带相位差层的偏振片的制造方法与流程

1.本发明涉及带相位差层的偏振片的制造方法。


背景技术：

2.以液晶显示装置及电致发光(el)显示装置(例如有机el显示装置、无机el显示装置)为代表的图像显示装置正在急速地普及。在图像显示装置中搭载的图像显示面板中，代表性而言，使用了偏振片及相位差板。在实用上，广泛使用了将偏振片与相位差板一体化而得到的带相位差层的偏振片(例如专利文献1)。其中，期望良好地进行偏振片与相位差层的层叠来提高带相位差层的偏振片的制造效率。
3.现有技术文献
4.专利文献
5.专利文献1：日本专利第3325560号公报


技术实现要素：

6.发明所要解决的课题
7.鉴于上述情况，本发明的主要目的在于成品率良好地制造带相位差层的偏振片。
8.用于解决课题的手段
9.根据本发明的实施方式，提供一种带相位差层的偏振片的制造方法。该制造方法依次包含：准备依次包含剥离膜、粘合剂层、第一相位差层及与上述第一相位差层相邻地配置的基材的层叠物；将上述剥离膜从上述粘合剂层剥离；以及在偏振片上贴合上述层叠物。
10.在一个实施方式中，将上述剥离膜相对于上述粘合剂层的表面沿120
°
～180
°
的方向进行剥离。
11.在一个实施方式中，上述制造方法包含在上述偏振片上贴合上述层叠物之后将上述基材从上述第一相位差层剥离。
12.在一个实施方式中，上述剥离膜相对于上述粘合剂层的剥离力小于上述第一相位差层相对于上述基材的剥离力。
13.在一个实施方式中，f1相对于f2之比(f1/f2)在剥离速度为1000mm/秒及剥离角度为180
°
时低于1，在剥离速度为1000mm/秒及剥离角度为90
°
时为1以上，f1为上述剥离膜相对于上述粘合剂层的剥离力，f2为上述第一相位差层相对于上述基材的剥离力。
14.在一个实施方式中，上述制造方法包含在上述偏振片上贴合上述层叠物之前将上述层叠物的端部切断，通过上述切断，将上述粘合剂层的端面与上述第一相位差层的端面设定在同一平面。也可以在上述切断后将上述剥离膜从上述粘合剂层剥离。
15.在一个实施方式中，在上述偏振片的端部处形成识别代码。
16.在一个实施方式中，上述第一相位差层为液晶化合物的取向固化层。
17.在一个实施方式中，上述第一相位差层的厚度为5μm以下。
18.在一个实施方式中，上述粘合剂层的厚度为10μm以下。
19.在一个实施方式中，上述粘合剂层的厚度为6μm以上。
20.在一个实施方式中，上述制造方法包含在上述偏振片上贴合上述层叠物之后进一步层叠第二相位差层。
21.发明效果
22.根据本发明的实施方式，能够成品率良好地制造带相位差层的偏振片。
附图说明
23.图1a是表示本发明的一个实施方式的带相位差层的偏振片的制造工序1的图。
24.图1b是表示接着上述工序1的工序2的图。
25.图1c是表示接着上述工序2的工序3的图。
26.图1d是表示接着上述工序3的工序4的图。
27.图1e是表示接着上述工序4的工序5的图。
28.图2是表示将剥离膜从层叠物剥离的状态的一个例子的图。
29.图3是表示层叠物(工序1)的变形例的图。
30.符号的说明
31.11基材
32.12基材
33.20相位差层
34.21第一相位差层
35.22第二相位差层
36.30粘合剂层
37.40剥离膜
38.50保护材
39.60表面保护膜
40.69起偏器
41.70偏振片
42.71第一保护层
43.72第二保护层
44.80粘合剂层
45.90剥离膜
46.100层叠物
47.110带相位差层的偏振片
具体实施方式
48.以下，对于本发明的实施方式参照附图进行说明，但本发明并不限定于这些实施方式。此外，附图为了使说明更加明确，与实施方式相比，对于各部的宽度、厚度、形状等有时示意性表示，但到底是一个例子，并不限定本发明的解释。
49.(术语及符号的定义)
50.本说明书中的术语及符号的定义如下所述。
51.(1)折射率(nx、ny、nz)
[0052]“nx”是面内的折射率成为最大的方向(即，慢轴方向)的折射率，“ny”是在面内与慢轴正交的方向(即，快轴方向)的折射率，“nz”是厚度方向的折射率。
[0053]
(2)面内相位差(re)
[0054]“re(λ)”是23℃下的由波长λnm的光测定得到的面内相位差。例如，“re(550)”是23℃下的由波长550nm的光测定得到的面内相位差。在将层(膜)的厚度设定为d(nm)时，re(λ)通过式：re(λ)＝(nx-ny)
×
d而求出。
[0055]
(3)厚度方向的相位差(rth)
[0056]“rth(λ)”是23℃下的由波长λnm的光测定得到的厚度方向的相位差。例如，“rth(550)”是23℃下的由波长550nm的光测定得到的厚度方向的相位差。在将层(膜)的厚度设定为d(nm)时，rth(λ)通过式：rth(λ)＝(nx-nz)
×
d而求出。
[0057]
(4)nz系数
[0058]
nz系数通过nz＝rth/re而求出。
[0059]
(5)角度
[0060]
本说明书中在言及角度时，该角度包含相对于基准方向为顺时针及逆时针这两者。因此，例如“45
°”
是指
±
45
°
。
[0061]
本发明的一个实施方式的带相位差层的偏振片的制造方法依次包含：准备依次包含剥离膜、粘合剂层、第一相位差层及与第一相位差层相邻地配置的基材的层叠物；将剥离膜从粘合剂层剥离；以及在偏振片上贴合层叠物。
