掩膜板、凸透镜的制备方法、凸透镜和显示面板与流程

1.本技术涉及显示技术领域，尤其涉及一种掩膜板、凸透镜的制备方法、凸透镜和显示面板。


背景技术：

2.有机发光二极管(organic light-emitting diode，简称oled)显示技术具有成本低、视角宽、驱动电压低、响应速度快、发光色彩丰富、制备工艺简单、可实现大面积显示等优点，是具有发展前景的显示技术之一。
3.由于常规的oled显示面板的层状结构，发光层产生的光的传播受到限制，仅有约20％的光发射到oled显示面板之外。通常提高出光率方法包括：oled显示面板内部结构的改进，oled显示面板出光面改进等等。其中，在oled显示面板中设置微透镜(microlens)被认为是具有发展前景的技术之一。
4.然而，在oled行业中，微透镜的制备工艺仍不成熟，亟需一种掩膜结构，用于制备oled显示面板中的微透镜。


技术实现要素：

5.为了解决背景技术中提到的至少一个问题，本技术实施例提供一种掩膜板、凸透镜的制备方法、凸透镜和显示面板，便于在显示面板中制备凸透镜，丰富了凸透镜的制备工艺。
6.为了实现上述目的，本技术实施例提供如下技术方案：
7.本技术实施例的第一方面提供一种掩膜板，该掩膜板包括至少一个图案单元，所述图案单元包括多个遮光部，部分所述遮光部位于所述图案单元的中心，且多个所述遮光部沿远离所述图案单元的中心方向呈辐射状排布；相邻所述遮光部之间具有透光口，朝远离所述图案单元的中心的方向，所述透光口的开口尺寸逐渐增大。
8.本技术实施例提供的掩膜板，通过设置图案单元，可以通过图案单元在光刻胶上形成对应的图形。通过设置多个遮光部，并且多个遮光部沿图案单元的中心辐射状排布，并且相邻遮光部之间的透光口的开口尺寸朝远离图案单元的中心的方向逐渐增大。这样，光刻机的光线照射在掩膜板上时，由于遮光部能够遮光，并且相邻遮光部之间的透光口的开口尺寸朝远离图案单元中心的方向逐渐增大，因此正性光刻胶上的光强从边缘向中心逐渐减弱，显影后正性光刻胶形成凸透镜图案。这种结构的掩膜板，便于在显示面板中制备凸透镜，丰富了凸透镜的制备工艺。
9.在一种可能的实现方式中，所述遮光部的远离所述图案单元的中心的一端和所述图案单元的中心之间具有距离r；所述遮光部的靠近所述图案单元的中心一端和远离所述图案单元的中心一端之间具有延伸线，相邻所述遮光部的延伸线之间具有第一夹角α；垂直于所述遮光部的延伸方向，所述遮光部具有宽度b，所述r、所述α和所述b之间的数值关系符合下式；
[0010][0011]
其中，所述l为预设参数，且所述b小于所述l。
[0012]
这样，可以避免相邻遮光部之间的透光口处对应的光刻胶被完全刻蚀掉，从而可以形成凸透镜图案。
[0013]
在一种可能的实现方式中，在所述遮光部的延伸方向上，所述遮光部的宽度处处相等。
[0014]
这样，遮光部的结构更简单，降低了图案单元的设置难度。
[0015]
在一种可能的实现方式中，在所述掩膜板所在的平面上，所述遮光部沿直线延伸。
[0016]
或，在所述掩膜板所在的平面上，所述遮光部沿弧线延伸。
[0017]
这样，可以丰富遮光部的形状，从而可以改变光刻胶上的光强排布。
[0018]
在一种可能的实现方式中，朝靠近所述图案单元的中心的方向，所述遮光部的宽度逐渐增大；
[0019]
具体的，在所述掩膜板所在的平面上，所述遮光部的形状为梯形。
[0020]
这样，可以使光刻胶靠近图案单元的中心处的光强更弱，从而使该区域的凸透镜厚度更厚。
[0021]
在一种可能的实现方式中，所述遮光部包括间隔设置的第一遮光部和第二遮光部，所述第一遮光部的所述延伸线和所述第二遮光部的所述延伸线之间具有第二夹角，且部分所述第一遮光部和部分所述第二遮光部相互重合；
[0022]
所述第一遮光部靠近所述第二遮光部一侧的侧边具有凸起部，所述第二遮光部靠近所述第一遮光部一侧的侧边具有凹陷部；所述凸起部和所述凹陷部的形状适配，且相对设置。
[0023]
这样，光刻胶靠近凸起部和凹陷部处的光强可以相互补偿，从而使光刻胶的同一圆周上的光强分布均匀。
[0024]
在一种可能的实现方式中，所述遮光部的一端位于所述图案单元的中心，所述遮光部的另一端朝远离所述图案单元的中心的方向延伸。
[0025]
