技术特征：
1.一种显示面板，其特征在于，包括：衬底基板；遮光层，位于所述衬底基板上；缓冲层，位于所述衬底基板上，所述缓冲层覆盖所述遮光层；有源层，位于所述缓冲层上，所述有源层的材料为多晶硅，所述有源层包括沟道部以及位于所述沟道部两侧的源极接触部和漏极接触部，所述沟道部在所述遮光层上的正投影位于所述遮光层上；其中，所述衬底基板面向所述遮光层的一侧设置有第一凹槽，所述遮光层位于所述第一凹槽内。2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，在所述显示面板的出光方向上，所述第一凹槽的深度大于0且小于或等于所述遮光层的厚度。3.如权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述衬底基板包括第一衬底层和第二衬底层，所述第二衬底层位于所述第一衬底层面向所述遮光层的一侧表面，所述第一凹槽位于所述第二衬底层上。4.如权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述第一衬底层为玻璃基板，所述第二衬底层为氧化硅膜。5.如权利要求3所述的显示面板，其特征在于，在所述显示面板的出光方向上，所述第二衬底层的厚度等于所述第一凹槽的深度。6.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，在垂直于所述显示面板的出光方向上，所述遮光层的宽度大于所述有源层的宽度，所述有源层在所述遮光层上的正投影位于所述遮光层上。7.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括：在衬底基板上制备第一凹槽；在所述第一凹槽内制备遮光层；在所述衬底基板上制备缓冲层，所述缓冲层覆盖所述遮光层；在所述缓冲层上制备有源层，所述有源层的材料为多晶硅，所述有源层包括沟道部以及位于所述沟道部两侧的源极接触部和漏极接触部，所述沟道部在所述遮光层上的正投影位于所述遮光层上。8.如权利要求7所述的显示面板的制备方法，其特征在于，在所述显示面板的出光方向上，所述第一凹槽的深度大于0且小于或等于所述遮光层的厚度。9.如权利要求8所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述在衬底基板上制备第一凹槽的步骤，包括：在第一衬底层上制备第二衬底层；在所述第二衬底层上制备第一凹槽。10.一种显示终端，其特征在于，包括终端主体和如权利要求1至6任一项所述的显示面板，所述终端主体与所述显示面板组合为一体。
技术总结
本发明提供一种显示面板及其制备方法、显示终端，显示面板包括衬底基板、遮光层、缓冲层以及有源层，有源层的材料为多晶硅，有源层包括沟道部以及位于沟道部两侧的源极接触部和漏极接触部，沟道部在遮光层上的正投影位于遮光层上，衬底基板面向遮光层的一侧设置有第一凹槽，遮光层位于第一凹槽内；本发明通过在衬底基板面向遮光层的一侧设置第一凹槽，将遮光层设置于第一凹槽内，以减小遮光层在衬底基板上的凸起，从而减小缓冲层在遮光层的边界处形成的凸起，避免多晶硅在晶化过程中晶界在凸起处聚集造成的群亮暗点，从而可以提升产品良率。率。率。
技术研发人员：黄建龙
受保护的技术使用者：武汉华星光电技术有限公司
技术研发日：2022.02.16
技术公布日：2022/5/31