为与之邻接的剥离力调整层形成由丙烯酸系硅烷偶联剂形成的剥离力调整层，由此与不形成剥离力调整层的情况相比可以提高密合性。对于第1基材及第2基材，分别在同(夹隔着该剥离力调整层)与基材层叠的层的构成/种类的关系中恰当地选择组合形成基材的树脂膜的种类和与之邻接的剥离力调整层的种类或有无，由此易于实现满足上述式(1)～(3)的剥离力f1及f2，可以增进抑制剥离基材时的拉链现象、剥离界面的翘起的产生的效果。
[0111]
在本发明的一个实施方式中，优选配置于第1基材侧或第2基材侧的剥离力调整层的至少一方由包含硅烷化合物的层或硬涂层形成，更优选配置于第1基材侧及第2基材侧的剥离力调整层均由包含硅烷化合物的层或硬涂层形成，进一步优选配置于第1基材侧或第2基材侧的剥离力调整层的至少一方由包含硅烷化合物的层和硬涂层形成。另外，在剥离力调整层包括包含硅烷化合物的层和硬涂层而形成的情况下，作为第1基材与偏振膜、或第2基材与相位差膜之间的构成，优选在基材侧配置包含硅烷化合物的层，在偏振膜或相位差膜侧配置硬涂层，更优选包含硅烷化合物的层与硬涂层邻接。若剥离力调整层为所述构成，则在具有对转印时的拉链现象、剥离界面的翘起的产生的高抑制效果的同时，对于偏振膜、相位差膜的保护功能也优异，可以期待光学层叠体的高光学特性。
[0112]
本发明中，在第1基材及第2基材分别夹隔着剥离力调整层构成光学层叠体的情况下，优选配置于第1基材侧的剥离力调整层与配置于第2基材侧的剥离力调整层为彼此不同的构成。
[0113]
所谓彼此不同的构成的剥离力调整层，是指在剥离力调整层的组成、剥离力调整层的厚度、在剥离力调整层由2层以上形成的情况下各层的组合、各层的层叠顺序等方面不同。特别是在第1基材和第2基材包含相同的树脂材料的情况下，若配置于第1基材侧的剥离力调整层与配置于第2基材侧的剥离力调整层为彼此不同的构成，则易于在剥离力f1与剥离力f2中产生足够的差，可以抑制转印时的拉链现象、剥离界面的翘起的产生，从光学层叠体将第1基材及第2基材依照所期望的顺序容易地剥离。另外，根据需要，可以对剥离力调整层的形成取向膜等的一侧的面进一步实施电晕处理等表面处理。
[0114]
剥离力调整层的厚度(在由多层形成的情况下是全部层的合计厚度)可以根据剥离力调整层的层构成恰当地确定，然而优选为0.1μm以上，更优选为0.2μm以上，进一步优选为0.3μm以上，另外，优选为10μm以下，更优选为5μm以下，进一步优选为3μm以下。
[0115]
〔偏振膜〕
[0116]
本发明中，偏振膜为具有偏振功能的膜(层)，包含作为具有吸收各向异性的色素的二色性色素。从有利于光学层叠体的薄型化、并且能够确保适于柔性显示器材料的耐弯曲性的观点出发，本发明的光学层叠体中偏振膜为涂覆层，优选为由包含至少1种液晶化合物、优选包含聚合性液晶化合物和二色性色素的聚合性液晶组合物(以下也称作“偏振膜形
成用组合物”)形成的固化膜。
[0117]
本发明的形成偏振膜(偏振片)的偏振膜形成用组合物中含有的聚合性液晶化合物(以下也称作“聚合性液晶化合物(a)”)是具有至少1个聚合性基团的化合物。此处，所谓聚合性基团，是指能够利用从聚合引发剂中产生的活性自由基、酸等来参与聚合反应的基团。作为聚合性液晶化合物(a)所具有的聚合性基团，例如可以举出乙烯基、乙烯氧基、1-氯乙烯基、异丙烯基、4-乙烯基苯基、(甲基)丙烯酰基、环氧乙基、氧杂环丁烷基等。其中，优选自由基聚合性基团，更优选(甲基)丙烯酰基、乙烯基、乙烯氧基，进一步优选(甲基)丙烯酰基。若形成偏振膜的聚合性液晶化合物具有与形成后述的用于形成偏振膜的取向膜的化合物所具有的官能团相同的官能团(聚合性基团)、例如(甲基)丙烯酰基，则取向膜与偏振膜间的相容性高，可以体现出层间的优异的密合性。
[0118]
本发明中，聚合性液晶化合物(a)优选为显示近晶液晶性的化合物。通过使用显示近晶液晶性的聚合性液晶化合物，可以形成取向有序度高的偏振膜。从能够实现更高的取向有序度的观点出发，聚合性液晶化合物(a)显示的液晶状态更优选为高阶近晶相(高阶近晶液晶状态)。此处，所谓高阶近晶相，是指近晶b相、近晶d相、近晶e相、近晶f相、近晶g相、近晶h相、近晶i相、近晶j相、近晶k相及近晶l相，它们当中，更优选近晶b相、近晶f相及近晶i相。液晶性可以是热致性液晶，也可以是溶致性液晶，然而从能够实现致密的膜厚控制的方面考虑，优选热致性液晶。另外，聚合性液晶化合物(a)可以是单体，但也可以是聚合性基团进行了聚合的低聚物，也可以是聚合物。
[0119]
作为聚合性液晶化合物(a)，只要是具有至少1个聚合性基团的液晶化合物，就没有特别限定，可以使用公知的聚合性液晶化合物，优选显示近晶液晶性的化合物。作为此种聚合性液晶化合物，例如可以举出下述式(a1)所示的化合物(以下有时称作“聚合性液晶化合物(a1)”)。
[0120]
u1-v1-w1-(x1-y1)n-x2-w2-v2-y1
ꢀꢀꢀ
(a1)
[0121]
[式(a1)中，
[0122]
x1及x2相互独立地表示2价的芳香族基团或2价的脂环式烃基，此处，该2价的芳香族基团或2价的脂环式烃基中含有的氢原子可以由卤素原子、碳原子数1～4的烷基、碳原子数1～4的氟烷基、碳原子数1～4的烷氧基、氰基或硝基取代，形成该2价的芳香族基团或2价的脂环式烃基的碳原子可以由氧原子或硫原子或氮原子置换。其中，x1及x2中的至少1个是可以具有取代基的1，4-亚苯基或可以具有取代基的环己烷-1，4-二基。
[0123]
y1为单键或二价的连接基团。
[0124]
n为1～3，在n为2以上的情况下，多个x1彼此可以相同，也可以不同。x2可以与多个x1中的任意者或全部相同，也可以不同。另外，在n为2以上的情况下，多个y1彼此可以相同，也可以不同。从液晶性的观点出发，n优选为2以上。
[0125]
u1表示氢原子或聚合性基团。
[0126]
u2表示聚合性基团。
[0127]
w1及w2相互独立地为单键或二价的连接基团。
[0128]
v1及v2相互独立地表示可以具有取代基的碳原子数1～20的烷二基，形成该烷二基的-ch
2-可以置换为-o-、-co-、-s-或nh-。]
[0129]
在聚合性液晶化合物(a1)中，x1及x2相互独立地优选为可以具有取代基的1，4-亚
苯基、或可以具有取代基的环己烷-1，4-二基，x1及x2中的至少1个是可以具有取代基的1，4-亚苯基、或可以具有取代基的环己烷-1，4-二基，优选为反式-环己烷-1，4-二基。作为可以具有取代基的1，4-亚苯基、或可以具有取代基的环己烷-1，4-二基任选具有的取代基，可以举出甲基、乙基及丁基等碳原子数1～4的烷基、氰基及氯原子、氟原子等卤素原子。优选为未取代。
[0130]
另外，对于聚合性液晶化合物(a1)，从易于体现近晶液晶性的方面考虑，优选在式(a1)中，式(a1-1)所示的部分〔以下也称作部分结构(a1-1)〕为非对称结构：
[0131]-(x1-y1)n-x2
‑ꢀꢀꢀ
(a1-1)
[0132]
〔式中，x1、y1、x2及n各自表示与上文相同的含义。〕
[0133]
作为部分结构(a1-1)为非对称结构的聚合性液晶化合物(a1)，例如可以举出n为1、1个x1与x2为彼此不同的结构的聚合性液晶化合物(a1)。另外，还可以举出n为2、2个y1为彼此相同的结构、2个x1为彼此相同的结构、1个x2为与这2个x1不同的结构的聚合性液晶化合物(a1)；2个x1中的与w1键合的x1为与另一方的x1及x2不同的结构、另一方的x1与x2为彼此相同的结构的聚合性液晶化合物(a1)。此外，可以举出n为3、3个y1为彼此相同的结构、3个x1及1个x2中的任意1个为与其他的全部3个不同的结构的聚合性液晶化合物(a1)。
[0134]
y1优选为-ch2ch
2-、-ch2o-、-ch2ch2o-、-coo-、-ocoo-、单键、-n＝n-、-cra＝crb-、-c≡c-、-cra＝n-或-co-nra-。ra及rb相互独立地表示氢原子或碳原子数1～4的烷基。y1更优选为-ch2ch
2-、-coo-或单键，在存在多个y1的情况下，与x2键合的y1更优选为-ch2ch
2-或ch2o-。在x1及x2全都为相同结构的情况下，优选存在属于彼此不同的键合方式的2个以上的y1。在存在属于彼此不同的键合方式的多个y1的情况下，形成非对称结构，因此有易于体现近晶液晶性的趋势。
[0135]
u2为聚合性基团。u1为氢原子或聚合性基团，优选为聚合性基团。u1及u2优选均为聚合性基团，优选均为自由基聚合性基团。作为聚合性基团，可以举出与作为聚合性液晶化合物(a)所具有的聚合性基团在先前例示的基团同样的基团。u1所示的聚合性基团与u2所示的聚合性基团可以彼此不同，然而优选为相同种类的基团，优选u1及u2的至少一方为(甲基)丙烯酰基，更优选双方为(甲基)丙烯酰基。另外，聚合性基团可以为聚合了的状态，也可以为未聚合的状态，然而优选为未聚合的状态。
[0136]
作为v1及v2所示的烷二基，可以举出亚甲基、亚乙基、丙烷-1，3-二基、丁烷-1，3-二基、丁烷-1，4-二基、戊烷-1，5-二基、己烷-1，6-二基、庚烷-1，7-二基、辛烷-1，8-二基、癸烷-1，10-二基、十四烷-1，14-二基及二十烷-1，20-二基等。v1及v2优选为碳原子数2～12的烷二基，更优选为碳原子数6～12的烷二基。
[0137]
作为该烷二基任选具有的取代基，可以举出氰基及卤素原子等，然而该烷二基优选为未取代，更优选为未取代的直链状烷二基。
[0138]
w1及w2相互独立地优选为单键、-o-、-s-、-coo-或-ocoo-，更优选为单键或-o-。
[0139]
作为聚合性液晶化合物(a)，只要是具有至少1个聚合性基团的聚合性液晶化合物，就没有特别限定，可以使用公知的聚合性液晶化合物，优选显示近晶液晶性，作为易于显示近晶液晶性的结构，优选在分子结构中具有非对称性的分子结构，具体而言，更优选为具有下述(a-a)～(a-i)的部分结构、且显示近晶液晶性的聚合性液晶化合物。从易于显示高阶近晶液晶性的观点出发，更优选具有(a-a)、(a-b)或(a-c)的部分结构。需要说明的是，
在下述(a-a)～(a-i)中，*表示键合端(单键)。
[0140]
[化1]
[0141][0142]
作为聚合性液晶化合物(a)，具体而言，例如可以举出式(a-1)～式(a-25)所示的化合物。在聚合性液晶化合物(a)具有环己烷-1，4-二基的情况下，该环己烷-1，4-二基优选为反式体。
[0143]
[化2]
[0144][0145]
[化3]
[0146][0147]
[化4]
[0148][0149]
