照明光学系统、曝光装置及制造物品的方法与流程

1.本发明涉及照明光学系统、曝光装置和制造物品的方法。


背景技术：

2.作为在半导体器件等的制造过程中使用的光刻装置，已知一种曝光装置(所谓的扫描曝光装置)，其在相对于投影光学系统扫描原稿和基板的同时对基板进行曝光，从而将原稿的图案转印到基板上。这种曝光装置一般在基板的扫描曝光期间以恒定的速度移动基板。但是，为了提高吞吐率(生产率)，期望在扫描曝光期间加速和/或减速基板。日本专利公开no.2012-142463提出了一种扫描曝光装置，其在加速和/或减速基板的同时执行基板的扫描曝光，从而提高吞吐率。
3.如果如日本专利公开no.2012-142463中所述的那样在加速和/或减速基板的同时执行基板的扫描曝光，那么曝光时段可能根据基板的速度而改变。出于这个原因，为了使扫描曝光中的曝光量恒定(均匀)，需要根据基板的速度来改变基板的照度(即，照射基板的光的强度)。在日本专利公开no.2012-142463中，通过基于基板台的驱动轮廓(driving profile)控制光源来控制基板的照度。但是，期望通过更简单的方法和机构来控制基板的照度。


技术实现要素：

4.本发明提供了例如一种有利于在扫描曝光期间根据基板的速度改变基板的照度的技术。
5.根据本发明的一个方面，提供了一种用于照亮物体的照明光学系统，包括：第一透光构件和第二透光构件，以及被配置为控制第一透光构件和第二透光构件的驱动的控制单元，其中，在控制单元驱动第一透光构件使得光对第一透光构件的入射角增加的同时，控制单元驱动第二透光构件使得光对第二透光构件的入射角减小，从而改变从照明光学系统出射的光的强度。
6.根据本发明的一个方面，提供了一种制造物品的方法，该方法包括：使用曝光装置对基板进行曝光；处理在曝光中被曝光的基板；以及从在处理中被处理的基板制造物品，其中曝光装置对基板的多个拍摄区域中的每个拍摄区域执行扫描曝光，并且曝光装置包括：照明光学系统，被配置为使用来自光源的光照亮原稿；投影光学系统，被配置为将原稿的图案的图像投影到基板；并且其中照明光学系统包括：第一透光构件和第二透光构件，被配置为控制第一透光构件和第二透光构件的驱动的控制单元，其中，在控制单元驱动第一透光构件使得光对第一透光构件的入射角增加的同时，控制单元驱动第二透光构件使得光对第二透光构件的入射角减小，从而改变从照明光学系统出射的光的强度。
7.本发明的其它特征将通过以下参考附图对示例性实施例的描述而变得清楚。
附图说明
8.图1是示出曝光装置的配置的示例的示意图；
9.图2是示出当执行扫描曝光时基板的加速度、速度和照度的视图；
10.图3是示出关于第一透光构件和第二透光构件中的每一个的光(p偏振光)的入射角与透射率之间的关系的曲线图；
11.图4a至图4c是示出在一个拍摄区域的扫描曝光中第一透光构件和第二透光构件的驱动的示例的视图；
12.图5是示出在一个拍摄区域的扫描曝光中控制入射角的示例的视图；
13.图6a和图6b是各自示出透射率改变机构中光的透射率的改变的曲线图；
14.图7是示出入射角与光轴a的移位量之间的关系的曲线图；
15.图8是示出根据第二实施例的透射率改变机构的配置的示例的视图；以及
16.图9是示出根据第二实施例的组合透射率的曲线图。
具体实施方式
17.在下文中，将参考附图详细描述实施例。注意的是，以下实施例并非旨在限制要求保护的发明的范围。在实施例中描述了多个特征，但是并不限制发明要求所有此类特征，并且可以适当地组合多个此类特征。此外，在附图中，相同的附图标记被赋予相同或相似的配置，并且省略对其的重复描述。
18.《第一实施例》
19.将描述根据本发明第一实施例的曝光装置100。根据这个实施例的曝光装置100在相对扫描原稿m和跨投影光学系统po布置的基板w的同时执行扫描曝光以对基板w进行曝光，由此将原稿m的图案转印到基板上。可以对基板w的多个拍摄区域中的每个拍摄区域执行扫描曝光。在以下的描述中，与投影光学系统po的光轴平行的方向被定义为z方向，并且在与z方向垂直的平面中彼此正交的两个方向被定义为x方向和y方向。