或，所述遮光部在延伸方向上的中心与所述图案单元的中心重合，且所述遮光部的相对两端均朝远离所述图案单元的中心的方向延伸。
[0026]
这样，使遮光部具有两种设置方式，从而使图案单元可以具有不同的设置方式，降低图案单元的设置难度。
[0027]
本技术实施例的第二方面提供一种采用上述的掩膜板制备凸透镜的方法，包括：
[0028]
在基底上形成光刻胶；所述光刻胶为正性光刻胶；
[0029]
采用掩膜板对所述光刻胶进行曝光；所述掩膜板包括至少一个图案单元，所述图案单元包括多个遮光部，部分所述遮光部的位于所述图案单元的中心，且多个所述遮光部沿所述图案单元的中心呈辐射状排布；相邻所述遮光部之间具有透光口，朝远离所述图案单元的中心的方向，所述透光口的开口尺寸逐渐增大。
[0030]
对曝光后的所述光刻胶进行显影以形成凸透镜。
[0031]
本技术实施例提供的凸透镜的制备方法、凸透镜和显示面板，通过设置多个遮光部，并且多个遮光部沿图案单元的中心辐射状排布，并且相邻遮光部之间的透光口的开口
尺寸朝远离图案单元的中心的方向逐渐增大。这样，光刻机的光线照射在掩膜板上时，由于遮光部能够遮光，并且相邻遮光部之间的透光口的开口尺寸朝远离图案单元中心的方向逐渐增大，因此正性光刻胶上的光强从边缘向中心逐渐减弱，显影后正性光刻胶形成凸透镜图案。这种制备方法，便于在显示面板中制备凸透镜，丰富了凸透镜的制备工艺以及凸透镜在显示面板中的设置方式。
[0032]
本技术实施例的第三方面提供一种凸透镜，该凸透镜通过上述的凸透镜的制备方法制备而成。
[0033]
本技术实施例的第四方面提供一种显示面板，该显示面板包括上述的凸透镜。
[0034]
本技术实施例提供的凸透镜和显示面板，一方面便于在显示面板中制备凸透镜，降低了凸透镜的制备难度，丰富了凸透镜的制备工艺以及凸透镜在显示面板中的设置方式。另一方面可以提高屏下器件的光线入射率，提高显示面板的透光性能。
[0035]
本技术的构造以及它的其他申请目的及有益效果将会通过结合附图而对优选实施例的描述而更加明显易懂。
附图说明
[0036]
为了更清楚地说明本技术实施例或相关技术中的技术方案，下面将对实施例或相关技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0037]
图1为未设置凸透镜的显示面板的光线出射示意图；
[0038]
图2为设置有凸透镜的显示面板的光线出射示意图；
[0039]
图3为未设置凸透镜的显示面板的光线入射示意图；
[0040]
图4为设置有凸透镜的显示面板的光线入射示意图；
[0041]
图5为本技术实施例提供的掩膜板的结构示意图；
[0042]
图6a为本技术实施例提供的掩膜板的第一种图案单元的结构示意图；
[0043]
图6b为本技术实施例提供的掩膜板的第一种图案单元的遮光部的结构示意图；
[0044]
图7为本技术实施例提供的光刻胶在图案单元对应处的光强分布示意图；
[0045]
图8a为本技术实施例提供的掩膜板的第二种图案单元的结构示意图；
[0046]
图8b为本技术实施例提供的掩膜板的第二种图案单元的遮光部的结构示意图；
[0047]
图9a为本技术实施例提供的掩膜板的第三种图案单元的结构示意图；
[0048]
图9b为本技术实施例提供的掩膜板的第三种图案单元的遮光部的结构示意图；
[0049]
图10a为本技术实施例提供的掩膜板的第四种图案单元的结构示意图；
[0050]
图10b为本技术实施例提供的掩膜板的第四种图案单元的遮光部的结构示意图；
[0051]
图11为本技术实施例提供的掩膜板的第五种图案单元的结构示意图；
[0052]
图12为本技术实施例提供的凸透镜的制备方法的流程示意图。
[0053]
附图标记说明：
[0054]
100-显示面板；
[0055]
110-发光器件层；
[0056]
120-滤光层；
[0057]
130-透镜层；
[0058]
131-凸透镜；
[0059]
140-屏下器件；
[0060]
200-掩膜板；
[0061]
210-图案单元；
[0062]
210a-图案单元中心；
[0063]
211-遮光部；
[0064]
2111-第一遮光部；
[0065]
2111a-凸起部；
[0066]
2112-第二遮光部；