它们当中，优选选自式(a-2)、式(a-3)、式(a-4)、式(a-5)、式(a-6)、式(a-7)、式(a-8)、式(a-13)、式(a-14)、式(a-15)、式(a-16)及式(a-17)所示的化合物中的至少1种。作为聚合性液晶化合物(a)，可以单独使用1种，也可以组合使用2种以上。
[0150]
聚合性液晶化合物(a)例如可以利用lub等、recl.trav.chim.pays-bas、115、321-328(1996)、或日本专利第4719156号等中记载的公知的方法来制造。
[0151]
本发明中，偏振膜形成用组合物可以包含聚合性液晶化合物(a)以外的其他聚合性液晶化合物，然而从获得取向有序度高的偏振膜的观点出发，聚合性液晶化合物(a)相对于偏振膜形成用组合物中含有的全部聚合性液晶化合物的总质量的比例优选为51质量％以上，更优选为70质量％以上，进一步优选为90质量％以上。
[0152]
在偏振膜形成用组合物包含2种以上的聚合性液晶化合物(a)的情况下，可以其中的至少1种为聚合性液晶化合物(a1)，也可以其全部为聚合性液晶化合物(a1)。通过组合多种聚合性液晶化合物，即使在液晶-晶体相变温度以下的温度也能够暂时地保持液晶性。
[0153]
关于偏振膜形成用组合物中的聚合性液晶化合物的含量，相对于偏振膜形成用组合物的固体成分优选为40～99.9质量％，更优选为60～99质量％，进一步优选为70～99质量％。若聚合性液晶化合物的含量为上述范围内，则有聚合性液晶化合物的取向性变高的趋势。
[0154]
本发明中，形成偏振膜的偏振膜形成用组合物包含二色性色素。此处，所谓二色性色素，是指具有分子的长轴方向上的吸光度与短轴方向上的吸光度不同的性质的色素。本发明中能够使用的二色性色素只要是具有上述性质的二色性色素，就没有特别限制，可以是染料，也可以是颜料。另外，可以分别组合使用2种以上的染料或颜料，也可以组合使用染料和颜料。另外，二色性色素可以具有聚合性，也可以具有液晶性。
[0155]
作为二色性色素，优选在300～700nm的范围具有极大吸收波长(λmax)的二色性色素。作为此种二色性色素，例如可以举出吖啶色素、噁嗪色素、花青色素、萘色素、偶氮色素及蒽醌色素等。
[0156]
作为偶氮色素，可以举出单偶氮色素、双偶氮色素、三偶氮色素、四偶氮色素及均二苯代乙烯偶氮色素等，优选双偶氮色素及三偶氮色素，例如可以举出式(i)所示的化合物
(以下也称作“化合物(i)”)。
[0157]
k1(-n＝n-k2)p-n＝n-k3
ꢀꢀꢀ(i)[0158]
[式(i)中，k1及k3相互独立地表示可以具有取代基的苯基、可以具有取代基的萘基、可以具有取代基的苯甲酸苯酯基或可以具有取代基的1价的杂环基。k2表示可以具有取代基的对亚苯基、可以具有取代基的萘-1，4-二基、可以具有取代基的4，4
’‑
亚均二苯代乙烯基(日文：
スチルベ
二
レン
基)或可以具有取代基的2价的杂环基。p表示0～4的整数。在p为2以上的整数的情况下，多个k2彼此可以相同，也可以不同。可以在可见区域中显示吸收的范围中将-n＝n-键置换为-c＝c-、-coo-、-nhco-、-n＝ch-键。]
[0159]
作为1价的杂环基，例如可以举出从喹啉、噻唑、苯并噻唑、噻吩并噻唑、咪唑、苯并咪唑、噁唑、苯并噁唑等杂环化合物中去掉1个氢原子后的基团。作为2价的杂环基，可以举出从所述杂环化合物中去掉2个氢原子后的基团。
[0160]
作为k1及k3中的苯基、萘基、苯甲酸苯酯基及1价的杂环基、以及k2中的对亚苯基、萘-1，4-二基、4，4
’‑
亚均二苯代乙烯基及2价的杂环基任选具有的取代基，可以举出碳原子数1～20的烷基、具有聚合性基团的碳原子数1～20的烷基、碳原子数1～4的烯基；甲氧基、乙氧基、丁氧基等碳原子数1～20的烷氧基；具有聚合性基团的碳原子数1～20的烷氧基；三氟甲基等碳原子数1～4的氟代烷基；氰基；硝基；卤素原子；氨基、二乙基氨基、吡咯烷基等取代或未取代氨基(所谓取代氨基，是指具有1个或2个碳原子数1～6的烷基的氨基、具有1个或2个具有聚合性基团的碳原子数1～6的烷基的氨基、或2个取代烷基相互键合而形成了碳原子数2～8的烷二基的氨基。未取代氨基为-nh2。)等。需要说明的是，作为所述聚合性基团，可以举出(甲基)丙烯酰基、(甲基)丙烯酰氧基等。
[0161]
在化合物(i)中，也优选以下的式(i-1)～式(i-8)的任意者所示的化合物。
[0162]
[化5]
[0163][0164]
[式(i-1)～(i-8)中，
[0165]
b1～b
30
相互独立地表示氢原子、碳原子数1～6的烷基、碳原子数1～6的烯基、碳原子数1～4的烷氧基、氰基、硝基、取代或未取代的氨基(取代氨基及未取代氨基的定义如前所述)、氯原子或三氟甲基。
[0166]
n1～n4相互独立地表示0～3的整数。
[0167]
在n1为2以上的情况下，多个b2彼此可以相同，也可以不同，
[0168]
在n2为2以上的情况下，多个b6彼此可以相同，也可以不同，
[0169]
在n3为2以上的情况下，多个b9彼此可以相同，也可以不同，
[0170]
在n4为2以上的情况下，多个b
14
彼此可以相同，也可以不同。]
[0171]
作为所述蒽醌色素，优选式(i-9)所示的化合物。
[0172]
[化6]
[0173][0174]
[式(i-9)中，
[0175]
r1～r8相互独立地表示氢原子、-rx、-nh2、-nhrx、-nrx2、-srx或卤素原子。
[0176]
rx表示碳原子数1～4的烷基或碳原子数6～12的芳基。]
[0177]
作为所述噁嗪酮(oxazone)色素，优选式(i-10)所示的化合物。
[0178]
[化7]
[0179][0180]
[式(i-8)中，
[0181]
r9～r
15
相互独立地表示氢原子、-rx、-nh2、-nhrx、-nrx2、-srx或卤素原子。
[0182]
rx表示碳原子数1～4的烷基或碳原子数6～12的芳基。]
[0183]
作为所述吖啶色素，优选式(i-11)所示的化合物。
[0184]
[化8]
[0185][0186]
[式(i-11)中，
[0187]r16
～r
23
相互独立地表示氢原子、-rx、-nh2、-nhrx、-nrx2、-srx或卤素原子。
[0188]
rx表示碳原子数1～4的烷基或碳原子数6～12的芳基。]
[0189]
在式(i-9)、式(i-10)及式(i-11)中，作为rx的碳原子数1～6的烷基，可以举出甲基、乙基、丙基、丁基、戊基及己基等，作为碳原子数6～12的芳基，可以举出苯基、甲苯基、二甲苯基及萘基等。
[0190]
作为所述花青色素，优选式(i-12)所示的化合物及式(i-13)所示的化合物。
[0191]
[化9]
[0192][0193]
[式(i-12)中，
[0194]
d1及d2相互独立地表示式(i-12a)～式(i-12d)的任意者所示的基团。
[0195]
[化10]
[0196][0197]
n5表示1～3的整数。]
[0198]
[化11]
[0199][0200]
[式(i-13)中，
[0201]
d3及d4相互独立地表示式(i-13a)～式(1-13h)的任意者所示的基团。
[0202]
[化12]
[0203][0204]
n6表示1～3的整数。]
[0205]
这些二色性色素当中，偶氮色素由于直线性高，因此适于制作偏振性能优异的偏振膜。因而，在本发明的一个实施方式中，形成偏振膜的偏振膜形成用组合物中含有的二色性色素优选为偶氮色素。
[0206]
本发明中，二色性色素的重均分子量通常为300～2000，优选为400～1000。
[0207]
在本发明的一个实施方式中，形成偏振膜的偏振膜形成用组合物中含有的二色性色素优选为疏水性。若二色性色素为疏水性，则二色性色素与聚合性液晶化合物的相容性增进，二色性色素和聚合性液晶化合物形成均匀的相状态，可以获得具有高取向有序度的
偏振膜。需要说明的是，本发明中，所谓疏水性的二色性色素，是指相对于25℃、100g的水的溶解度为1g以下的色素。
[0208]
偏振膜形成用组合物中的二色性色素的含量可以根据所用的二色性色素的种类等恰当地确定，相对于聚合性液晶化合物100质量份，优选为0.1～50质量份，更优选为0.1～20质量份，进一步优选为0.1～12质量份。若二色性色素的含量为上述范围内，则不易扰乱聚合性液晶化合物的取向，可以获得具有高取向有序度的偏振膜。
[0209]
本发明中，用于形成偏振膜的偏振膜形成用组合物可以含有聚合引发剂。聚合引发剂是能够引发聚合性液晶化合物的聚合反应的化合物，从能够在更低温度条件下引发聚合反应的方面考虑优选光聚合引发剂。具体而言，可以举出能够通过光的作用而产生活性自由基或酸的光聚合引发剂，其中，优选通过光的作用而产生自由基的光聚合引发剂。聚合引发剂可以单独使用或组合使用两种以上。
[0210]
作为光聚合引发剂，可以使用公知的光聚合引发剂，例如，作为产生活性自由基的光聚合引发剂，有自裂解型的光聚合引发剂、夺氢型的光聚合引发剂。
[0211]
作为自裂解型的光聚合引发剂，可以使用自裂解型的苯偶姻系化合物、苯乙酮系化合物、羟基苯乙酮系化合物、α-氨基苯乙酮系化合物、肟酯系化合物、酰基氧化膦系化合物、偶氮系化合物等。另外，作为夺氢型光聚合引发剂，可以使用夺氢型的二苯甲酮系化合物、苯偶姻醚系化合物、苯偶酰缩酮系化合物、二苯并环庚酮系化合物、蒽醌系化合物、氧杂蒽酮系化合物、噻吨酮系化合物、卤代苯乙酮系化合物、二烷氧基苯乙酮系化合物、卤代双咪唑系化合物、卤代三嗪系化合物、三嗪系化合物等。
[0212]
作为产生酸的光聚合引发剂，可以使用碘鎓盐及锍盐等。
[0213]
其中，从防止色素的溶解的观点出发，优选低温下的反应，从低温下的反应效率的观点出发，优选自裂解型的光聚合引发剂，特别优选苯乙酮系化合物、羟基苯乙酮系化合物、α-氨基苯乙酮系化合物、肟酯系化合物。
[0214]
作为光聚合引发剂，具体而言，例如可以举出以下的光聚合引发剂。
[0215]
苯偶姻、苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻异丙基醚及苯偶姻异丁基醚等苯偶姻系化合物；
[0216]
2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮、1，2-二苯基-2，2-二甲氧基-1-乙酮、2-羟基-2-甲基-1-〔4-(2-羟基乙氧基)苯基〕-1-丙酮、1-羟基环己基苯基酮及2-羟基-2-甲基-1-〔4-(1-甲基乙烯基)苯基〕-1-丙酮的低聚物等羟基苯乙酮系化合物；
[0217]
2-甲基-2-吗啉基-1-(4-甲硫基苯基)-1-丙酮、2-二甲基氨基-2-苄基-1-(4-吗啉基苯基)-1-丁酮等α-氨基苯乙酮系化合物；
[0218]