20.[曝光装置的配置]
[0021]
图1是示出根据这个实施例的曝光装置100的配置的示例的示意图。曝光装置100可以包括使用来自光源1的光束照亮原稿m的照明光学系统il、将由照明光学系统il照亮的原稿m的图案的图像投影到基板w的投影光学系统po，以及控制器cnt。控制器cnt例如由包括cpu、存储器等的计算机形成，并且控制曝光装置100的各单元(控制基板w的扫描曝光)。在此，例如可以使用掩模、分划板等作为原稿m，并且例如可以使用晶片、玻璃板(液晶基板)等作为基板w。
[0022]
光源1发射光束(光)以对基板w进行曝光。根据这个实施例的光源1被配置(布置)为使线性偏振光(p偏振光)进入稍后将描述的透射率改变机构5。作为示例，如果使用诸如准分子激光器之类的激光光源作为光源1，那么从该激光光源发射的光(激光束)一般是线性偏振光，因此光源1可以被布置为使得进入透射率改变机构5的线性偏振光成为p偏振光。另一方面，如果使用led或汞灯作为光源1，那么可以在光源1中设置被配置为减少s偏振光的偏振器，使得线性偏振光(p偏振光)进入透射率改变机构5。
[0023]
照明光学系统il可以包括中继光学系统2、透射率改变机构5、出射角保持光学元件6、衍射光学元件7、聚光透镜8和棱镜单元10。照明光学系统il还可以包括变焦透镜单元
11、多束生成单元12、光圈13和聚光透镜14。
[0024]
中继光学系统2设置在光源1和出射角保持光学元件6之间，并将从光源1发射的光束引导到出射角保持光学元件6。在这个实施例中，从中继光学系统2出射的光束被反射镜3反射，并经由平面-平行板4进入照明光学系统il。进入出射角保持光学元件6的光束的位置和角度可以由反射镜3和平面-平行板4进行调整。
[0025]
透射率改变机构5可以布置在光源1和出射角保持光学元件6之间的光路上。透射率改变机构5是被配置为在扫描曝光时改变从照明光学系统il出射的光的强度(即，照射原稿和/或基板的光的照度)的机构，并且可以被理解为光强改变机构或照度改变机构。透射率改变机构5被配置为改变光的透射率。透射率改变机构5使进入透射率改变机构5的光以期望的透射率通过，从而控制进入出射角保持光学元件6的光束的强度并控制从照明光学系统il出射的光的强度。透射率改变机构5的详细配置将在后面描述。
[0026]
出射角保持光学元件6是被配置为使照射原稿m的光束的照度均匀的光学元件，并且可以布置在衍射光学元件7的光源侧的光路上(即，在透射率改变机构5和衍射光学元件7之间)。出射角保持光学元件6包括诸如微透镜阵列、光纤束或复眼透镜之类的光学积分器，并且在维持预定发散角的同时将来自光源1的光束引导到衍射光学元件7。这可以减小光源1的输出波动对由衍射光学元件7形成的图案分布的影响。
[0027]
衍射光学元件7布置在出射角保持光学元件6和聚光透镜8之间的光路上，使来自出射角保持光学元件6的光束衍射，并将其引导到聚光透镜8。衍射光学元件7通过衍射效应转换来自光源1的光束的光强度分布，从而在照明光学系统il的光瞳平面(这是与投影光学系统po的光瞳平面共轭的平面)上或在与照明光学系统il的光瞳平面共轭的平面上形成期望的光强度分布。以这种方式在投影光学系统po的光瞳平面上形成的光源形状(光强度分布)被称为有效光源形状。作为衍射光学元件7，可以使用由计算机设计以在衍射图案平面上获得期望的衍射图案的cgh(计算机生成的全息图，computer generated hologram)。
[0028]
聚光透镜8布置在衍射光学元件7和棱镜单元10之间的光路上，并会聚由衍射光学元件7衍射的光束以在傅立叶变换平面9上形成衍射图案。傅立叶变换平面9是在多束生成单元12(光学积分器)和衍射光学元件7之间光学地具有与衍射光学元件7的傅立叶变换关系的平面。因此，通过更换(改变)衍射光学元件7，可以改变形成在傅立叶变换平面9上的衍射图案的形状。
[0029]