[0067]
2112a-凹陷部；
[0068]
212-透光口；
[0069]
221-第一端；
[0070]
222-第二端。
具体实施方式
[0071]
正如背景技术所述，常规的oled显示面板出光率较低，为了提高oled显示面板的出光率，通常会对显示面板内部结构进行改进，例如设置光调节层来增加出光率。此外，在oled显示面板中设置微透镜被认为是具有发展前景的技术之一。
[0072]
图1为未设置凸透镜的显示面板的光线出射示意图。图2为设置有凸透镜的显示面板的光线出射示意图。图1和图2中的显示面板100均包括发光器件层110和滤光层120，滤光层120位于靠近发光器件层110的出光面一侧。通过图1可知，发光器件层110发出的光线大部分在显示面板100内部发生折射，导致从显示面板100中发出的光线较少。在图2中，滤光层120和发光器件层110之间设置有透镜层130，透镜层130上设置有阵列排布的凸透镜131。通过图2可知，发光器件层110发出的光线，经过凸透镜131折射会聚后，大部分光线可以从显示面板100中发出。
[0073]
图3为未设置凸透镜的显示面板的光线入射示意图。图4为设置有凸透镜的显示面板的光线入射示意图。图3和图4中的显示面板100的背光侧设置有屏下器件140，该屏下器件140可以为屏下指纹模组，屏下器件140可以接受外部物体(例如手指)反射后的光线。在图3中，外部光线进入显示面板100后，只有少部分光线可以入射至屏下器件140。在图4中，外部光线经过透镜层130中的凸透镜131折射后，大部分光线均可以入射至屏下器件140。由此可见，凸透镜131不仅可以提高oled显示面板100的出光率，还可以提高屏下器件140的外界光线入射率。
[0074]
然而，在oled行业中，微透镜的制备仍不成熟，亟需一种掩膜结构，在oled显示面板中制备微透镜。
[0075]
针对上述技术问题，本技术实施例提供了一种掩膜板、凸透镜的制备方法、凸透镜和显示面板，通过设置多个遮光部，并且多个遮光部沿远离图案单元的中心辐射状排布，并且相邻遮光部之间的透光口的开口尺寸朝远离图案单元的中心的方向逐渐增大。这样，光刻机的光线照射在掩膜板上时，由于遮光部能够遮光，并且相邻遮光部之间的透光口的开
口尺寸朝远离图案单元中心的方向逐渐增大，因此正性光刻胶上的光强从边缘向中心逐渐减弱，显影后正性光刻胶形成凸透镜图案。这种结构便于在显示面板中制备凸透镜，丰富了凸透镜的制备工艺以及凸透镜在显示面板中的设置方式。此外还可以提高屏下器件的光线入射率，提高显示面板的透光性能。
[0076]
为使本技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术的优选实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行更加详细的描述。在附图中，自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的部件或具有相同或类似功能的部件。所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本技术，而不能理解为对本技术的限制。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。下面结合附图对本技术的实施例进行详细说明。
[0077]
在本技术实施例的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应作广义理解，例如，可以使固定连接，也可以是通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或者两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0078]