1-[4-(苯硫基)]1，2-辛二酮2-(o-苯甲酰肟)、1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9h-咔唑-3-基]乙酮1-(o-乙酰肟)等肟酯系化合物；2，4，6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦及双(2，4，6-三甲基苯甲酰基)苯基氧化膦等酰基氧化膦系化合物；
[0219]
二苯甲酮、邻苯甲酰基苯甲酸甲酯、4-苯基二苯甲酮、4-苯甲酰基-4
’‑
甲基二苯硫醚、3，3’，4，4
’‑
四(叔丁基过氧化羰基)二苯甲酮及2，4，6-三甲基二苯甲酮等二苯甲酮化合物；
[0220]
二乙氧基苯乙酮等二烷氧基苯乙酮系化合物；
[0221]
2，4-双(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯基)-1，3，5-三嗪、2，4-双(三氯甲基)-6-(4-甲
氧基萘基)-1，3，5-三嗪、2，4-双(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯乙烯基)-1，3，5-三嗪、2，4-双(三氯甲基)-6-〔2-(5-甲基呋喃-2-基)乙烯基〕-1，3，5-三嗪、2，4-双(三氯甲基)-6-〔2-(呋喃-2-基)乙烯基〕-1，3，5-三嗪、2，4-双(三氯甲基)-6-〔2-(4-二乙基氨基-2-甲基苯基)乙烯基〕-1，3，5-三嗪及2，4-双(三氯甲基)-6-〔2-(3，4-二甲氧基苯基)乙烯基〕-1，3，5-三嗪等三嗪系化合物。光聚合引发剂例如只要从上述的光聚合引发剂中在与偏振膜形成用组合物中含有的聚合性液晶化合物的关系中恰当地选择即可。
[0222]
另外，也可以使用市售的光聚合引发剂。作为市售的聚合引发剂，可以举出irgacure(注册商标)907、184、651、819、250、以及369、379、127、754、oxe01、oxe02、oxe03(basf公司制)；omnirad bcim、esacure 1001m、esacure kip160(idm resins b.v.公司制)；seikuol(注册商标)bz、z、以及bee(精工化学株式会社制)；kayacure(注册商标)bp100、以及uvi-6992(dow chemical株式会社制)；adeka optomer sp-152、n-1717、n-1919、sp-170、adeka arkls nci-831、adeka arkls nci-930(株式会社adeka制)；taz-a、以及taz-pp(日本siber hegner株式会社制)；以及taz-104(株式会社三和化学制)；等。
[0223]
关于用于形成偏振膜的偏振膜形成用组合物中的聚合引发剂的含量，相对于聚合性液晶化合物100质量份优选为1～10质量份，更优选为1～8质量份，进一步优选为2～8质量份，特别优选为4～8质量份。若聚合引发剂的含量为上述的范围内，则可以不大幅度扰乱聚合性液晶化合物的取向地进行聚合性液晶化合物的聚合反应。
[0224]
另外，对于本发明中聚合性液晶化合物的聚合率，从制造时的生产线污染、处置的观点出发，优选为60％以上，更优选为65％以上，进一步优选为70％以上。
[0225]
偏振膜形成用组合物可以还含有光敏剂。通过使用光敏剂，可以进一步促进聚合性液晶化合物的聚合反应。作为光敏剂，可以举出氧杂蒽酮、噻吨酮等氧杂蒽酮化合物(例如2，4-二乙基噻吨酮、2-异丙基噻吨酮等)；蒽、含有烷氧基的蒽(例如二丁氧基蒽等)等蒽化合物；吩噻嗪及红荧烯等。光敏剂可以单独使用或组合使用2种以上。
[0226]
在偏振膜形成用组合物包含光敏剂的情况下，其含量只要根据聚合引发剂及聚合性液晶化合物的种类及其量恰当地确定即可，相对于聚合性液晶化合物100质量份，优选为0.1～30质量份，更优选为0.5～10质量份，进一步优选为0.5～8质量份。
[0227]
另外，偏振膜形成用组合物可以包含流平剂。流平剂具有调整偏振膜形成用组合物的流动性、使通过涂布该偏振膜形成用组合物而得的涂膜更加平坦的功能，具体而言，可以举出表面活性剂。作为流平剂，优选选自以聚丙烯酸酯化合物为主成分的流平剂及以含有氟原子的化合物为主成分的流平剂中的至少1种。流平剂可以单独使用或组合使用2种以上。
[0228]
作为以聚丙烯酸酯化合物为主成分的流平剂，例如可以举出“byk-350”、“byk-352”、“byk-353”、“byk-354”、“byk-355”、“byk-358n”、“byk-361n”、“byk-380”、“byk-381”及“byk-392”(byk chemie公司)。
[0229]
作为以含有氟原子的化合物为主成分的流平剂，例如可以举出“megafac(注册商标)r-08”、“megafac r-30”、“megafac r-90”、“megafac f-410”、“megafac f-411”、“megafac f-443”、“megafac f-445”、“megafac f-470”、“megafac f-471”、“megafac f-477”、“megafac f-479”、“megafac f-482”及“megafac f-483”(dic(株))；“surflon(注册商标)s-381”、“surflon s-382”、“surflon s-383”、“surflon s-393”、“surflon sc-101”、“surflon sc-105”、“kh-40”及“sa-100”(agc seimi chemical(株))；“e1830”、“e5844”(株)daikin fine chemical研究所)；“eftop ef301”、“eftop ef303”、“eftop ef351”及“eftop ef352”(三菱材料电子化成(株))。
[0230]
在偏振膜形成用组合物含有流平剂的情况下，关于其含量，相对于聚合性液晶化合物100质量份优选为0.05～5质量份，更优选为0.05～3质量份。若流平剂的含量为上述的范围内，则易于使聚合性液晶化合物取向，并且不易产生不均，有获得更加平滑的偏振膜的趋势。
[0231]
偏振膜形成用组合物可以含有光敏剂及流平剂以外的其他添加剂。作为其他添加剂，例如可以举出抗氧化剂、脱模剂、稳定剂、上蓝剂等着色剂、阻燃剂及润滑剂等。在偏振膜形成用组合物含有其他添加剂的情况下，关于其他添加剂的含量，相对于偏振膜形成用组合物的固体成分优选大于0％且为20质量％以下，更优选大于0％且为10质量％以下。
[0232]
偏振膜形成用组合物可以利用以往公知的偏振膜形成用组合物的制备方法来制造，通常可以通过将聚合性液晶化合物及二色性色素、以及根据需要使用的聚合引发剂及上述添加剂等混合、搅拌来制备。另外，一般而言，由于显示近晶液晶性的化合物的粘度高，因此从增进偏振膜形成用组合物的涂布性而使偏振膜的形成容易的观点出发，可以通过向偏振膜形成用组合物中加入溶剂来进行粘度调整。
[0233]
偏振膜形成用组合物中使用的溶剂可以根据所用的聚合性液晶化合物及二色性色素的溶解性等恰当地选择。具体而言，可以举出与作为含有硅烷化合物的溶液中能够使用的溶剂在先前例示的例子相同的溶剂。作为溶剂，可以仅单独使用1种，也可以组合使用2种以上。关于溶剂的含量，相对于偏振膜形成用组合物的固体成分100质量份优选为100～1900质量份，更优选为150～900质量份，进一步优选为180～600质量份。
[0234]
本发明中，偏振膜优选为取向有序度高的偏振片。取向有序度高的偏振片可以在x射线衍射测定中得到六角相、结晶相之类的高阶结构来源的布拉格峰。所谓布拉格峰，是指来自于分子取向的面周期结构的峰。因而，形成本发明的光学层叠体的偏振膜优选在x射线衍射测定中显示出布拉格峰。即，在形成本发明的光学层叠体的偏振膜中，优选使聚合性液晶化合物或其聚合物取向，使得该偏振膜在x射线衍射测定中显示出布拉格峰，更优选进行使聚合性液晶化合物的分子沿吸收光的方向取向的“水平取向”。本发明中优选分子取向的面周期间隔为3.0～6.0口的偏振片。显示布拉格峰的高取向有序度可以通过控制所用的聚合性液晶化合物的种类、二色性色素的种类、其量、以及聚合引发剂的种类、其量等来实现。
[0235]
本发明中偏振膜例如可以利用包括如下操作的方法来得到，即，在后述的取向膜上形成偏振膜形成用组合物的涂膜；从该涂膜中除去溶剂；在升温到聚合性液晶化合物相变为液体相的温度以上后进行降温、使该聚合性液晶化合物相变为液晶相(近晶相)；以及在保持所述液晶相不变的同时使聚合性液晶化合物聚合。
[0236]
作为将偏振膜形成用组合物涂布于取向膜的方法，可以举出与将含有硅烷化合物的溶液涂布于基材上的方法同样的方法。
[0237]
然后，在由偏振膜形成用组合物得到的涂膜中含有的聚合性液晶化合物不发生聚合的条件下，利用干燥等除去溶剂，由此形成干燥涂膜。作为干燥方法，可以举出自然干燥法、通风干燥法、加热干燥及减压干燥法等。
[0238]
此外，为了使聚合性液晶化合物相变为液体相，升温到聚合性液晶化合物相变为
液体相的温度以上后进行降温，使该聚合性液晶化合物相变为液晶相(近晶相)。该相变可以在除去所述涂膜中的溶剂后进行，也可以与溶剂的除去同时地进行。
[0239]
通过在保持聚合性液晶化合物的液晶状态不变的同时，使聚合性液晶化合物聚合，能够以偏振膜形成用组合物的固化物的形式形成偏振膜。作为聚合方法优选光聚合法。在光聚合中，作为向干燥涂膜照射的光，可以根据该干燥涂膜中含有的聚合性液晶化合物的种类(特别是该聚合性液晶化合物所具有的聚合性基团的种类)、聚合引发剂的种类及它们的量等恰当地选择。作为其具体例及照射条件等，可以举出与硬涂层的形成中例示的内容同样的内容。优选以能够利用紫外光进行光聚合的方式，选择偏振膜形成用组合物中含有的聚合性液晶化合物、聚合引发剂的种类。另外，也可以通过在聚合时一边利用合适的冷却机构将干燥涂膜冷却一边进行光照射，来控制聚合温度。也可以通过在光聚合时进行遮蔽、显影等，来获得经过图案处理的偏振膜。
[0240]
通过进行光聚合，聚合性液晶化合物在保持液晶相、特别是近晶相、优选为高阶近晶相的液晶状态不变的同时进行聚合，形成偏振膜。聚合性液晶化合物在保持近晶相的液晶状态不变的同时进行聚合而得的偏振膜还伴随有所述二色性色素的作用，与以往的主宾型偏振膜、即由向列相的液晶状态形成的偏振膜相比，具有偏振性能高的优点。此外，与仅涂布有二色性色素、溶致液晶的偏振膜相比，还有强度优异的优点。
[0241]
偏振膜的厚度可以根据所应用的显示装置恰当地选择，优选为0.1～5μm，更优选为0.3～4μm，进一步优选为0.5～3μm。若偏振膜的膜厚为上述的下限值以上，则易于防止无法获得必需的光吸收的情况，若为上述的上限值以下，则易于抑制取向膜的取向限制力的降低所致的取向缺陷的产生。