棱镜单元10和变焦透镜单元11布置在傅立叶变换平面9和多束生成单元12(光学积分器)之间的光路上，并用作放大在傅立叶变换平面9上形成的光强度分布的变焦光学系统。棱镜单元10可以调整形成在傅立叶变换平面9上的衍射图案(光强度分布)的环比(annular ratio)等，并将衍射图案引导到变焦透镜单元11。变焦透镜单元11可以布置在棱镜单元10和多束生成单元12之间的光路上，并且包括第一透镜11a和第二透镜11b。变焦透镜单元11可以调整形成在傅立叶变换平面9上的衍射图案的σ值(基于照明光学系统il的na(数值孔径)与投影光学系统po的na(数值孔径)的比率)，并将衍射图案引导到多束生成单元12。
[0030]
多束生成单元12设置在变焦透镜单元11和聚光透镜14之间的光路上，根据具有调整后的环比、数值孔径和σ值的衍射图案形成多个二次光源(secondary light source)，并将二次光源引导到聚光透镜14。多束生成单元12可以包括作为光学积分器的复眼透镜，并
且可以包括诸如光学管、衍射光学元件或微透镜阵列之类的另一种光学积分器来代替复眼透镜或作为其补充。当设置多束生成单元12时，作为目标照明表面的原稿m可以用已通过衍射光学元件7的光束均匀地照亮。此外，光圈13设置在多束生成单元12和聚光透镜14之间。
[0031]
半反射镜15设置在光源14的后续级处，来自聚光透镜14的光束的一些组成部分经由光学系统16被引导至检测单元17。检测单元17包括检测入射光的强度的传感器。因此，控制器cnt可以基于检测单元17的检测结果准确地控制基板w的曝光量。
[0032]
原稿m设置在聚光透镜14和投影光学系统po之间，并且具有要被转印到基板的电路图案。原稿m由原稿台(未示出)保持和驱动。投影光学系统po设置在原稿m与基板w之间，并且维持原稿m与基板w之间的光学共轭关系。基板w由基板台(未示出)保持和驱动。在具有上述配置的曝光装置100中，通过在扫描原稿m和基板w的同时执行所谓的扫描曝光以将被照明光学系统il照亮的原稿m的图案的图像经由投影光学系统po投影到基板w上，可以在基板上形成图案。
[0033]
在此，基板w包括多个拍摄区域，原稿m的图案应当被转印到这些拍摄区域，即，应当对其执行扫描曝光。对于从一个拍摄区域到下一个拍摄区域的移动，关于扫描方向执行往复扫描操作。关于与扫描方向正交的方向，从一个拍摄区域的扫描曝光的结束到下一个拍摄区域的扫描曝光的开始，执行步进操作。而且，原稿m的图案的分辨率取决于有效光源形状，并且可以通过形成适当的有效光源分布来提高图案的分辨率。
[0034]
[扫描曝光]
[0035]
为了提高吞吐量(生产率)，根据这个实施例的曝光装置100控制扫描曝光，使得扫描曝光中包括其中基板w被加速的加速区段和其中基板w被减速的减速区段。例如，图2示出了在对于基板w的多个拍摄区域中的每个拍摄区域执行扫描曝光时基板w的加速度、速度(速率)和照度。如图2中所示，曝光装置100根据正弦波形状的速度分布来驱动基板w，并且每个拍摄区域的扫描曝光可以在包括加速区段和减速区段的速度分布的一部分中执行。即，在每个拍摄区域的扫描曝光中基板w的速度可以由包括加速区段和减速区段的正弦波形状的速度分布的一部分来定义。扫描曝光方法可以被称为正弦波曝光。
[0036]
在包括加速区段和减速区段的扫描曝光中，曝光时段根据扫描方向上拍摄区域中各个位置处的基板w的速度而改变。出于这个原因，为了使拍摄区域中各个位置处的曝光量恒定(均匀)，需要根据基板w的速度以预定的照度分布改变基板w的照度(即，照射基板w的光的强度)。例如，在正弦波曝光中，为了使扫描曝光中的曝光量恒定，根据基板w的正弦波形状的速度，根据正弦波形状的照度分布来改变基板w的照度，如图2中所示。在图2中所示的示例中，由于通过将基板w的速度改变最大速度的80％或更多来执行扫描曝光，因此优选地以正弦曲线改变基板w的照度，使得其从80％增加到100％并从100％下降到80％以遵循速度的改变。在根据这个实施例的曝光装置100中，由透射率改变机构5根据基板w的速度改变扫描曝光时从照明光学系统il出射的光的强度(下文中有时称为照明光学系统il的光强度)，从而改变基板w的照度。