图5为本技术实施例提供的掩膜板的结构示意图。图6a为本技术实施例提供的掩膜板的第一种图案单元的结构示意图。图6b为本技术实施例提供的掩膜板的第一种图案单元的遮光部的结构示意图。图7为本技术实施例提供的光刻胶在图案单元对应处的光强分布示意图。图8a为本技术实施例提供的掩膜板的第二种图案单元的结构示意图。图8b为本技术实施例提供的掩膜板的第二种图案单元的遮光部的结构示意图。图9a为本技术实施例提供的掩膜板的第三种图案单元的结构示意图。图9b为本技术实施例提供的掩膜板的第三种图案单元的遮光部的结构示意图。图10a为本技术实施例提供的掩膜板的第四种图案单元的结构示意图。图10b为本技术实施例提供的掩膜板的第四种图案单元的遮光部的结构示意图。图11为本技术实施例提供的掩膜板的第五种图案单元的结构示意图。参照图5-图11所示，本技术实施例第一方面提供一种掩膜板。
[0079]
如图5、图6a和图6b所示，该掩膜板200包括多个图案单元210，图案单元210包括多个遮光部211，遮光部211的一部分位于图案单元中心210a，且多个遮光部211沿远离图案单元中心210a的方向呈辐射状排布。相邻遮光部211之间具有透光口212，朝远离图案单元中心210a的方向，透光口212的开口尺寸逐渐增大。透光口212的开口尺寸指：以图案单元中心210a为圆心，在图案单元210的周向上，透光口212对应的弧长。该透光口212可以增加光刻机的光线的透过量，设置透光口212的开口尺寸沿图案单元中心210a向边缘逐渐增大，可以调节光刻胶上的光强分布。
[0080]
在本技术实施例中，掩膜板200用于阵列基板的制备工艺，并且是通过正性光刻胶在阵列基板上形成凸透镜图案。可以理解的是，正性光刻胶的曝光部分发生光化学反应会溶于显影液，而未曝光部分不溶于显影液，仍然保留在基底上，正性光刻胶将与掩膜板200上相同的图形复制到基底上。
[0081]
需要说明的是，通过设置图案单元210，可以通过图案单元210在光刻胶上形成对应的图形。通过设置多个遮光部211，并且多个遮光部211沿远离图案单元中心210a的方向呈辐射状排布，并且相邻遮光部211之间的透光口212朝远离图案单元中心210a的方向逐渐
增大。这样，光刻机的光线照射在掩膜板200上时，由于遮光部211能够遮光，遮光部211之间的透光口212可以透光，因此正性光刻胶上的光强从边缘向中心逐渐减弱，光强分布如图7所示，显影后正性光刻胶在光强弱的区域厚度较厚，光强强的区域厚度较薄，从而形成凸透镜图案。这种结构，便于在显示面板中制备凸透镜，降低了凸透镜的制备难度。具体的，可以在显示面板的阵列基板上采用正性光刻胶制备凸透镜，丰富了凸透镜的制备工艺。
[0082]
在本技术实施中，如图5所示，多个图案单元210在掩膜板上阵列排布。可以理解的是，掩膜板200的图案单元210的数量以及排布方式可以根据实际进行设置，本技术实施例对掩膜板200的图案单元210的数量和排布方式不作限定。
[0083]
需要说明的是，相邻遮光部211之间的透光口212以及遮光部211的宽度应小于预设参数，预设参数可以为光刻机的分辨率，即光刻工艺中与该掩膜板200配合的光刻机的分辨率。这样，能够避免相邻遮光部211之间的透光口212处对应的光刻胶被完全刻蚀掉，从而可以形成凸透镜图案。可以理解的是，光刻机的分辨率可以根据实际需要进行选择，本技术实施例对光刻机的分辨率不作限定。
[0084]
具体的，如图6a和图9a所示，遮光部211远离图案单元中心210a的一端和图案单元中心210a之间具有距离r；遮光部211包括第一端221和第二端222，第一端221为遮光部211靠近图案单元中心210a的一端，第二端222为遮光部211远离图案单元中心210a的一端。将第一端221和第二端222连接起来的直线为延伸线(并非真实存在的线)，相邻两个遮光部211的延伸线之间具有夹角α；垂直于遮光部211的延伸方向，遮光部211具有宽度b，r、α和b之间的数值关系符合下式；
[0085][0086]
其中，l为预设参数，即光刻机的分辨率，且b＜l。上式中的左半部分表示相邻遮光部211之间的透光口212的开口尺寸。可以理解的是，相邻遮光部211之间的透光口212的开口尺寸在图案单元210的边缘处最大，因此只需要保证该处的透光口212的开口尺寸小于等于预设参数即可，相对应的，r应是该处的遮光部211和图案单元中心210a之间的距离，r也可以理解为该处的遮光部211的半径值。
[0087]