[0242]
本发明中，优选在夹隔着或不夹隔剥离力调整层地层叠于第1基材的取向膜上邻接地层叠偏振膜。取向膜具有使聚合性液晶化合物沿所期望的方向进行液晶取向的取向限制力，通过在取向膜上涂布偏振膜形成用组合物，易于获得精度优良地进行了取向的偏振膜。作为取向膜，优选具有不会因所述偏振膜形成用组合物的涂布等而溶解的耐溶剂性、另外具有用于溶剂的除去、聚合性液晶化合物的取向的加热处理中的耐热性的取向膜。本发明中，作为取向膜，从取向角的精度及品质、以及包含取向膜的光学层叠体的耐水性、耐弯曲性等观点出发，优选光取向膜。光取向膜可以通过选择照射的偏振光的偏振方向来任意地控制取向限制力的方向，从这一点考虑也是有利的。
[0243]
光取向膜通常可以通过如下操作来获得，即，将包含具有光反应性基团的聚合物、低聚物或单体(以下也称作“具有光反应性基团的聚合物等”)和溶剂的组合物(以下也称作“光取向膜形成用组合物”)涂布于基材，照射偏振光(优选为偏振uv)而得到。在本发明的光学层叠体中，在根据需要层叠有剥离力调整层的第1基材上涂布光取向膜形成用组合物即可，在第1基材上层叠有剥离力调整层的情况下，光取向膜形成用组合物被涂布于该剥离力调整层上。若光取向膜形成用组合物中含有的聚合物等具有与形成偏振膜的聚合性液晶化合物所具有的聚合性基团及形成剥离力调整层的化合物所具有的官能团相同的反应性基团(例如(甲基)丙烯酰基)，则剥离力调整层与光取向膜与偏振膜之间的密合性有增进的趋势，易于调整为对于抑制剥离第1基材时的拉链现象的产生、剥离界面的翘起的产生有效的剥离力f1。
[0244]
所谓光反应性基团，是指因光照射而产生液晶取向能力的基团。具体而言，可以举
出参与因光照射而产生的分子的取向诱导或异构化反应、二聚化反应、光交联反应或光分解反应等成为液晶取向能力的起源的光反应的基团。其中，从取向性优异的方面考虑，优选参与二聚化反应或光交联反应的基团。作为光反应性基团，优选具有不饱和键、特别是双键的基团，特别优选具有选自碳-碳双键(c＝c键)、碳-氮双键(c＝n键)、氮-氮双键(n＝n键)及碳-氧双键(c＝o键)中的至少1种的基团。
[0245]
作为具有c＝c键的光反应性基团，可以举出乙烯基、多烯基、均二苯代乙烯基、芪唑基、芪唑鎓基、查尔酮基及肉桂酰基等。作为具有c＝n键的光反应性基团，可以举出具有芳香族席夫碱、芳香族腙等结构的基团。作为具有n＝n键的光反应性基团，可以举出偶氮苯基、偶氮萘基、芳香族杂环偶氮基、双偶氮基、甲臜基、以及具有氧化偶氮苯结构的基团等。作为具有c＝o键的光反应性基团，可以举出二苯甲酮基、香豆素基、蒽醌基及马来酰亚胺基等。这些基团可以具有烷基、烷氧基、芳基、烯丙氧基、氰基、烷氧基羰基、羟基、磺酸基、卤代烷基等取代基。
[0246]
其中，优选参与光二聚化反应的光反应性基团，从光取向必需的偏振光照射量比较少、并且易于获得热稳定性、经时稳定性优异的光取向膜的方面考虑，优选肉桂酰基及查尔酮基。作为具有光反应性基团的聚合物等，特别优选具有使聚合物侧链的末端部成为肉桂酸结构的肉桂酰基的聚合物等。
[0247]
通过将光取向膜形成用组合物例如涂布于层叠在第一膜上的保护层上，可以形成光取向诱导层。作为该组合物中含有的溶剂，可以举出与作为形成偏振膜时能够使用的溶剂在先前例示的溶剂同样的溶剂，可以根据具有光反应性基团的聚合物等的溶解性恰当地选择。
[0248]
光取向膜形成用组合物中的具有光反应性基团的聚合物等的含量可以根据聚合物等的种类、作为目标的光取向膜的厚度来恰当地调节，然而相对于光取向膜形成用组合物的质量优选至少设为0.2质量％，更优选为0.3～10质量％的范围。在不显著地损害光取向膜的特性的范围中，光取向膜形成用组合物可以包含聚乙烯醇、聚酰亚胺等高分子材料、光敏剂。
[0249]
作为将光取向膜形成用组合物涂布于基材上或剥离力调整层上的方法、以及从所涂布的光取向膜形成用组合物中除去溶剂的方法，可以举出与将含有硅烷化合物的溶液涂布于基材上的方法及除去溶剂的方法同样的方法。
[0250]
偏振光的照射可以是向从光取向膜形成用组合物的涂膜中除去溶剂后的涂膜直接照射偏振uv的形式，也可以是从基材侧照射偏振光、使偏振光透射后照射的形式。另外，该偏振光特别优选实质上为平行光。所照射的偏振光的波长可以是具有光反应性基团的聚合物等的光反应性基团能够吸收光能的波长区域的波长。具体而言，特别优选为波长250～400nm的范围的uv(紫外线)。作为该偏振光照射中使用的光源，可以举出氙灯、高压水银灯、超高压水银灯、金属卤化物灯、krf、arf等紫外光激光器等，更优选为高压水银灯、超高压水银灯及金属卤化物灯。它们当中，高压水银灯、超高压水银灯及金属卤化物灯由于波长313nm的紫外线的发光强度大，因而优选。通过将来自所述光源的光穿过适当的偏振片后照射，可以照射偏振uv。作为该偏振片，可以使用偏振光滤光片、格兰汤姆森棱镜、格兰泰勒棱镜等偏振棱镜、线栅型的偏振片。
[0251]
需要说明的是，在进行摩擦或偏振光照射时，若进行遮蔽，则也可以形成液晶取向
的方向不同的多个区域(图案)。
[0252]
光取向膜的厚度优选为10～5000nm，更优选为10～1000nm，进一步优选为30～300nm。若光取向膜的厚度为上述范围，则能够在与偏振膜的界面中体现出良好的密合性的同时，发挥取向限制力，能够以高取向秩序形成偏振膜。
[0253]
〔相位差膜〕
[0254]
本发明的光学层叠体中含有的相位差膜为涂覆层，优选由包含至少1种聚合性液晶化合物的聚合性液晶组合物的固化膜形成。在偏振膜及相位差膜各自由液晶固化膜形成的具有圆偏振功能的光学层叠体中，根据本发明人等的研究阐明，因转印的原因而产生的拉链现象、剥离界面的翘起将取向有序度优异的偏振膜的液晶层结构破坏，能够导致转印后的层叠体的圆偏振功能的降低。对于本发明的光学层叠体，由于在将剥离第1基材及第2基材后显现出的2个外层面分别转印来装入显示装置时，抑制此时的拉链现象、剥离界面的翘起的产生的效果优异，因此在利用双面转印装入显示装置等后，也能够期待高圆偏振功能。本发明的光学层叠体中相位差膜可以是1个，也可以包含2个以上。
[0255]
本发明的圆偏振膜转印片优选包含满足式(4)的相位差膜
[0256]
120nm≤re(550)≤170nm
ꢀꢀꢀ
(4)
[0257]
〔式中，re(λ)表示波长λnm处的相位差膜的面内相位差值。〕
[0258]
若相位差膜的面内相位差re(550)为式(4)的范围内，则该相位差膜成为作为1/4波长板发挥作用的相位差膜，将包含该相位差膜的光学层叠体(圆偏振板)应用于有机el显示装置等时，增进正面反射色调的效果(抑制着色的效果)易于提高。面内相位差值的更优选的范围为130nm≤re(550)≤150nm。
[0259]
另外，所述相位差膜优选满足下述式(5)及(6)。
[0260]
re(450)/re(550)≤1.00
ꢀꢀꢀ
(5)
[0261]
1.00≤re(650)/re(550)
ꢀꢀꢀ
(6)
[0262]
〔式中，re(λ)表示波长λnm处的相位差膜的面内相位差值。〕
[0263]
在相位差膜满足式(5)及(6)的情况下，该相位差膜显示出所谓的逆波长分散性，即，短波长下的面内相位差值小于长波长下的面内相位差值。具有此种相位差膜的光学层叠体(圆偏振板)在装入有机el显示装置等时有正面色调优异的趋势。从增进逆波长分散性、能够进一步提高正面方向的反射色调的增进效果的观点出发，re(450)/re(550)优选为0.70以上，更优选为0.78以上，另外，优选为0.92以下，更优选为0.90以下，进一步优选为0.87以下，特别优选为0.86以下，进一步特别优选为0.85以下。另外，re(650)/re(550)优选为1.01以上，更优选为1.02以上。
[0264]
上述面内相位差值可以利用相位差膜的膜厚da来进行调整。面内相位差值由上述式rea(λ)＝(nxa(λ)-nya(λ))
×
da确定，因此为了获得所期望的面内相位差值(rea(λ)：波长λ(nm)处的相位差膜的面内相位差值)，只要调整三维折射率和膜厚da即可。
[0265]
本发明的光学层叠体优选包含由“水平取向液晶固化膜”形成的相位差膜，所述水平取向液晶固化膜是使聚合性液晶化合物在相对于相位差膜平面沿水平方向取向的状态下固化而得的。在本发明的光学层叠体包含1个相位差膜的情况下，通常，该相位差膜为“水平取向液晶固化膜”。
[0266]
本发明的光学层叠体可以在包含具有1/4波长板功能的相位差膜的基础上，还包
含作为正c板的液晶固化膜(相位差膜)。作为正c板的液晶固化膜是使聚合性液晶化合物在相对于相位差膜平面沿垂直方向取向的状态下固化而得的“垂直取向液晶固化膜”。通过组合包含具有1/4波长板功能的相位差膜和作为正c板的液晶固化膜，在将该光学层叠体应用于有机el显示装置等时，可以在期待正面反射色调的增进的基础上，还期待斜向反射色调的增进。
[0267]
在本发明的光学层叠体包含作为正c板的液晶固化膜的情况下，该液晶固化膜优选满足式(7)～(9)。
[0268]
rth(450)/rth(550)≤1.00
ꢀꢀꢀ
(7)
[0269]
1.00≤rth(650)/rth(550)
ꢀꢀꢀ
(8)
[0270]-100nm≤rth(550)≤-40nm
ꢀꢀꢀ
(9)
[0271]
〔式中，rth(λ)表示液晶固化膜的波长λnm处的厚度方向的相位差值，rth＝((nx(λ)+ny(λ))/2-nz)
×
d(d表示液晶固化膜的厚度，nx在液晶固化膜所形成的折射率椭圆体中，表示与液晶固化膜的平面平行的方向的波长λnm处的主折射率，ny在液晶固化膜所形成的折射率椭圆体中，表示与液晶固化膜的平面平行、并且与所述nx的方向正交的方向的波长λnm处的折射率，nz在液晶固化膜所形成的折射率椭圆体中，表示与液晶固化膜的平面垂直的方向的波长λnm处的折射率)。〕
[0272]
在液晶固化膜满足式(7)及(8)的情况下，在包含该相位差膜的圆偏振膜中，可以在短波长侧抑制椭圆率的降低，可以增进斜向反射色调。所述液晶固化膜的rth(450)/rth(550)的值优选为0.70以上，更优选为0.78以上，另外，优选为0.92以下，更优选为0.90以下，进一步优选为0.87以下，特别优选为0.86以下，进一步特别优选为0.85以下。另外，rth(650)/rth(550)优选为1.01以上，更优选为1.02以上。
[0273]
另外，在液晶固化膜满足式(9)的情况下，可以增进将包含该液晶固化膜的光学层叠体(圆偏振板)应用于有机el显示装置时的斜向反射色调。所述液晶固化膜的膜厚方向的相位差值rth(550)更优选为-90nm以上，进一步优选为-80nm以上，另外，更优选为-50nm以下。