[0062]
图1a～图1e是表示本发明的一个实施方式的带相位差层的偏振片的制造方法的工序的图。在图1a中所示的工序1中，在形成于基材11上的第一相位差层21的上方形成粘合剂层30，在粘合剂层30上配置剥离膜40而得到层叠物100。在形成粘合剂层30之前，第一相位差层21的上表面也可以被表面保护膜保护(未图示)。剥离膜40相对于粘合剂层30可剥离地贴合，可保护粘合剂层30。层叠物100为长条状，例如可卷绕成卷状。这里，所谓“长条状”是指长度相对于宽度充分地长的细长形状，例如是指长度相对于宽度为10倍以上、优选为20倍以上的细长形状。
[0063]
在工序1中，第一相位差层21的端面21a位于比基材11的端面11a更靠内侧，位于比粘合剂层30的端面30a更靠外侧。此外，粘合剂层30的端面30a位于比剥离膜40的端面40a更靠内侧。
[0064]
在工序2中，沿着图1a中的虚线将层叠物的宽度方向端部切断(切削)，图1b示出了切断完成后的状态。通过切断，将粘合剂层30的端面30a与第一相位差层21的端面21a设定在同一平面。通过将第一相位差层21的上表面未被粘合剂层30覆盖的端部21b除去，从而在制造工序中，可防止异物附着于第一相位差层21的上表面等污染。此外，还可抑制制造机(具体而言，制造机的机内)中的污染。通过制作图1a中所示那样的层叠物，能够在后述的偏振片与相位差层的层叠前进行这样的切断，可有助于成品率的提高。
[0065]
在图1c中所示的工序3中，将剥离膜40剥离后的层叠物100贴合于偏振片70上。偏振片70与层叠物100(第一相位差层21)的层叠例如一边将它们进行卷搬送(通过所谓的卷对卷)一边进行。
[0066]
偏振片70包含起偏器69、配置于起偏器69的目视确认侧(不配置第一相位差层21
的一侧)的第一保护层71、和配置于起偏器69的另一侧(起偏器69与第一相位差层21之间)的第二保护层72。在图示例中，偏振片70的上表面70a被表面保护膜60保护。表面保护膜60虽然未图示，但包含基材和形成于基材的单侧的粘合剂层，相对于偏振片70可剥离地贴合。与图示例不同，偏振片70的第二保护层72也可以省略。此外，虽然未图示，但在贴合层叠物100之前，偏振片70的下表面70b也可以被表面保护膜保护。
[0067]
图2是表示将剥离膜从层叠物剥离的状态的一个例子的图。在图示例中，一边将层叠物100沿长度方向l进行卷搬送，一边将剥离膜40剥离。例如，通过将未图示的胶带贴附于剥离膜40的表面，并将该胶带拉伸，从而将剥离膜40从层叠物100(粘合剂层30)剥离。剥离膜40的剥离方向是相对于粘合剂层30的表面30b(搬送方向)成角度θ的方向。在图示例中，使用折返构件m将剥离膜40沿剥离方向折返。
[0068]
上述角度θ(剥离角度)优选为120
°
以上。具体而言，优选为120
°
～180
°
。角度θ(剥离角度)更优选为140
°
以上，进一步优选为160
°
以上。通过以这样的剥离角度将剥离膜40剥离，可降低将剥离膜40从粘合剂层30剥离时的剥离力，提高剥离时的作业性。具体而言，使剥离膜40相对于粘合剂层30的剥离力(f1)小于第一相位差层21相对于基材11的剥离力(f2)而将剥离膜40剥离时，能够防止在第一相位差层21与基材11之间产生剥离(能够防止剥离不良)，可有助于成品率的提高。f1相对于f2之比(f1/f2)优选低于1，更优选为0.8以下，进一步优选为0.6以下。
[0069]
剥离膜40相对于粘合剂层30的剥离力(f1)优选为0.1n/25mm以下，更优选为0.08n/25mm以下，进一步优选为0.06n/25mm以下。这样的剥离力可通过上述剥离角度而良好地达成。需要说明的是，f1例如也可通过适当选择粘合剂层30的构成、剥离膜40的种类等来调整。
[0070]
第一相位差层21相对于基材11的剥离力(f2)例如也可以超过0.06n/25mm且为1n/25mm以下，也可以为0.5n/25mm以下。
[0071]
在一个实施方式中，上述f1相对于f2之比(f1/f2)在剥离速度1000mm/秒及剥离角度为180
°
时低于1，在剥离速度1000mm/秒及剥离角度为90
°
时为1以上。
[0072]
如上所述，根据上述工序，能够在偏振片70与第一相位差层21的层叠前将第一相位差层21的端部21b除去，不用将偏振片70切断，可有助于成品率的提高。此外，如图1c中所示的那样，在偏振片70(在实用上，贴合于偏振片70的上表面的表面保护膜60)的宽度方向端部处，例如可形成(印刷)表示检测到的缺陷(例如，外观上的缺陷)的识别代码(例如，二维代码)k，但识别代码k也不会通过第一相位差层21的端部21b的除去而被除去。
[0073]
在图1d中所示的工序4中，在偏振片70与第一相位差层21的层叠后，将基材11从第一相位差层21剥离，在第一相位差层21上介由未图示的粘接层而层叠基材12上所形成的第二相位差层22。根据这样的工序，对于相位差层21、22各自，能够容易地进行缺陷(例如，外观上的缺陷)的探测，可有助于成品率的提高。在图示例中，第二相位差层22的端面22a位于比第一相位差层21的端面21a更靠内侧，但它们的位置关系没有特别限定。具体而言，第二相位差层22的宽度可以小于第一相位差层21的宽度，也可以大于，还可以相同。需要说明的是，在图示例中，设置有第二相位差层22，但也可以不设置。本说明书中，有时将至少包含第一相位差层21的层简称为相位差层20。具体而言，相位差层20可以具有两层以上的层叠结构，也可以制成单一层。在图示例中，相位差层20具有包含第一相位差层21及第二相位差层