如图6a所示，遮光部211第一端221和第二端222之间的延伸线为直线，相邻两个遮光部211的延伸线分别为c1和c2，c1和c2之间的夹角为α。而遮光部211的长度的延伸方向为x，遮光部211的延伸方向与遮光部211长度的延伸轨迹一致。其中，延伸轨迹(x)可以与延伸线(c1、c2)一致。例如，遮光部211大致为矩形时，遮光部211中心线可以与延伸线(c1、c2)、遮光部211的延伸轨迹(x)重叠。
[0088]
如图9a所示，遮光部211第一端221和第二端222之间的延伸线为直线，相邻两个遮光部211的延伸线分别为c3和c4，c3和c4之间的夹角为α。而遮光部211的长度的延伸方向为y，遮光部211的延伸方向与遮光部211长度的延伸轨迹一致。其中，遮光部211延伸轨迹(y)可以与延伸线(c3、c4)不一致。例如，遮光部211大致为弧状时，其延伸轨迹(y)呈弧状，延伸线(c3、c4)为直线。
[0089]
可以理解的是，在图案单元210的设置中，可以有以下两种方式：
[0090]
在第一种可能的实现方式中，如图6b所示，遮光部211的中心位于图案单元中心210a，遮光部211的相对两端均朝远离图案单元中心210a的方向延伸。遮光部211以图案单
元中心210a为中心进行环形阵列，即得到图6a中的图案单元210。
[0091]
在第二种可能的实现方式中，如图8b所示，遮光部211的一端位于图案单元中心210a，遮光部211的另一端朝远离图案单元中心210a的方向延伸。遮光部211以图案单元中心210a为中心进行环形阵列，即得到图8a中的图案单元210。
[0092]
可以理解的是，这两种方式都可以形成图案单元210，使遮光部211具有两种设置方式，用户在设置过程中可以根据实际进行选择，降低了图案单元210的设置难度。
[0093]
在一种可能的实现方式中，如图6a和6b所示，在遮光部211的延伸方向上，遮光部211的宽度处处相等。其中，遮光部211的延伸方向指遮光部211的长度方向。这种设置方式，使遮光部211的结构更简单，降低了图案单元210的设置难度。
[0094]
具体的，在掩膜板200所在的平面上，遮光部211沿直线延伸，即遮光部211的形状为矩形。这里需要说明的的是，如图9a和9b所示，在掩膜板200所在的平面上，遮光部211沿弧线延伸，即遮光部211的形状为弧状。
[0095]
在一种可能的实现方式中，如图10a和图10b所示，朝靠近图案单元中心210a的方向，遮光部211的宽度逐渐增大。具体的，在掩膜板200所在的平面上，遮光部211的形状为梯形。这样，可以使图案单元中心210a处的遮光效果更好，从而使光刻胶靠近图案单元中心210a处的光强更弱，使凸透镜在该区域的厚度更厚。
[0096]
在一种可能的实现方式中，如图11所示，遮光部211包括间隔设置的第一遮光部2111和第二遮光部2112，第一遮光部2111的延伸线和第二遮光部2112的延伸线具有夹角，其原理与夹角为α类似，不再赘述。且部分第一遮光部2111和部分第二遮光部2112重合。第一遮光部2111靠近第二遮光部2112一侧的侧边具有凸起部2111a，第二遮光部2112靠近第一遮光部2111一侧的侧边具有凹陷部2112a。凸起部2111a和凹陷部2112a的形状相适配，且相对设置。可以理解的是，形状相适配指的是凸起部2111a和凹陷部2112a的外轮廓相同。这样，光刻胶在靠近凸起部2111a和凹陷部2112a处的光强可以相互补偿，从而使光刻胶的同一圆周上的光强分布均匀。
[0097]
可以理解的是，凸起部2111a和凹陷部2112a的数量也可以有多个，本技术实施例对凸起部2111a和凹陷部2112a的数量不作限定，用户可以根据实际进行选择。
[0098]
图12为本技术实施例提供的凸透镜的制备方法的流程示意图。参照图12所示，本技术实施例的第二方面提供一种凸透镜的制备方法。
[0099]
该凸透镜的制备方法包括：
[0100]
s1：在基底上形成光刻胶。其中，基底可以是玻璃或聚酰亚胺，光刻胶为正性光刻胶。
[0101]
s2：采用掩膜板对光刻胶进行曝光。参照图6a所示，掩膜板200包括至少一个图案单元210，图案单元210包括多个遮光部211，每个遮光部211的一部分位于图案单元中心210a，且多个遮光部211沿远离图案单元中心210a的方向呈辐射状排布。相邻遮光部211之间具有透光口212，朝远离图案单元中心210a的方向，透光口212的开口尺寸逐渐增大。图案单元210在基底上的正投影与基底上待形成的凸透镜的区域重叠。