[0274]
本发明中，相位差膜由包含至少1种聚合性液晶化合物的聚合性液晶组合物(以下也称作“相位差膜形成用组合物”)的固化膜形成。作为聚合性液晶化合物，可以根据所期望的光学特性，从相位差膜的领域中以往公知的聚合性液晶化合物中恰当地选择。
[0275]
聚合性液晶化合物为具有聚合性基团的液晶化合物。作为聚合性液晶化合物，一般而言，可以举出通过将该聚合性液晶化合物单独地在沿特定方向取向的状态下聚合而得的聚合物(固化物)显示出正波长分散性的聚合性液晶化合物和显示出逆波长分散性的聚合性液晶化合物。本发明中，可以仅使用某一种的聚合性液晶化合物，也可以混合使用两种的聚合性液晶化合物。另外，在光学层叠体包含具有1/4波长板功能的相位差膜和由作为正c板的液晶固化膜形成的相位差膜的情况下，形成它们的聚合性液晶化合物彼此可以相同，也可以不同。从易于增进作为光学层叠体的光学特性的观点出发，本发明的光学层叠体中，相位差膜优选为显示出所谓的逆波长分散性的包含聚合性液晶化合物的聚合性液晶组合物的固化膜。
[0276]
本发明中形成相位差膜的聚合性液晶化合物所具有的聚合性基团优选为光聚合性基团。所谓光聚合性基团，是指作为聚合性基团、且能够利用从光聚合引发剂中产生的反
应活性种、例如活性自由基、酸等来参与聚合反应的基团。作为光聚合性基团，例如可以举出乙烯基、乙烯氧基、1-氯乙烯基、异丙烯基、4-乙烯基苯基、(甲基)丙烯酰基、环氧乙基、氧杂环丁烷基。其中，优选(甲基)丙烯酰基、乙烯氧基、环氧乙基及氧杂环丁烷基，更优选丙烯酰基。
[0277]
聚合性液晶化合物所显示的液晶性可以是热致性液晶，也可以是溶致性液晶，然而从能够控制致密的膜厚的方面考虑，优选热致性液晶。另外，作为热致性液晶的相有序结构，可以是向列液晶，也可以是近晶液晶，还可以是盘状液晶。聚合性液晶化合物可以单独使用或组合使用两种以上。
[0278]
具有所谓的t字型或h型的分子结构的聚合性液晶化合物在使之聚合而固化时易于体现出逆波长分散性，具有t字型的分子结构的聚合性液晶化合物有体现出更强的逆波长分散性的趋势。
[0279]
作为显示出逆波长分散性的聚合性液晶化合物，优选为具有下述(a)～(d)的特征的化合物。
[0280]
(a)是能够形成向列相或近晶相的化合物。
[0281]
(b)在该聚合性液晶化合物的长轴方向(a)上具有π电子。
[0282]
(c)在与长轴方向(a)交叉的方向〔交叉方向(b)〕上具有π电子。
[0283]
(d)将存在于长轴方向(a)上的π电子的合计设为n(πa)、将存在于长轴方向上的分子量的合计设为n(aa)而以下述式(i)定义的聚合性液晶化合物的长轴方向(a)的π电子密度：
[0284]
d(πa)＝n(πa)/n(aa)
ꢀꢀꢀ(i)[0285]
与将存在于交叉方向(b)上的π电子的合计设为n(πb)、将存在于交叉方向(b)上的分子量的合计设为n(ab)而以下述式(ii)定义的聚合性液晶化合物的交叉方向(b)的π电子密度：
[0286]
d(πb)＝n(πb)/n(ab)
ꢀꢀꢀ
(ii)
[0287]
处于式(iii)的关系：
[0288]
0≤〔d(πa)/d(πb)〕＜1
ꢀꢀꢀ
(iii)
[0289]
〔即，交叉方向(b)的π电子密度大于长轴方向(a)的π电子密度〕。如上记载所示，在长轴及与之交叉的方向上具有π电子的聚合性液晶化合物一般易于形成t字结构。
[0290]
在上述(a)～(d)的特征中，长轴方向(a)及π电子数n如下所示地定义。
[0291]
■
例如若为具有棒状结构的化合物，则长轴方向(a)为该棒状的长轴方向。
[0292]
■
在存在于长轴方向(a)上的π电子数n(πa)中，不包括因聚合反应而消失的π电子。
[0293]
■
在存在于长轴方向(a)上的π电子数n(πa)中，是长轴上的π电子及与之共轭的π电子的合计数，例如包括存在于长轴方向(a)上的、满足休克尔规则的环中存在的π电子的数。
[0294]
■
在存在于交叉方向(b)上的π电子数n(πb)中，不包括因聚合反应而消失的π电子。
[0295]
满足上述内容的聚合性液晶化合物在长轴方向上具有介晶结构。通过该介晶结构，来体现液晶相(向列相、近晶相)。
[0296]
通过将满足上述(a)～(d)的聚合性液晶化合物加热到相变温度以上，可以形成向列相、近晶相。在该聚合性液晶化合物发生取向而形成的向列相或近晶相中，通常以使聚合性液晶化合物的长轴方向彼此平行的方式取向，该长轴方向成为向列相或近晶相的取向方向。当将此种聚合性液晶化合物制成膜状、以向列相或近晶相的状态使之聚合时，即可以形成包含在沿长轴方向(a)取向的状态下聚合了的聚合物的聚合物膜。该聚合物膜利用长轴方向(a)上的π电子和交叉方向(b)上的π电子来吸收紫外线。此处，将由交叉方向(b)上的π电子吸收的紫外线的吸收极大波长设为λbmax。λbmax通常为300nm～400nm。π电子的密度满足上述式(iii)，交叉方向(b)的π电子密度大于长轴方向(a)的π电子密度，因此成为在交叉方向(b)上具有振动面的直线偏振紫外线(波长为λbmax)的吸收大于在长轴方向(a)上具有振动面的直线偏振紫外线(波长为λbmax)的吸收的聚合物膜。其比(直线偏振紫外线的交叉方向(b)的吸光度/长轴方向(a)的吸光度的比)例如大于1.0，优选为1.2以上，通常为30以下，例如为10以下。
[0297]
一般而言，使具有上述特征的聚合性液晶化合物在沿一个方向取向的状态下聚合时，经常是其聚合物的双折射率显示出逆波长分散性的情况。具体而言，例如可以举出下述式(x)所示的化合物(以下也称作“聚合性液晶化合物(x)”。
[0298]
[化13]
[0299][0300]
式(x)中，ar表示具有可以具有取代基的芳香族基团的二价的基团。此处所说的所谓芳香族基团，例如可以举出后述的(ar-1)～(ar-23)所例示的基团。另外，ar也可以具有2个以上的芳香族基团。在该芳香族基团中可以包含氮原子、氧原子、硫原子中的至少1个以上。在ar中含有的芳香族基团为2个以上的情况下，2个以上的芳香族基团可以相互以单键、-co-o-、-o-等二价的连接基团键合。
[0301]
式(x)中，g1及g2各自独立地表示二价的芳香族基团或二价的脂环式烃基。此处，该二价的芳香族基团或二价的脂环式烃基中含有的氢原子可以由卤素原子、碳原子数1～4的烷基、碳原子数1～4的氟烷基、碳原子数1～4的烷氧基、氰基或硝基取代，形成该二价的芳香族基团或二价的脂环式烃基的碳原子可以由氧原子、硫原子或氮原子置换。
[0302]
式(x)中，l1、l2、b1及b2各自独立地为单键或二价的连接基团。
[0303]
式(x)中，k、l各自独立地表示0～3的整数，满足1≤k+l的关系。此处，在2≤k+l的情况下，b1及b2、g1及g2各自可以彼此相同，也可以不同。
[0304]
式(x)中，e1及e2各自独立地表示碳原子数1～17的烷二基，更优选碳原子数4～12的烷二基。另外，烷二基中含有的氢原子可以由卤素原子取代，该烷二基中含有的-ch
2-可以由-o-、-s-、-c(＝o)-置换。
[0305]
式(x)中，p1及p2相互独立地表示聚合性基团或氢原子，至少1个为聚合性基团。
[0306]
g1及g2各自独立地优选为可以由选自卤素原子及碳原子数1～4的烷基中的至少1个取代基取代的1，4-苯二基、可以由选自卤素原子及碳原子数1～4的烷基中的至少1个取代基取代的1，4-环己烷二基，更优选为由甲基取代了的1，4-苯二基、未取代的1，4-苯二基、或未取代的1，4-反式-环己烷二基，特别优选为未取代的1，4-苯二基、或未取代的1，4-反式-环己烷二基。
[0307]
另外，优选存在有多个的g1及g2中的至少1个为二价的脂环式烃基，另外，更优选与l1或l2键合的g1及g2中的至少1个为二价的脂环式烃基。
[0308]
l1及l2各自独立地优选为单键、碳原子数1～4的亚烷基、-o-、-s-、-ra1ora2-、-ra3coora4-、-ra5ocora6-、-ra7oc＝oora8-、-n＝n-、-crc＝crd-、或-c≡c-。此处，ra1～ra8各自独立地表示单键、或碳原子数1～4的亚烷基，rc及rd表示碳原子数1～4的烷基或氢原子。l1及l2各自独立地更优选为单键、-ora2-1-、-ch
2-、-ch2ch
2-、-coora4-1-、或-ocora6-1-。此处，ra2-1、ra4-1、ra6-1各自独立地表示单键、-ch
2-、-ch2ch
2-的任意者。l1及l2各自独立地进一步优选为单键、-o-、-ch2ch
2-、-coo-、-cooch2ch
2-、或-oco-。
[0309]
b1及b2各自独立地优选为单键、碳原子数1～4的亚烷基、-o-、-s-、-ra9ora10-、-ra11coora12-、-ra13ocora14-、或-ra15oc＝oora16-。此处，ra9～ra16各自独立地表示单键、或碳原子数1～4的亚烷基。b1及b2各自独立地更优选为单键、-ora10-1-、-ch
2-、-ch2ch
2-、-coora12-1-、或-ocora14-1-。此处，ra10-1、ra12-1、ra14-1各自独立地表示单键、-ch
2-、-ch2ch
2-的任意者。b1及b2各自独立地进一步优选为单键、-o-、-ch2ch
2-、-coo-、-cooch2ch
2-、-oco-、或-ococh2ch
2-。
[0310]
从体现逆波长分散性的观点出发，k及l优选2≤k+l≤6的范围，优选为k+l＝4，更优选为k＝2并且l＝2。若k＝2并且l＝2，则形成对称结构，因而优选。
[0311]
作为p1或p2所示的聚合性基团，可以举出环氧基、乙烯基、乙烯氧基、1-氯乙烯基、异丙烯基、4-乙烯基苯基、(甲基)丙烯酰基、环氧乙基、以及氧杂环丁烷基等。其中，优选(甲基)丙烯酰基、乙烯基及乙烯氧基，更优选(甲基)丙烯酰基。
[0312]
ar优选具有选自可以具有取代基的芳香族烃环、可以具有取代基的芳香族杂环、以及吸电子性基团中的至少1个。作为该芳香族烃环，例如可以举出苯环、萘环、蒽环等，优选苯环、萘环。作为该芳香族杂环，可以举出呋喃环、苯并呋喃环、吡咯环、吲哚环、噻吩环、苯并噻吩环、吡啶环、吡嗪环、嘧啶环、三唑环、三嗪环、吡咯啉环、咪唑环、吡唑环、噻唑环、苯并噻唑环、噻吩并噻唑环、噁唑环、苯并噁唑环、以及菲咯啉环等。其中，优选具有噻唑环、苯并噻唑环、或苯并呋喃环，更优选具有苯并噻唑环。另外，在ar中包含氮原子的情况下，该氮原子优选具有π电子。
[0313]
式(x)中，ar所示的基团所具有的π电子的合计数nπ通常为6以上，优选为8以上，更优选为10以上，进一步优选为14以上，特别优选为16以上。另外，优选为36以下，更优选为32以下，进一步优选为26以下，特别优选为24以下。