22的层叠结构。
[0074]
在图1e中所示的工序5中，将基材12从第二相位差层22剥离，形成粘合剂层80，介由粘合剂层80将剥离膜90贴合于第二相位差层22上而得到带相位差层的偏振片110。在实用上，通过粘合剂层80，带相位差层的偏振片110被制成可贴附于图像显示面板主体上。剥离膜90可作为带相位差层的偏振片110被供于使用之前临时粘接的隔膜发挥功能。通过临时粘接剥离膜，例如能够保护粘合剂层，并且形成带相位差层的偏振片的卷。
[0075]
虽然未图示，但层叠物100也可以包含其他的构件。图3是表示层叠物(工序1)的变形例的图。在图3中所示的工序1的变形例中，在形成于基材11上的第一相位差层21上形成相位差层的保护材50，在保护材50上形成粘合剂层30，在粘合剂层30上配置剥离膜40而得到层叠物100。在形成保护材50之前，第一相位差层21的上表面也可以被表面保护膜保护(未图示)。此外，在形成粘合剂层30之前，保护材50的上表面也可以被表面保护膜保护(未图示)。
[0076]
上述各构件可介由任意适宜的粘接层(一部分未图示)而层叠。作为粘接层的具体例子，可列举出粘接剂层、粘合剂层。例如，第一相位差层21与第二相位差层22介由粘接剂层而贴合。具体而言，使用活性能量射线固化型粘接剂而贴合。活性能量射线固化型粘接剂的固化后的厚度(粘接剂层的厚度)例如为0.2μm～3.0μm，优选为0.4μm～2.0μm，更优选为0.6μm～1.5μm。
[0077]
1.偏振片
[0078]
上述偏振片包含起偏器和保护层。偏振片的厚度虽然也因所包含的保护层的数目而异，但优选为20μm以上，更优选为25μm以上。另一方面，偏振片的厚度优选为75μm以下。偏振片的厚度可以为70μm以下，也可以为60μm以下，也可以为50μm以下，还可以为40μm以下。需要说明的是，对于偏振片的厚度，在将起偏器与保护层层叠时使用粘接层(例如粘接剂层)的情况下，其厚度不包含在内。
[0079]
上述起偏器代表性而言为包含二色性物质(例如碘)的树脂膜。作为树脂膜，例如可列举出聚乙烯醇(pva)系膜、部分甲缩醛化pva系膜、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等亲水性高分子膜。
[0080]
起偏器的厚度优选为15μm以下，更优选为12μm以下，进一步优选为10μm以下，特别优选为8μm以下。另一方面，起偏器的厚度优选为1μm以上。
[0081]
起偏器优选在波长380nm～780nm的任一波长下显示出吸收二色性。起偏器的单体透射率例如为41.5％～46.0％，优选为42.0％～46.0％，更优选为44.5％～46.0％。起偏器的偏光度优选为97.0％以上，更优选为99.0％以上，进一步优选为99.9％以上。
[0082]
上述保护层可由可作为起偏器的保护层使用的任意适宜的膜来形成。作为成为该膜的主要成分的材料的具体例子，可列举出三乙酰纤维素(tac)等纤维素系树脂、聚酯系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚酰胺系、聚酰亚胺系、聚醚砜系、聚砜系、聚苯乙烯系、聚降冰片烯等环烯烃系、聚烯烃系、(甲基)丙烯酸系、乙酸酯系等树脂。
[0083]
通过本发明的实施方式得到的带相位差层的偏振片代表性而言配置于图像显示装置的目视确认侧，第一保护层71配置于目视确认侧。因此，对于第一保护层71，根据需要，也可以实施硬涂(hc)处理、防反射处理、防粘连处理、防眩处理等表面处理。
[0084]
保护层的厚度优选为5μm～80μm，更优选为10μm～40μm，进一步优选为15μm～35μ
m。需要说明的是，在实施上述表面处理的情况下，第一保护层71的厚度为包含表面处理层的厚度在内的厚度。
[0085]
配置于起偏器69与第一相位差层21之间的第二保护层22在一个实施方式中优选在光学上为各向同性。本说明书中所谓“在光学上为各向同性”是指面内相位差re(550)为0nm～10nm，厚度方向的相位差rth(550)为-10nm～+10nm。第二保护层22的厚度优选为5μm～80μm，更优选为10μm～40μm，进一步优选为10μm～30μm。
[0086]
偏振片可通过任意适宜的方法来制作。具体而言，偏振片可以包含由单层的树脂膜制作的起偏器，也可以包含使用两层以上的层叠体而得到的起偏器。
[0087]
由上述单层的树脂膜来制造起偏器的方法代表性而言包含对树脂膜实施利用碘或二色性染料等二色性物质的染色处理和拉伸处理。作为树脂膜，例如使用聚乙烯醇(pva)系膜、部分甲缩醛化pva系膜、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等亲水性高分子膜。该方法也可以进一步包含不溶化处理、溶胀处理、交联处理等。通过在所得到的起偏器的至少一侧层叠保护层，可得到偏振片。这样的制造方法由于在本技术领域是周知惯用的，因此省略详细的说明。
[0088]