[0102]
s3：对曝光后的光刻胶进行显影以形成凸透镜。采用掩膜板200对光刻胶进行曝光和显影后，所形成的具有凸透镜形状的光刻胶图案为从边缘到中心厚度逐渐增大的凸透镜图案。
[0103]
需要说明的是，相邻遮光部211之间的透光口212的开口尺寸以及遮光部211的宽度应小于预设参数，预设参数可以为光刻机的分辨率，即光刻工艺中与该掩膜板200配合的光刻机的分辨率。这样，能够避免相邻遮光部211之间的透光口212处对应的光刻胶被完全刻蚀掉，从而可以形成凸透镜图案。可以理解的是，光刻机的分辨率可以根据实际需要进行选择，本技术实施例对光刻机的分辨率不作限定。
[0104]
本技术实施例提供的凸透镜的制备方法，通过设置多个遮光部211，并且多个遮光部211沿远离图案单元中心210a的方向辐射状排布，并且相邻遮光部211之间的透光口212的开口尺寸朝远离图案单元中心210a的方向逐渐增大。这样，光刻机的光线照射在掩膜板200上时，由于遮光部211能够遮光，遮光部211之间的透光口212可以透光，因此正性光刻胶上的光强从边缘向中心逐渐减弱，显影后正性光刻胶形成凸透镜图案。这种凸透镜的制备方法可以在显示面板的阵列基板上采用正性光刻胶制备凸透镜，丰富了凸透镜的制备工艺以及凸透镜在显示面板中的设置方式。
[0105]
本技术实施例的第三方面提供一种凸透镜，该凸透镜通过上述的凸透镜的制备方法制备而成。
[0106]
本技术实施例的第四方面提供一种显示面板，该显示面板包括上述的凸透镜，显示面板包括阵列基板，阵列基板上设置有发光层，凸透镜位于阵列基板上且位于背离发光层的发光面的一侧，此外，显示面板还可以设置有屏下器件，凸透镜用于提高屏下器件的光线入射率。
[0107]
显示面板可以是有机发光半导体(organic light-emitting diode，简称oled)显示面板、液晶显示器(liquid crystal display，简称lcd)、次毫米发光二极管(mini light-emitting diode，简称mini led)显示面板或微米发光二极管(micro light-emitting diode，简称micro led)显示面板。
[0108]
本技术实施例提供的凸透镜和显示面板，一方面不仅便于在显示面板中制备凸透镜，降低了凸透镜的制备难度。具体的，可以在显示面板的阵列基板上采用正性光刻胶制备凸透镜，丰富了凸透镜的制备工艺以及凸透镜在显示面板中的设置方式。另一方面可以提高屏下器件的光线入射率，从而提高显示面板的透光性能。
[0109]
在本技术实施例的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或者位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或者暗示所指的装置或者元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。在本技术的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非是另有精确具体地规定。
[0110]
本技术的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”、“第三”、“第四”等(如果存在)是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本技术的实施例例如能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含，例如，包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。
[0111]
最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本技术的技术方案，而非对其限制；尽
管参照前述各实施例对本技术进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本技术各实施例技术方案的范围。