[0314]
作为ar中含有的芳香族基团，例如可以举出以下的基团。
[0315]
[化14]
[0316][0317]
式(ar-1)～式(ar-23)中，*标记表示连接部，z0、z1及z2各自独立地表示氢原子、卤素原子、碳原子数1～12的烷基、氰基、硝基、碳原子数1～12的烷基亚磺酰基、碳原子数1～12的烷基磺酰基、羧基、碳原子数1～12的氟烷基、碳原子数1～12的烷氧基、碳原子数1～12的烷硫基、碳原子数1～12的n-烷基氨基、碳原子数2～12的n，n-二烷基氨基、碳原子数1～12的n-烷基氨磺酰基或碳原子数2～12的n，n-二烷基氨磺酰基。另外，z0、z1及z2可以包含聚合性基团。
[0318]
式(ar-1)～式(ar-23)中，q1及q2各自独立地表示-cr2’r3
’‑
、-s-、-nh-、-nr2
’‑
、-co-或-o-，r2’及r3’各自独立地表示氢原子或碳原子数1～4的烷基。
[0319]
式(ar-1)～式(ar-23)中，j1及j2各自独立地表示碳原子、或氮原子。
[0320]
式(ar-1)～式(ar-23)中，y1、y2及y3各自独立地表示可以被取代的芳香族烃基或
芳香族杂环基。
[0321]
式(ar-1)～式(ar-23)中，w1及w2各自独立地表示氢原子、氰基、甲基或卤素原子，m表示0～6的整数。
[0322]
作为y1、y2及y3中的芳香族烃基，可以举出苯基、萘基、蒽基、菲基、联苯基等碳原子数6～20的芳香族烃基，优选苯基、萘基，更优选苯基。作为芳香族杂环基，可以举出呋喃基、吡咯基、噻吩基、吡啶基、噻唑基、苯并噻唑基等包含至少1个氮原子、氧原子、硫原子等杂原子的碳原子数4～20的芳香族杂环基，优选呋喃基、噻吩基、吡啶基、噻唑基、苯并噻唑基。
[0323]
y1、y2及y3可以各自独立地为可以被取代的多环系芳香族烃基或多环系芳香族杂环基。多环系芳香族烃基是指稠合多环系芳香族烃基、或来自于芳香环集合的基团。多环系芳香族杂环基是指稠合多环系芳香族杂环基、或来自于芳香环集合的基团。
[0324]
z0、z1及z2各自独立地优选为氢原子、卤素原子、碳原子数1～12的烷基、氰基、硝基、碳原子数1～12的烷氧基，z0更优选为氢原子、碳原子数1～12的烷基、氰基，z1及z2更优选为氢原子、氟原子、氯原子、甲基、氰基。另外，z0、z1及z2可以包含聚合性基团。
[0325]
q1及q2优选为-nh-、-s-、-nr2
’‑
、-o-，r2’优选为氢原子。其中特别优选为-s-、-o-、-nh-。
[0326]
在式(ar-1)～(ar-23)中，从分子的稳定性的观点出发优选式(ar-6)及式(ar-7)。
[0327]
在式(ar-16)～(ar-23)中，y1可以与其所键合的氮原子及z0一起形成芳香族杂环基。作为芳香族杂环基，可以举出作为ar可以具有的芳香族杂环在前面所述的基团，例如可以举出吡咯环、咪唑环、吡咯啉环、吡啶环、吡嗪环、嘧啶环、吲哚环、喹啉环、异喹啉环、嘌呤环、吡咯烷环等。该芳香族杂环基可以具有取代基。另外，y1可以与其所键合的氮原子及z0一起为前述的可以被取代的多环系芳香族烃基或多环系芳香族杂环基。例如可以举出苯并呋喃环、苯并噻唑环、苯并噁唑环等。
[0328]
式(x)所示的化合物例如可以依照日本特开2010-31223号公报中记载的方法制造。
[0329]
本发明中作为形成相位差膜的聚合性液晶化合物，可以在使用式(x)所示的化合物的基础上，或者在其以外地使用例如像日本特开2010-31223号公报、日本特开2010-270108号公报、日本特开2011-6360号公报及日本特开2011-207765号公报中记载的那样的聚合性液晶化合物，即所谓的显示正波长分散性的聚合性液晶化合物等。这些聚合性液晶化合物均可以在进行水平取向后使用，也可以在进行垂直取向后使用。
[0330]
相位差膜形成用组合物中的聚合性液晶化合物的含量相对于相位差膜形成用组合物的固体成分100质量份例如为70～99.5质量份，优选为80～99质量份，更优选为85～98质量份，进一步优选为90～95质量份。若聚合性液晶化合物的含量为上述范围内，则从所得的相位差膜的取向性的观点出发有利。需要说明的是，在相位差膜形成用组合物包含2种以上的聚合性液晶化合物的情况下，优选相位差膜形成用组合物中含有的全部液晶化合物的总量为上述含量的范围内。
[0331]
相位差膜形成用组合物可以包含用于引发聚合性液晶化合物的聚合反应的聚合引发剂。作为聚合引发剂，可以从该领域中以往所用的聚合引发剂中恰当地选择使用，可以是热聚合引发剂，也可以是光聚合引发剂，从能够在更低温度条件下引发聚合反应的方面考虑，优选光聚合引发剂。适合举出与作为能够在偏振膜形成用组合物中使用的光聚合引
发剂在先前例示的例子同样的光聚合引发剂。
[0332]
相位差膜形成用组合物通常以溶解于溶剂中的状态涂布于基材膜等，因此优选包含溶剂。作为溶剂，优选能够溶解聚合性液晶化合物的溶剂，另外，优选为对于聚合性液晶化合物的聚合反应为非活性的溶剂。作为溶剂，可以举出与作为能够在偏振膜形成用组合物中使用的溶剂在先前例示的例子同样的溶剂。
[0333]
另外，相位差膜形成用组合物根据需要可以包含光敏剂、流平剂及作为偏振膜形成用组合物中含有的添加剂例示的添加剂等。作为光敏剂及流平剂，可以举出与作为能够在偏振膜形成用组合物中使用的光敏剂及流平剂在先前例示的例子同样的光敏剂及流平剂。
[0334]
相位差膜形成用组合物例如可以通过将聚合性液晶化合物及根据需要使用的聚合引发剂、溶剂、添加剂等混合及搅拌而制备。
[0335]
相位差膜例如可以通过如下操作来得到，即，将相位差膜形成用组合物涂布于第2基材、取向膜或剥离力调整层上，将该涂膜干燥，并且在使该相位差膜形成用组合物中的聚合性液晶化合物取向后，在保持取向状态不变的同时，利用光照射等使聚合性液晶化合物聚合而得到。作为取向膜，可以举出与作为能够在制作本发明的偏振膜时使用的取向膜在先前例示的例子同样的取向膜，只要根据所期望的取向限制力等恰当地选择即可。作为相位差膜形成用组合物的涂布方法、利用光照射的聚合性液晶化合物的固化等中能够采用的方法，可以举出与偏振膜的形成方法中例示的方法同样的方法。
[0336]
在本发明的光学层叠体中，相位差膜的厚度可以根据所应用的显示装置来恰当地选择，然而从薄膜化及适于用作柔性显示器材料的耐弯曲性等观点出发，优选为0.1～10μm，更优选为0.5～5μm，进一步优选为1～3μm。在本发明的光学层叠体包含多个相位差膜的情况下，各相位差膜的厚度彼此可以相同，也可以不同，优选各自处于上述范围内。
[0337]
在本发明的光学层叠体包含具有1/4波长板功能的相位差膜和由作为正c板的液晶固化膜形成的相位差膜的情况下，这些相位差膜可以经由粘合粘接层贴合，然而从光学层叠体的薄型化及适于用作柔性显示器材料的耐弯曲性等观点出发，优选在具有1/4波长板功能的相位差膜上夹隔着或不夹隔着具有垂直取向限制力的取向膜地层叠有由作为正c板的液晶固化膜形成的相位差膜，或者在由作为正c板的液晶固化膜形成的相位差膜上夹隔着或不夹隔着具有水平取向限制力的取向膜地层叠有具有1/4波长板功能的相位差膜。
[0338]
〔粘合粘接层〕
[0339]
本发明中配置于偏振膜与相位差膜之间的粘合粘接层是由粘合粘接剂形成的层。该粘合粘接层只要是能够作为将偏振膜与相位差膜贴合的层发挥作用的层，则可以由公知的粘合粘接剂形成。在本发明的一个实施方式中，该粘合粘接层由粘合剂组合物形成。
[0340]
作为粘合剂组合物，可以举出以(甲基)丙烯酸系、橡胶系、氨基甲酸酯系、酯系、硅酮系、聚乙烯基醚系之类的树脂为主成分的粘合剂组合物。其中，优选透明性、耐候性、耐热性等优异的以(甲基)丙烯酸系树脂作为基础聚合物的粘合剂组合物。
[0341]
作为粘合剂组合物中使用的(甲基)丙烯酸系树脂(基础聚合物)，例如可以合适地使用以(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯之类的(甲基)丙烯酸酯的1种或2种以上作为单体的聚合物或共聚物。优选使极性单体与基础聚合物共聚。作为极性单体，例如可以举出(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸2-羟基丙
酯、(甲基)丙烯酸羟基乙酯、(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯酸n，n-二甲基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯之类的具有羧基、羟基、酰胺基、氨基、环氧基等的单体。
[0342]
粘合剂组合物可以仅包含上述基础聚合物，也可以包含交联剂。作为交联剂，可以例示出作为2价以上的金属离子、且在其与羧基之间形成羧酸金属盐的交联剂；作为多胺化合物、且在其与羧基之间形成酰胺键的交联剂；作为多环氧化合物、多元醇、且在其与羧基之间形成酯键的交联剂；作为多异氰酸酯化合物、且在其与羧基之间形成酰胺键的交联剂。
[0343]
粘合剂组合物根据需要可以包含溶剂，作为溶剂，可以举出作为能够在偏振膜形成用组合物等中使用的溶剂举出的溶剂。
[0344]
粘合粘接层的厚度通常为1～40μm，优选为3～25μm。
[0345]
在将偏振膜与相位差膜层叠的情况下，优选以使相位差膜的慢轴(光轴)与偏振膜的吸收轴实质上为45
°
的方式层叠。通过以使相位差膜的慢轴(光轴)与偏振膜的吸收轴实质上为45
°
的方式层叠，可以获得作为圆偏振板的功能。需要说明的是，所谓实质上为45
°
，通常是45
±5°
的范围。
[0346]
〔光学层叠体〕
[0347]
对于本发明的光学层叠体，为了根据其用途等形成所期望的构成，可以通过将第1基材、取向膜、偏振膜、粘合粘接层、相位差膜及第2基材、以及根据需要使用的剥离力调整层依照对于各层在先前记载的制造方法等，以恰当的顺序进行形成、层叠而制造。
[0348]
例如，制作在第1基材上形成剥离力调整层、在该剥离力调整层上夹隔着取向膜设置有偏振膜的层叠体。在其以外，制作在第2基材上形成剥离力调整层、在该剥离力调整层上夹隔着取向膜设置有相位差膜的层叠体，将具有偏振膜的层叠体与具有相位差膜的层叠体利用粘合粘接剂粘接，由此可以得到如图2所示的、包含第1基材/剥离力调整层/取向膜/偏振膜/粘合粘接层/相位差膜/取向膜/剥离力调整层/第2基材的光学层叠体。
[0349]
在本发明的光学层叠体中，偏振膜、粘合粘接层及相位差膜的膜厚的合计优选为20μm以下，更优选为15μm以下。
[0350]
本发明的光学层叠体可以为长条的膜状，也可以为单片体。
[0351]