使用上述层叠体而得到的起偏器例如可使用树脂基材与树脂膜或树脂层(代表性而言，pva系树脂层)的层叠体来制作。具体而言，可通过将pva系树脂溶液涂布于树脂基材上并使其干燥而在树脂基材上形成pva系树脂层，得到树脂基材与pva系树脂层的层叠体；将该层叠体进行拉伸及染色而将pva系树脂层制成起偏器，由此来制作。本实施方式中，优选在树脂基材的单侧形成包含卤化物和pva系树脂的pva系树脂层。拉伸代表性而言包含将层叠体浸渍于硼酸水溶液中而进行拉伸。进而，拉伸根据需要可进一步包含在硼酸水溶液中的拉伸之前将层叠体在高温(例如95℃以上)下进行空中拉伸。此外，本实施方式中，优选层叠体被供于通过一边沿长度方向进行搬送一边进行加热而沿宽度方向收缩2％以上的干燥收缩处理。代表性而言，本实施方式的制造方法包含对层叠体依次实施空中辅助拉伸处理、染色处理、水中拉伸处理和干燥收缩处理。通过导入辅助拉伸，从而即使是在热塑性树脂上涂布pva的情况下，也能够提高pva的结晶性，可达成高的光学特性。此外，通过同时事先提高pva的取向性，从而在之后的染色工序或拉伸工序中浸渍于水中时，能够防止pva的取向性的降低或溶解等问题，可达成高的光学特性。进而，在将pva系树脂层浸渍于液体中的情况下，与pva系树脂层不含卤化物的情况相比，可抑制pva分子的取向的紊乱、及取向性的降低，可达成高的光学特性。进而，通过利用干燥收缩处理使层叠体沿宽度方向收缩，可达成高的光学特性。所得到的树脂基材/起偏器的层叠体可以直接使用(即，也可以将树脂基材作为起偏器的保护层)，也可以在将树脂基材从树脂基材/起偏器的层叠体上剥离后的剥离面上或者与剥离面相反侧的面上层叠与目的相应的任意适宜的保护层而使用。这样的起偏器的制造方法的详细情况例如记载于日本特开2012-73580号公报、日本专利第6470455号中。这些公报的整体的记载作为参考被援引于本说明书中。
[0089]
2.相位差层
[0090]
相位差层20的厚度虽然也因其构成(是单一层还是具有层叠结构)而异，但例如为1μm～10μm，优选为8μm以下，更优选为7μm以下。第一相位差层21的厚度优选为5μm以下。需要说明的是，在相位差层为层叠结构的情况下，“相位差层的厚度”是指各相位差层的厚度的合计。具体而言，“相位差层的厚度”中不包含粘接层的厚度。
[0091]
作为上述相位差层，优选使用液晶化合物的取向固化层(液晶取向固化层)。通过使用液晶化合物，例如由于能够使所得到的相位差层的nx与ny之差与非液晶材料相比格外大，因此能够格外减小用于得到所期望的面内相位差的相位差层的厚度。因此，能够实现带相位差层的偏振片的显著的薄型化。本说明书中所谓“取向固化层”是指液晶化合物在层内沿规定的方向取向且该取向状态被固定的层。需要说明的是，“取向固化层”是包含如下文所述的那样使液晶单体固化而得到的取向固化层的概念。在相位差层中，代表性而言，棒状的液晶化合物以沿相位差层的慢轴方向排列的状态进行取向(水平取向)。
[0092]
上述液晶取向固化层可通过对基材(基材11、12)的表面实施取向处理，在该表面涂装包含液晶化合物的涂装液并使该液晶化合物沿与上述取向处理对应的方向取向并将该取向状态固定来形成。作为基材(基材11、12)，代表性而言，使用聚合物膜。作为聚合物膜的材料，例如可列举出纤维素系聚合物、聚降冰片烯等环烯烃系聚合物。基材的厚度例如为5μm～100μm。
[0093]
作为上述取向处理，可采用任意适宜的取向处理。具体而言，可列举出机械取向处理、物理取向处理、化学取向处理。作为机械取向处理的具体例子，可列举出摩擦处理、拉伸处理。作为物理取向处理的具体例子，可列举出磁场取向处理、电场取向处理。作为化学取向处理的具体例子，可列举出斜向蒸镀法、光取向处理。各种取向处理的处理条件可根据目的而采用任意适宜的条件。
[0094]
液晶化合物的取向通过根据液晶化合物的种类在显示出液晶相的温度下进行处理来进行。通过进行这样的温度处理，液晶化合物采取液晶状态，该液晶化合物与基材表面的取向处理方向相应地进行取向。
[0095]
取向状态的固定在一个实施方式中通过将如上述那样取向后的液晶化合物冷却来进行。在液晶化合物为聚合性单体或交联性单体的情况下，取向状态的固定通过对如上述那样取向后的液晶化合物实施聚合处理或交联处理来进行。
[0096]
液晶化合物的具体例子及取向固化层的形成方法的详细情况被记载于日本特开2006-163343号公报中。该公报的记载作为参考被援引于本说明书中。
[0097]
相位差层可以如上所述为单一层，也可以具有两层以上的层叠结构。
[0098]
与图示例不同，在相位差层为单一层的情况的一个实施方式中，相位差层可作为λ/4板发挥功能。具体而言，相位差层的re(550)优选为100nm～180nm，更优选为110nm～170nm，进一步优选为110nm～160nm。相位差层的厚度可按照可得到λ/4板的所期望的面内相位差的方式来调整。在相位差层为上述的液晶取向固化层的情况下，其厚度例如为1.0μm～2.5μm。本实施方式中，相位差层的慢轴与起偏器的吸收轴所成的角度优选为40
°
～50
°
，更优选为42
°
～48
°
，进一步优选为44
°
～46
°
。此外，相位差层优选显示出相位差值与测定光的波长相应地变大的逆分散波长特性。
[0099]
在相位差层为单一层的情况的另一实施方式中，相位差层可作为λ/2板发挥功能。具体而言，相位差层的re(550)优选为200nm～300nm，更优选为230nm～290nm，进一步优选为230nm～280nm。相位差层的厚度可按照可得到λ/2板的所期望的面内相位差的方式来调整。在相位差层为上述的液晶取向固化层的情况下，其厚度例如为2.0μm～4.0μm。本实施方式中，相位差层的慢轴与起偏器的吸收轴所成的角度优选为10