在本发明的光学层叠体中，构成该光学层叠体的能够剥离的第1基材及能够剥离的第2基材均被剥离，仅将具有圆偏振板功能的层叠体结构的向被转印体转印而利用。对于本发明的光学层叠体，将剥离力f1和剥离力f2控制在规定的范围，并且在这2个剥离力之间设置规定范围的差，由此能够在抑制易于在转印时产生的拉链现象、剥离界面的翘起的同时，将第1基材及第2基材依照所期望的顺序容易地剥离。特别是，即使在光学层叠体为长条状的情况下，也易于在其全长维持所期望的剥离力。因此，即使在利用使用了该领域中普遍利用的装置的roll to roll方式连续地剥离第1基材和/或第2基材的情况下，也不用设定特别的条件等，抑制剥离时的拉链现象、剥离界面的翘起的产生的效果优异。
[0352]
本发明的光学层叠体由于能够使用为了制造光学膜、光学层叠体等而在该领域中以往广泛使用的一般的装置，将第1基材或第2基材依照所期望的顺序从光学层叠体连续地容易地剥离，并且不易在被转印的层叠体中产生拉链现象、剥离界面的翘起，因此适于使用了roll to roll方式的长条状光学膜的制造。
[0353]
本发明包含一种长条状光学膜的制造方法，所述制造方法包括：
[0354]
制造将本发明的光学层叠体卷绕成卷筒状而成的长条状光学层叠体卷的工序；以
及
[0355]
从所述长条状光学层叠体卷连续地剥离构成光学层叠体的第1基材和第2基材中的、从该光学层叠体剥离时的剥离力小的一方的基材的第1剥离工序。
[0356]
所述长条状光学层叠体卷的制造方法可以还包括：
[0357]
贴合工序，在第1剥离工序中剥离的基材所邻接的面，经由粘合粘接层贴合第3基材；以及
[0358]
第2剥离工序，将第1剥离工序中没有被剥离的第1基材或第2基材剥离。
[0359]
作为所述方法中使用的第3基材，可以举出能够作为第1基材和/或第2基材使用的树脂膜、隔离膜、防护膜等。该隔离膜可以是在与基材所邻接的面相反的一侧的面具有粘合剂层的膜。
[0360]
本发明的光学层叠体由于不易产生由第1基材及第2基材的剥离引起的拉链现象、剥离界面的翘起，转印后的层叠体的光学性能优异，因此适于作为椭圆偏振板。因而，本发明也以包含本发明的光学层叠体的椭圆偏振板为对象。本发明的椭圆偏振板可以用于各种各样的显示装置。
[0361]
所谓显示装置，是具有显示元件的装置，包含发光元件或发光装置作为发光源。作为显示装置，可以举出液晶显示装置、有机电致发光(el)显示装置、无机电致发光(el)显示装置、触控面板显示装置、电子发射显示装置(例如电场发射显示装置(fed)、表面电场发射显示装置(sed))、电子纸(使用了电子油墨、电泳元件的显示装置、等离子体显示装置、投射型显示装置(例如光栅光阀(glv)显示装置、具有数字微镜器件(dmd)的显示装置)及压电陶瓷显示器等。液晶显示装置可以包含透射型液晶显示装置、半透射型液晶显示装置、反射型液晶显示装置、直视型液晶显示装置及投影型液晶显示装置等任意显示装置。这些显示装置可以是显示二维图像的显示装置，也可以是显示三维图像的立体显示装置。特别是本发明的椭圆偏振板可以合适地用于有机电致发光(el)显示装置及无机电致发光(el)显示装置，也可以合适地用于液晶显示装置及触控面板显示装置。这些显示装置因具备不易产生拉链现象、剥离界面的翘起的本发明的椭圆偏振板而可以体现出良好的图像显示特性。
[0362]
另外，本发明的光学层叠体在要求薄型化、耐弯曲性的情况下，也能够在抑制拉链现象、剥离界面的翘起的产生的同时将薄膜的光学层叠体转印到其他基材，在转印后的层叠体中可以期待高的圆偏振功能、光学特性，因此作为形成柔性显示器材料的光学层叠体也是有利的。因而，本发明也以包含本发明的光学层叠体的柔性显示器材料为对象。本发明的柔性显示器材料可以合适地装入柔性图像显示装置。
[0363]
实施例
[0364]
以下，利用实施例及比较例对本发明进一步详细说明。实施例及比较例中的“％”及“份”只要没有特别指出，就是“质量％”及“质量份”。
[0365]
1.包含偏振膜的层叠体(偏振膜层叠体)的制作
[0366]
(1)层叠体a1的制作
[0367]
(i)剥离力调整层形成用树脂组合物(1)的制备
[0368]
将以下的各成分混合，在50℃搅拌4小时，由此得到剥离力调整层形成用树脂组合物(1)。
[0369]
■
下述结构的多官能丙烯酸酯化合物：50份
[0370]
二季戊四醇六丙烯酸酯(新中村化学(株)制、“nk ester a-dph”)、连接支链结构中的最接近丙烯酰基的支化点与该丙烯酰基的链的原子数为2。
[0371]
[化15]
[0372][0373]
·
氨基甲酸酯丙烯酸酯聚合物：50份
[0374]
氨基甲酸酯丙烯酸酯(daicel ornex(株)制、“ebecryl 4858”)、官能团数为2、重均分子量mw为450、每单位分子量的官能团数为44.4
×
10-4
。
[0375]
·
自由基聚合引发剂：3份
[0376]
2-[4-(甲硫基)苯甲酰基]-2-(4-吗啉基)丙烷(basf公司制、“irgacure 907”)
[0377]
■
溶剂：10份
[0378]
甲乙酮
[0379]
(ii)光取向膜形成用组合物的制备
[0380]
将以下的成分混合，将所得的混合物在80℃搅拌1小时，由此得到光取向膜形成用组合物(1)。
[0381]-光取向性聚合物：2份
[0382]
[化16]
[0383][0384]
(日本特开2013-033249号公报中记载的聚合物、数均分子量：约28200、mw/mn：1.82)
[0385]
■
溶剂：98份
[0386]
邻二甲苯
[0387]
(iii)偏振膜形成用组合物(1)的制备
[0388]
将以下的各成分混合，在80℃搅拌1小时，由此得到偏振膜形成用组合物(1)。二色性色素使用了日本特开2013-101328号公报的实施例中记载的偶氮色素。
[0389]
■
聚合性液晶化合物：a1 90份
[0390]
[化17]
[0391]
[0392]
■
聚合性液晶化合物：a2 10份
[0393]
[化18]
[0394][0395]
■
二色性色素：偶氮色素a 2.5份
[0396]
[化19]
[0397][0398]
(二色性色素a)2.5份
[0399]
■
二色性色素：偶氮色素b 2.5份
[0400]
[化20]
[0401][0402]
(二色性色素b)2.5份
[0403]
■
二色性色素：偶氮色素c 2.5份
[0404]
[化21]
[0405][0406]
(二色性色素c)2.5份
[0407]
■
光聚合引发剂：6份
[0408]
2-二甲基氨基-2-苄基-1-(4-吗啉基苯基)-1-丁酮(irgacure 369；ciba specialty chemicals(株)制)
[0409]
■
流平剂：1.2份
[0410]
聚丙烯酸酯化合物(byk-361n；byk-chemie公司制)
[0411]
■
溶剂：400份
[0412]
邻二甲苯
[0413]
(iv)带有剥离力调整层(1)的基材的制作
[0414]
使用实施了脱模处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(lintec公司制sp-plr382050)作为基材，对该基材膜的脱模处理面实施电晕处理后，利用棒涂法(#230mm/s)涂布剥离力调整层形成用组合物(1)。对所得的剥离力调整层形成用组合物(1)的涂膜使用uv照射装置(spot cure sp-7；ushio电机株式会社制)照射曝光量500mj/cm2(365nm基准)的紫外线，由此得到带有剥离力调整层(1)的基材。利用激光显微镜(olympas株式会社制ols3000)测定出的剥离力调整层(1)的厚度为1.5μm。
[0415]
(v)偏振膜的制作
[0416]
然后，对上述带有剥离力调整层(1)的基材的剥离力调整层(1)的表面实施电晕处理后，涂布光取向膜形成用组合物(1)，在120℃进行干燥而得到干燥涂膜。向该干燥涂膜上
照射偏振uv而形成光取向膜，得到依次具有第1基材/剥离力调整层(1)/光取向膜的层叠体。需要说明的是，使用uv照射装置(spot cure sp-7；ushio电机株式会社制)，在波长365nm处测定的强度为100mj的条件下进行偏振uv处理。利用激光显微镜(olympas株式会社制ols3000)测定出的光取向膜的厚度为100nm。
[0417]
在所得的所述层叠体的光取向膜的表面，利用棒涂法涂布偏振膜形成用组合物(1)，在120℃的干燥烘箱中加热干燥1分钟，由此使聚合性液晶化合物相变为液体相后，冷却到室温而使该聚合性液晶化合物相变为近晶液晶状态。然后，使用uv照射装置(spot cure sp-7；ushio电机株式会社制)，向由偏振膜形成用组合物(1)形成的涂膜照射曝光量1000mj/cm2(365nm基准)的紫外线，由此使该干燥涂膜中含有的聚合性液晶化合物在保持所述聚合性液晶化合物的近晶液晶状态不变的同时聚合，由该干燥涂膜形成偏振膜(偏振片)。利用激光显微镜(olympas株式会社制ols3000)测定出的偏振膜的厚度为2.3μm。
[0418]
如此所述地操作，得到依次具有第1基材/剥离力调整层(1)/光取向膜/偏振膜的层叠体a1。
[0419]
(2)层叠体a2
[0420]
(i)偏振膜形成用组合物(2)的制备
[0421]
除了使用以下的溶剂以外，利用与偏振膜形成用组合物(1)的制备同样的步骤，得到偏振膜形成用组合物(2)。
[0422]
■
溶剂：250份
[0423]
环戊酮
[0424]
(ii)光取向膜形成用组合物的制备
[0425]
将以下的成分混合，将所得的混合物在80℃搅拌1小时，由此得到光取向膜形成用组合物(2)。
[0426]
■
光取向性聚合物：5份
[0427]
[化22]
[0428][0429]
(日本特开2013-033249号公报中记载的聚合物、数均分子量：约28200、mw/mn：1.82)
[0430]
■
溶剂：95份
[0431]
环戊酮
[0432]
(iii)光取向膜的制作
[0433]
使用作为环烯烃系膜的zeonor(注册商标)膜(日本zeon株式会社制)作为基材。对该第1基材膜实施电晕处理后，利用棒涂法涂布光取向膜形成用组合物(2)，在60℃的烘箱中加热干燥1分钟。对所得的干燥涂膜实施偏振uv照射处理而在第1基材表面形成光取向膜，得到依次具有第1基材/光取向膜的层叠体。需要说明的是，使用uv照射装置(spot cure sp-7；ushio电机株式会社制)，在波长365nm处测定的强度为100mj的条件下进行偏振uv处
理。利用激光显微镜(olympas株式会社制ols3000)测定出的光取向膜的膜厚为100nm。
[0434]
(iv)偏振膜的制作
[0435]
在所得的所述层叠体的光取向膜的表面利用棒涂法(#7 30mm/s)涂布偏振膜形成用组合物(2)，在120℃的烘箱中加热干燥1分钟，由此使聚合性液晶化合物相变为液体相后，冷却到室温而使该聚合性液晶化合物相变为近晶液晶状态。然后，使用uv照射装置(spot cure sp-7；ushio电机株式会社制)，以曝光量1200mj/cm2(365nm基准)进行紫外线照射，使该干燥涂膜中含有的聚合性液晶化合物在保持所述聚合性液晶化合物的近晶液晶状态不变的同时聚合，由该干燥涂膜形成偏振膜(偏振片)。利用激光显微镜(olympas株式会社制ols3000)测定所形成的偏振膜的厚度，其结果为1.8μm。
[0436]
如此所述地操作，得到依次具有第1基材/光取向膜/偏振膜的层叠体a2。
[0437]
(3)层叠体a3
[0438]
除了在作为基材的对一个面实施了脱模处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(lintec公司制sp-plr382050)的未处理面侧层叠剥离力调整层(1)以外，利用与层叠体a1同样的方法，得到依次具有第1基材/剥离力调整层(1)/光取向膜/偏振膜的层叠体a3。
[0439]
(4)层叠体a4
[0440]
(i)剥离力调整层形成用组合物(2)的制备
[0441]
溶解作为硅烷偶联剂的kbe-903(信越有机硅制)，使之相对于邻二甲苯为0.25重量％，制备出剥离力调整层形成用组合物(2)。
[0442]
(ii)偏振膜的制作
[0443]
在对一个面实施了脱模处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(lintec公司制sp-plr382050)的未处理侧的面利用棒涂法涂布剥离力调整层形成用组合物(2)，在烘箱中在120℃干燥1分钟，形成厚度40nm的剥离力调整层(2)(包含硅烷化合物的层)。接下来，利用棒涂法涂布剥离力调整层形成用组合物(1)，使用uv照射装置(spot cure sp-7；ushio电机株式会社制)，向所述剥离力调整层形成用树脂组合物(1)的涂膜照射曝光量500mj/cm2(365nm基准)的紫外线，由此形成剥离力调整层(1)，得到依次具有第1基材/剥离力调整层(2)/剥离力调整层(1)/的层叠体。利用激光显微镜(olympas株式会社制ols3000)测定出的剥离力调整层(1)的厚度为1.5μm。
[0444]
接下来，利用与层叠体a1中的光取向膜及偏振膜的制作方法同样的步骤，得到依次具有第1基材/剥离力调整层(2)/剥离力调整层(1)/光取向膜/偏振膜的层叠体a4。
[0445]
(5)层叠体a5
[0446]
(i)剥离力调整层形成用组合物(3)的制备
[0447]
溶解作为硅烷偶联剂的kbm-5103(信越有机硅制)，使之相对于邻二甲苯为0.25重量％，制备出剥离力调整层形成用组合物(3)。
[0448]
(ii)偏振膜的制作
[0449]
除了取代剥离力调整层形成用组合物(2)而使用了剥离力调整层形成用组合物(3)以外，利用与所述偏振膜层叠体a4的制作方法同样的步骤，得到依次具有第1基材/剥离力调整层(3)/剥离力调整层(1)/光取向膜/偏振膜的层叠体a5。剥离力调整层(3)的厚度为40nm。
[0450]
(6)层叠体a6
[0451]
除了使用厚度100μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(三菱树脂株式会社制、diafoil)作为第1基材以外，利用与层叠体a4的制作方法同样的步骤，得到依次具有第1基材/剥离力调整层(2)/剥离力调整层(1)/光取向膜/偏振膜的层叠体a6。
[0452]
2.包含相位差膜的层叠体(相位差膜层叠体)的制作
[0453]
(1)层叠体b1的制作
[0454]
(i)相位差膜形成用组合物(1)的制备
[0455]
将以下的各成分混合，将所得的混合物在80℃搅拌1小时，由此得到相位差膜形成用组合物(1)。
[0456]
聚合性液晶化合物x1及聚合性液晶化合物x2利用日本特开2010-31223号公报记载的方法合成。
[0457]
■
聚合性液晶化合物：x1 80份
[0458]
[化23]
[0459][0460]
·
聚合性液晶化合物：x2 20份
[0461]
[化24]
[0462][0463]
■
聚合引发剂：6份
[0464]
2-二甲基氨基-2-苄基-1-(4-吗啉基苯基)-1-丁酮(irgacure(注册商标)369；ciba specialty chemicals公司制)
[0465]
■
流平剂：0.1份
[0466]
聚丙烯酸酯化合物(byk-361n；byk-chemie公司制)
[0467]
■
溶剂：400份
[0468]
环戊酮
[0469]
(ii)相位差膜的制作
[0470]
除了取代光取向膜形成用组合物(1)而使用光取向膜形成用组合物(2)以外，利用与偏振膜层叠体a1的依次具有第1基材/剥离力调整层(1)/光取向膜的层叠体的制作方法同样的步骤，得到依次具有第2基材/剥离力调整层(1)/光取向膜的层叠体。
[0471]
在所得的所述层叠体的光取向膜的表面利用棒涂法涂布相位差膜形成用组合物(1)，在120℃的烘箱中加热干燥1分钟后，冷却到室温而得到干燥涂膜。对所得的干燥涂膜，
使用uv照射装置(spot cure sp-7；ushio电机株式会社制)，照射曝光量1000mj/cm2(365nm基准)的紫外线，形成聚合性液晶化合物在相对于基材面内沿水平方向取向了的状态下固化而得的相位差膜。利用激光显微镜(olympas株式会社制ols3000)测定出所形成的相位差膜的厚度，其结果为2.0μm。
[0472]
如此所述地操作，得到依次具有第2基材/剥离力调整层(1)/光取向膜/相位差膜的层叠体b1。
[0473]
(2)层叠体b2的制作
[0474]
在利用与所述层叠体a2的依次具有第1基材/光取向膜的层叠体的制作方法同样的步骤得到的层叠体的光取向膜的表面，利用棒涂法涂布相位差膜形成用组合物(1)，在120℃的烘箱中加热干燥1分钟后，冷却到室温而得到干燥涂膜。对所得的干燥涂膜，使用uv照射装置(spot cure sp-7；ushio电机株式会社制)，照射曝光量1000mj/cm2(365nm基准)的紫外线，形成聚合性液晶化合物在相对于基材面内沿水平方向取向了的状态下固化而得的相位差膜。利用激光显微镜(olympas株式会社制ols3000)测定出所形成的相位差膜的厚度，其结果为2.0μm。
[0475]
如此所述地操作，得到依次具有第2基材/光取向膜/相位差膜的层叠体b2。
[0476]
(3)层叠体b3的制作
[0477]
除了在对一个面实施了脱模处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的未处理面侧层叠剥离力调整层(1)以外，利用与层叠体b1同样的方法，得到依次具有第2基材/剥离力调整层(1)/光取向膜/相位差膜的层叠体b3。
[0478]
(4)层叠体b4的制作
[0479]
在与所述层叠体a4的依次具有第1基材/剥离力调整层(2)/剥离力调整层(1)的层叠体的制作方法同样地得到的层叠体的剥离力调整层(1)的表面，利用与层叠体b1的光取向膜及相位差膜的制作方法同样的步骤，制作出光取向膜及相位差膜。
[0480]
如此所述地操作，得到依次具有第2基材/剥离力调整层(2)/剥离力调整层(1)/光取向膜/相位差膜的层叠体b4。
[0481]
(5)层叠体b5的制作
[0482]
除了取代剥离力调整层形成用组合物(2)而使用剥离力调整层形成用组合物(3)以外，与所述层叠体b4的制作方法同样地得到依次具有第2基材/剥离力调整层(3)/剥离力调整层(1)/光取向膜/相位差膜的层叠体b5。
[0483]
(6)层叠体b6
[0484]
除了使用厚度100μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(三菱树脂株式会社制、diafoil)作为第2基材以外，利用与层叠体b4的制作方法同样的步骤，得到依次具有第2基材/剥离力调整层(2)/剥离力调整层(1)/光取向膜/相位差膜的层叠体b6。
[0485]
3.光学层叠体的制作
[0486]
将作为偏振膜层叠体的层叠体a1～a6与作为相位差膜层叠体的层叠体b1～b6以表1中记载的组合贴合，制作出实施例1～8及比较例1～5的光学层叠体。对于偏振膜层叠体与相位差膜层叠体的贴合，将偏振膜层叠体的偏振膜侧与相位差膜层叠体的相位差膜侧利用粘合剂贴合。
[0487]
需要说明的是，使用片状粘合剂〔lintec株式会社制“ncf#l2”〕作为用于将偏振膜
层叠体与相位差膜层叠体贴合的粘合剂。粘合剂层的厚度为5μm。
[0488]
4.剥离力的测定方法
[0489]
分别利用以下的方法测定出将第1基材从光学层叠体剥离时的剥离力f1、以及将第2基材从光学层叠体剥离时的剥离力f2。将结果表示于表1中。
[0490]
使用拉伸试验机，夹住试验片(宽度25mm
×
长度约150mm)的长度方向的一端，在温度23℃、相对湿度60％的气氛下，以200mm/分钟的十字头速度(夹具移动速度)，进行依照jis k 6854-1：1999《粘接剂-剥离粘接强度试验方法-第1部：90度剥离》的90
°
剥离试验而测定。
[0491]
5.剥离性的评价
[0492]
从实施例及比较例中制作的各光学层叠体中裁割出宽度约50mm
×
长度约200mm的试验片。使用拉伸试验机(株式会社今田制作所制tj-95)，夹住作为剥离对象的基材的端部，在温度23℃、相对湿度60％的气氛下，以5m/分钟的夹具移动速度剥离基材。利用以下的基准评价剥离性。
[0493]
《剥离性评价基准》
[0494]
a：剥离界面的翘起、拉链现象的产生率小于试验长度中的5％。
[0495]
b：产生剥离界面的翘起、拉链现象。是试验长度中的5％以上且小于50％的产生率。
[0496]
c；产生剥离界面的翘起、拉链现象。是试验长度中的50％以上的产生率。
[0497]
6.外观检查
[0498]
对于实施例及比较例中得到的光学层叠体，剥离第1基材及第2基材，在剥离了第2基材的面经由压敏式粘合剂贴合铝板。从所贴合的光学层叠体的正面垂直方向、以及相对于正面垂直方向而言仰角50
°
的位置，观察不均的有无。
[0499]
《外观评价基准》
[0500]
a：没有观察到不均。
[0501]
b：在相对于正面垂直方向而言仰角50
°
的位置观察到不均。
[0502]
c；在正面垂直方向及相对于正面垂直方向而言仰角50
°
的位置观察到不均。
[0503]
[表1]
[0504]