°
～20
°
，更优选为12
°
～18
°
，进一步优选为12
°
～16
°
。
[0100]
如图示的那样，在相位差层20具有层叠结构的情况的一个实施方式中，相位差层20具有从偏振片70侧起依次配置有第一相位差层(h层)21和第二相位差层(q层)22的两层的层叠结构。h层代表性而言可作为λ/2板发挥功能，q层代表性而言可作为λ/4板发挥功能。具体而言，h层的re(550)优选为200nm～300nm，更优选为220nm～290nm，进一步优选为230nm～280nm；q层的re(550)优选为100nm～180nm，更优选为110nm～170nm，进一步优选为110nm～150nm。h层的厚度可按照可得到λ/2板的所期望的面内相位差的方式来调整。在h层为上述的液晶取向固化层的情况下，其厚度例如为2.0μm～4.0μm。q层的厚度可按照可得到λ/4板的所期望的面内相位差的方式来调整。在q层为上述的液晶取向固化层的情况下，其厚度例如为1.0μm～2.5μm。本实施方式中，h层的慢轴与起偏器的吸收轴所成的角度优选为10
°
～20
°
，更优选为12
°
～18
°
，进一步优选为12
°
～16
°
；q层的慢轴与起偏器的吸收轴所成的角度优选为70
°
～80
°
，更优选为72
°
～78
°
，进一步优选为72
°
～76
°
。需要说明的是，h层及q层的配置顺序也可以相反，h层的慢轴与起偏器的吸收轴所成的角度及q层的慢轴与起偏器的吸收轴所成的角度也可以相反。此外，各个层(例如h层及q层)可以显示出相位差值与测定光的波长相应地变大的逆分散波长特性，也可以显示出相位差值与测定光的波长相应地变小的正的波长分散特性，还可以显示出相位差值基本不会根据测定光的波长而发生变化的平坦的波长分散特性。
[0101]
相位差层(在具有层叠结构的情况下至少一个层)代表性而言折射率特性显示出nx》ny＝nz的关系。需要说明的是，“ny＝nz”不仅包含ny与nz完全相等的情况，还包含实质上相等的情况。因此，在不损害本发明的效果的范围内，有时成为ny》nz或ny《nz。相位差层的nz系数优选为0.9～1.5，更优选为0.9～1.3。
[0102]
如上所述，相位差层优选为液晶取向固化层。作为上述液晶化合物，例如可列举出液晶相为向列相的液晶化合物(向列型液晶)。作为这样的液晶化合物，例如可使用液晶聚合物或液晶单体。液晶化合物的液晶性的表现机理可以是溶致型、热致型中的任一者。液晶聚合物及液晶单体可以分别单独使用，也可以组合。
[0103]
在液晶化合物为液晶单体的情况下，该液晶单体优选为聚合性单体及交联性单体。这是由于通过使液晶单体聚合或交联(即，固化)，能够将液晶单体的取向状态固定。在使液晶单体取向后，例如如果使液晶单体彼此聚合或交联，由此能够将上述取向状态固定。这里，变成通过聚合而形成聚合物，通过交联而形成三维网眼结构，但它们为非液晶性。因此，所形成的相位差层例如不会因液晶性化合物所特有的温度变化而引起向液晶相、玻璃相、结晶相的转变。其结果是，相位差层成为不会受温度变化影响的稳定性极优异的相位差层。
[0104]
液晶单体显示出液晶性的温度范围根据其种类而异。具体而言，该温度范围优选为40℃～120℃，进一步优选为50℃～100℃，最优选为60℃～90℃。
[0105]
作为上述液晶单体，可采用任意适宜的液晶单体。例如可使用日本特表2002-533742(wo00/37585)、ep358208(us5211877)、ep66137(us4388453)、wo93/22397、ep0261712、de19504224、de4408171及gb2280445等中记载的聚合性介晶基元化合物等。作为这样的聚合性介晶基元化合物的具体例子，例如可列举出basf公司的商品名lc242、merck公司的商品名e7、wacker-chem公司的商品名lc-sillicon-cc3767。作为液晶单体，优选向列性液晶单体。
[0106]
在另一实施方式中，相位差层20具有可作为λ/4板发挥功能的第一相位差层21与折射率特性显示出nz》nx＝ny的关系的第二相位差层22(所谓的正c板)的层叠结构。关于λ/4板的详细情况，如上所述。本实施方式中，第一相位差层的慢轴与起偏器的吸收轴所成的角度优选为40
°
～50
°
，更优选为42
°
～48
°
，进一步优选为44
°
～46
°
。此外，第一相位差层优选显示出相位差值与测定光的波长相应地变大的逆分散波长特性。
[0107]
上述正c板的厚度方向的相位差rth(550)优选为-50nm～-300nm，更优选为-70nm～-250nm，进一步优选为-90nm～-200nm，特别优选为-100nm～-180nm。这里，“nx＝ny”不仅包含nx与ny严格相等的情况，还包含nx与ny实质上相等的情况。正c板的面内相位差re(550)例如为低于10nm。
[0108]
具有nz》nx＝ny的折射率特性的第二相位差层可由任意适宜的材料形成，但优选由包含被固定为垂直取向的液晶材料的膜制成。能够垂直取向的液晶材料(液晶化合物)可以是液晶单体，也可以是液晶聚合物。作为该液晶化合物及该相位差层的形成方法的具体例子，可列举出日本特开2002-333642号公报的[0020]～[0028]中记载的液晶化合物及该相位差层的形成方法。这种情况下，第二相位差层的厚度优选为0.5μm～5μm。
[0109]
3.表面保护膜
[0110]
上述表面保护膜的基材可由任意适宜的材料形成。作为形成材料的具体例子，可列举出聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)、聚萘二甲酸乙二醇酯(pen)、聚对苯二甲酸丁二醇酯(pbt)等聚酯系聚合物；二乙酰纤维素、三乙酰纤维素等纤维素系聚合物；聚碳酸酯系聚合物；聚甲基丙烯酸甲酯等(甲基)丙烯酸系聚合物；聚降冰片烯等环烯烃系聚合物。它们可以单独使用，也可以将两种以上组合使用。
[0111]
表面保护膜的基材的厚度优选为15μm～50μm，更优选为25μm～40μm。
[0112]
作为上述表面保护膜的粘合剂层，可采用任意适宜的构成。作为具体例子，可列举出丙烯酸系粘合剂、橡胶系粘合剂、硅系粘合剂、聚酯系粘合剂、氨基甲酸酯系粘合剂、环氧系粘合剂、及聚醚系粘合剂。通过调整形成粘合剂的基础树脂的单体的种类、数目、组合及配合比、以及交联剂的配合量、反应温度、反应时间等，能够制备具有与目的相应的所期望的特性的粘合剂。粘合剂的基础树脂可以单独使用，也可以将两种以上组合使用。基础树脂优选为丙烯酸树脂(具体而言，粘合剂层优选由丙烯酸系粘合剂构成)。粘合剂层的25℃下的贮藏弹性模量例如为1.0
×
105pa～1.0
×
107pa。粘合剂层的厚度例如为5μm～15μm。
[0113]
表面保护膜的厚度优选为30μm～60μm，更优选为30μm～50μm。
[0114]
4.粘合剂层
[0115]
将第一相位差层21层叠于偏振片70上时使用的粘合剂层30的厚度优选为10μm以下，更优选为8μm以下。另一方面，粘合剂层30的厚度优选为2μm以上，更优选为4μm以上，进一步优选为6μm以上。粘合剂层80的厚度例如为10μm～40μm。关于构成粘合剂层30、80的粘合剂的详细情况，与上述表面保护膜中包含的粘合剂层同样。
[0116]
5.剥离膜
[0117]
上述剥离膜可由任意适宜的塑料膜构成。作为塑料膜的具体例子，可列举出聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)膜、聚乙烯膜、聚丙烯膜。如上所述，剥离膜可作为隔膜发挥功能。具体而言，作为剥离膜，优选使用表面被剥离剂涂布的塑料膜。作为剥离剂的具体例子，可列举出硅系剥离剂、氟系剥离剂、长链丙烯酸烷基酯系剥离剂。
[0118]
剥离膜的厚度优选为20μm～80μm，更优选为35μm～55μm。
[0119]
6.保护材
[0120]
如上所述，也可以在相位差层与粘合剂层之间配置保护材。通过配置保护材，例如可降低来自其他层的对相位差层的影响。
[0121]
上述保护材例如为树脂的有机溶剂溶液的涂布膜的固化物或热固化物。根据这样的构成，例如能够在相位差层上直接(即，不介由粘接剂层或粘合剂层)形成。此外，能够减薄所得到的保护材的厚度。保护材的厚度优选为0.01μm～5μm，更优选为0.02μm～3μm，进一步优选为0.03μm～1μm，特别优选为0.04μm～0.6μm。
[0122]
在一个实施方式中，上述树脂包含通过将包含超过50重量份的(甲基)丙烯酸系单体和超过0重量份且低于50重量份的式(1)所表示的单体(以下，有时称为共聚单体)的单体混合物进行聚合而得到的共聚物(以下，有时称为含硼丙烯酸系树脂)。
[0123]
[化学式1]
[0124][0125]
式中，x表示包含选自由乙烯基、(甲基)丙烯酸基、苯乙烯基、(甲基)丙烯酰胺基、乙烯基醚基、环氧基、氧杂环丁烷基、羟基、氨基、醛基及羧基构成的组中的至少1种反应性基的官能团，r1及r2分别独立地表示氢原子、可具有取代基的脂肪族烃基、可具有取代基的芳基、或可具有取代基的杂环基，r1及r2也可以彼此连结而形成环。
[0126]
含硼丙烯酸系树脂例如具有下述式所表示的重复单元。通过将包含式(1)所表示的共聚单体和(甲基)丙烯酸系单体的单体混合物进行聚合，从而含硼丙烯酸系树脂在侧链上具有包含硼的取代基(例如，下述式中k的重复单元)。该包含硼的取代基可以连续地(即，以嵌段状)包含于含硼丙烯酸系树脂中，也可以无规地包含。
[0127]
[化学式2]
[0128][0129]
式中，r6表示任意的官能团，j及k表示1以上的整数。
[0130]
《(甲基)丙烯酸系单体》
[0131]
作为(甲基)丙烯酸系单体，可使用任意适宜的(甲基)丙烯酸系单体。例如可列举出具有直链或支链结构的(甲基)丙烯酸酯系单体、及具有环状结构的(甲基)丙烯酸酯系单体。需要说明的是，本说明书中，所谓(甲基)丙烯酸是指丙烯酸和/或甲基丙烯酸。
[0132]
作为具有直链或支链结构的(甲基)丙烯酸酯系单体，例如可列举出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸甲基2-乙基己酯、(甲基)丙
烯酸2-羟基乙酯等。优选使用(甲基)丙烯酸甲酯。(甲基)丙烯酸酯系单体可以仅使用1种，也可以将2种以上组合使用。
[0133]
作为具有环状结构的(甲基)丙烯酸酯系单体，例如可列举出(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸1-金刚烷基酯、(甲基)丙烯酸二环戊烯酯、(甲基)丙烯酸二环戊烯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸二环戊酯、(甲基)丙烯酸联苯酯、(甲基)丙烯酸邻联苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸邻联苯氧基乙氧基乙酯、丙烯酸间联苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸对联苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸邻联苯氧基-2-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸对联苯氧基-2-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸间联苯氧基-2-羟基丙酯、n-(甲基)丙烯酰氧基乙基-邻联苯＝氨基甲酸酯、n-(甲基)丙烯酰氧基乙基-对联苯＝氨基甲酸酯、n-(甲基)丙烯酰氧基乙基-间联苯＝氨基甲酸酯、邻苯基苯酚缩水甘油醚丙烯酸酯等含联苯基的单体、(甲基)丙烯酸三联苯酯、(甲基)丙烯酸邻三联苯氧基乙酯等。优选使用(甲基)丙烯酸1-金刚烷基酯、(甲基)丙烯酸二环戊酯。通过使用这些单体，可得到玻璃化转变温度高的聚合物。这些单体可以仅使用1种，也可以将2种以上组合使用。
[0134]
此外，代替上述(甲基)丙烯酸酯系单体，也可以使用具有(甲基)丙烯酰基的倍半硅氧烷化合物。通过使用倍半硅氧烷化合物，可得到玻璃化转变温度高的丙烯酸系聚合物。已知倍半硅氧烷化合物是具有各种骨架结构、例如笼型结构、梯型结构、无规结构等骨架的化合物。倍半硅氧烷化合物可以具有仅1种这些结构，也可以具有2种以上。倍半硅氧烷化合物可以仅使用1种，也可以将2种以上组合使用。
[0135]
作为含有(甲基)丙烯酰基的倍半硅氧烷化合物，例如可以使用东亚合成株式会社sq系列的mac等级及ac等级。mac等级是含有甲基丙烯酰基的倍半硅氧烷化合物，具体而言，例如可列举出mac-sq tm-100、mac-sq si-20、mac-sq hdm等。ac等级是含有丙烯酰基的倍半硅氧烷化合物，具体而言，例如可列举出ac-sq ta-100、ac-sq si-20等。
[0136]
(甲基)丙烯酸系单体相对于单体混合物100重量份使用超过50重量份。
[0137]
《共聚单体》
[0138]
作为共聚单体，使用上述式(1)所表示的单体。通过使用这样的共聚单体，在所得到的聚合物的侧链中导入包含硼的取代基。共聚单体可以仅使用1种，也可以将2种以上组合使用。
[0139]
作为上述式(1)中的脂肪族烃基，可列举出可具有取代基的碳数1～20的直链或支链的烷基、可具有取代基的碳数3～20的环状烷基、碳数2～20的烯基。作为上述芳基，可列举出可具有取代基的碳数6～20的苯基、可具有取代基的碳数10～20的萘基等。作为杂环基，可列举出可具有取代基的包含至少一个杂原子的5元环基或6元环基。需要说明的是，r1及r2也可以彼此连结而形成环。r1及r2优选为氢原子、或者碳数1～3的直链或支链的烷基，更优选为氢原子。
[0140]
x所表示的官能团所包含的反应性基为选自由乙烯基、(甲基)丙烯酸基、苯乙烯基、(甲基)丙烯酰胺基、乙烯基醚基、环氧基、氧杂环丁烷基、羟基、氨基、醛基及羧基构成的组中的至少1种。优选反应性基为(甲基)丙烯酸基和/或(甲基)丙烯酰胺基。
[0141]
在一个实施方式中，x所表示的官能团优选为z-y-所表示的官能团。这里，z表示包含选自由乙烯基、(甲基)丙烯酸基、苯乙烯基、(甲基)丙烯酰胺基、乙烯基醚基、环氧基、氧杂环丁烷基、羟基、氨基、醛基及羧基构成的组中的至少1种反应性基的官能团，y表示亚苯
基或亚烷基。
[0142]
作为共聚单体，具体而言可以使用以下的化合物。
[0143]
[化学式3]
[0144][0145]
[化学式4]
[0146][0147]
共聚单体相对于单体混合物100重量份以超过0重量份且低于50重量份的含量使用。优选为0.01重量份以上且低于50重量份，更优选为0.05重量份～20重量份，进一步优选为0.1重量份～10重量份，特别优选为0.5重量份～5重量份。
[0148]
实施例
[0149]
以下，通过实施例对本发明进行具体说明，但本发明不受这些实施例的限定。需要说明的是，厚度是通过下述的测定方法而测定的值。此外，只要没有特别明确记载，实施例及比较例中的“份”及“％”为重量基准。
[0150]
《厚度》
[0151]
10μm以下的厚度使用扫描型电子显微镜(日本电子公司制、制品名“jsm-7100f”)进行测定。超过10μm的厚度使用数字测微计(anritsu corporation制、制品名“kc-351c”)
进行测定。
[0152]
[实施例1]
[0153]
(偏振片的制作)
[0154]
作为热塑性树脂基材，使用长条状、tg约75℃的非晶质的间苯二甲酸共聚聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(厚度：100μm)，对该树脂基材的单面实施了电晕处理。
[0155]
将在将聚乙烯醇(聚合度4200、皂化度99.2摩尔％)及乙酰乙酰基改性pva(日本合成化学工业公司制、商品名“gohsefimer”)以9：1混合而得到的pva系树脂100重量份中添加碘化钾13重量份而得到的物质溶解于水中，制备了pva水溶液(涂布液)。
[0156]
通过在树脂基材的电晕处理面涂布上述pva水溶液并在60℃下进行干燥，形成厚度为13μm的pva系树脂层，制作了层叠体。
[0157]
将所得到的层叠体在130℃的烘箱内沿纵向(长度方向)单轴拉伸至2.4倍(空中辅助拉伸处理)。
[0158]
接着，将层叠体在液温为40℃的不溶化浴(相对于水100重量份配合4重量份硼酸而得到的硼酸水溶液)中浸渍30秒钟(不溶化处理)。
[0159]
接着，在液温30℃的染色浴(相对于水100重量份将碘与碘化钾以1：7的重量比配合而得到的碘水溶液)中，一边按照最终得到的起偏器的单体透射率(ts)成为所期望的值的方式调整浓度一边浸渍60秒钟(染色处理)。
[0160]
接着，在液温40℃的交联浴(相对于水100重量份配合3重量份碘化钾、配合5重量份硼酸而得到的硼酸水溶液)中浸渍30秒钟(交联处理)。
[0161]
之后，将层叠体一边在液温70℃的硼酸水溶液(硼酸浓度4重量％、碘化钾浓度5重量％)中浸渍，一边在圆周速度不同的辊间沿纵向(长度方向)按照总拉伸倍率成为5.5倍的方式进行了单轴拉伸(水中拉伸处理)。
[0162]
之后，将层叠体在液温20℃的洗涤浴(相对于水100重量份配合4重量份碘化钾而得到的水溶液)中浸渍(洗涤处理)。
[0163]
之后，一边在保持为约90℃的烘箱中进行干燥，一边与表面温度保持为约75℃的sus制的加热辊接触(干燥收缩处理)。
[0164]
像这样操作，在树脂基材上形成厚度约为5μm的起偏器，得到具有树脂基材/起偏器的构成的层叠体。
[0165]
在所得到的层叠体的起偏器侧，介由聚乙烯醇系粘接剂而贴合hc-tac膜(厚度32μm)作为第一保护层，进一步贴合厚度为48μm的表面保护膜(日东电工公司制、“rp109f”、基材(pet)的厚度38μm、粘合剂层的厚度10μm)。需要说明的是，hc-tac膜是在tac膜(厚度25μm)上形成有硬涂(hc)层(厚度7μm)的膜，按照tac膜成为起偏器侧的方式进行了贴合。
[0166]
接着，将树脂基材从起偏器剥离，在起偏器的另一侧贴合re(550)为0nm的tac膜(厚度20μm)作为第二保护层，进一步贴合厚度为30μm的表面保护膜(东丽公司制、“toretec”)。
[0167]
这样操作，得到偏振片。
[0168]
(层叠物的制作)
[0169]
将聚合性液晶化合物(l-1)42重量份、聚合性液晶化合物(l-2)42重量份、聚合性液晶化合物(l-3)16重量份、聚合引发剂(pi-1)0.5重量份、聚合物(t-1)0.09重量份、聚合
物(t-2)0.04重量份及环戊酮235重量份混合，得到组合物。将所得到的组合物涂布于形成有取向膜的环烯烃系树脂(cop)膜(基材：厚度80μm)上而形成涂膜，将所形成的涂膜加热至180℃，之后冷却至120℃，在氮气氛下使用高压汞灯以波长365nm对涂膜照射100mj/cm2的紫外线，在基材上形成第一相位差层(厚度2.3μm)。所得到的第一相位差层的面内相位差re(550)为140nm，re(450)/re(550)为0.87。
[0170]
聚合性液晶化合物(l-1)[化学式5]
[0171][0172]
聚合性液晶化合物(l-2)[化学式6]
[0173][0174]
聚合性液晶化合物(l-3)[化学式7]
[0175][0176]
聚合引发剂(pi-1)
[0177]
[化学式8]
[0178][0179]
聚合物(t-1)
[0180]
[化学式9]
[0181][0182]
聚合物(t-2)
[0183]
[化学式10]
[0184]
[0185]
在上述第一相位差层上，一边进行卷搬送一边介由丙烯酸系粘合剂层(厚度7μm)而贴合厚度为38μm的剥离膜(东丽公司制、“k cerapeel”、pet系膜)，得到层叠物。
[0186]
将所得到的层叠物的宽度方向两端部切断后，将剥离膜从层叠物(粘合剂层)剥离，将层叠物一边进行卷搬送一边贴合于上述偏振片上。具体而言，按照偏振片的起偏器的吸收轴与第一相位差层的慢轴所成的角度成为45
°
的方式进行了贴合。
[0187]
《评价：剥离力》
[0188]
将从所得到的层叠物切出宽度25mm、长度150mm的尺寸而得到的样品在23℃
×
50％rh的环境下放置30分钟以上后，利用万能拉伸试验机测定以剥离速度300mm/分钟及1000mm/分钟、剥离角度90
°
及180
°
沿长度方向进行剥离时的剥离力(n/25mm)。具体而言，测定剥离膜相对于粘合剂层的剥离力f1及第一相位差层相对于基材的剥离力f2。需要说明的是，测定在23℃
×
50％rh的环境下进行。
[0189]
将所得到的结果汇总于表1中。
[0190]
[表1]
[0191][0192]
在剥离角度180
°
下将剥离膜从粘合剂层剥离时，在第一相位差层与基材之间产生剥离的可能性极低。
[0193]
产业上的可利用性
[0194]
通过本发明的实施方式而得到的带相位差层的偏振片可作为图像显示装置的带相位差层的偏振片使用，还可适宜用于弯曲的、或者可弯曲、折叠或卷取的图像显示装置。作为图像显示装置，代表性而言，可列举出液晶显示装置、有机el显示装置、无机el显示装置。