[0037]
[透射率改变机构的配置]
[0038]
接下来将描述透射率改变机构5的配置的示例。如图1中所示，根据这个实施例的透射率改变机构5可以包括布置在光路上的第一透光构件51和第二透光构件52。第一透光构件51和第二透光构件52各自由一个平面-平行板形成，并且在光轴方向上彼此以一定间
隔布置。第一透光构件51被配置为可由第一驱动单元51b绕与光轴相交的第一旋转轴51a旋转以改变由光轴和第一透光构件51的表面的法线所形成的角度θ1(下文中有时称为入射角θ1)。而且，第二透光构件52被配置为可由第二驱动单元52b绕与光轴相交的第二旋转轴52a旋转以改变由光轴和第二透光构件52的表面的法线所形成的角度θ2(下文中有时称为入射角θ2)。在此，第一旋转轴51a和第二旋转轴52a优选地与光轴垂直并且优选地彼此平行。此外，第一旋转轴51a和第二旋转轴52a优选地被设置为垂直于作为p偏振光进入透射率改变机构5(第一透光构件51和第二透光构件52)的线性偏振光的偏振平面(振动平面)。
[0039]
从便于在扫描曝光中控制从照明光学系统il出射的光的强度的观点出发，优选的是第一透光构件51和第二透光构件52由相同的玻璃材料制成并且具有相同趋势的透射率。图3示出了关于第一透光构件51和第二透光构件52中的每一个的光(p偏振光)的入射角与透射率之间的关系。图3示出了其中第一透光构件51和第二透光构件52由石英制成的示例。在这种情况下，布鲁斯特角(brewster’sangle)为56.5
°
。布鲁斯特角是透射光与反射光垂直时的入射角。当p偏振光的入射角是布鲁斯特角时，p偏振光的透射率是100％。
[0040]
如上所述配置的透射率改变机构5可以通过第一驱动单元51b驱动(旋转)第一透光构件51和第二驱动单元52b驱动(旋转)第二透光构件52来改变照明光学系统il的光强度。可以由控制器cnt控制第一透光构件51和第二透光构件52的驱动，使得扫描曝光中的照明光学系统il的光强度以预定的光强度分布改变。预定的光强度分布可以是被设置为使得扫描曝光中的基板w的照度以预定的照度分布(例如，图2中所示的正弦波形状的照度分布)改变的照明光学系统il的光强度分布。在这个实施例中，在扫描曝光中，控制器cnt驱动透光构件51和52中的一个透光构件，使得光对这个透光构件的入射角在第一角度范围内增加。而且，在扫描曝光中，控制器cnt与这个透光构件的驱动并行地驱动透光构件51和52中的另一个透光构件，使得光对该另一个透光构件的入射角在第二角度范围内减小。这能够以预定的光强度分布改变照明光学系统il的光强度。
[0041]
在此，第一角度范围和第二角度范围中的每一个被设置为包括布鲁斯特角。第一角度范围和第二角度范围可以被设置为包括共同的角度范围，或者可以被设置为相同的角度范围。而且，第一角度范围和第二角度范围中的每一个可以被设置为使得布鲁斯特角是中心角。当以这种方式设置第一角度范围和第二角度范围时，可以促进照明光学系统il的光强度的控制，并且可以实现与图2中所示的正弦波形状的照度分布对应的光强度分布。
[0042]
[透光构件的驱动的示例]
[0043]
接下来将描述第一透光构件51和第二透光构件52的驱动的示例。图4a至图4c示出了在一个拍摄区域的扫描曝光(一次扫描曝光)中驱动第一透光构件51和第二透光构件52的示例。如上所述，线性偏振光(p偏振光)进入第一透光构件51和第二透光构件52。图4a至图4c示出了线性偏振光的光轴a(主射线)。
[0044]
这里将描述在一次扫描曝光中驱动第一透光构件51使得入射角θ1在第一角度范围内增加并且驱动第二透光构件52使得入射角θ2在第二角度范围内减小的示例。第一角度范围和第二角度范围可以各自被设置为包括布鲁斯特角(56.5
°
)的共同角度范围(39
°
至74
°
)。而且，可以驱动第一透光构件51和第二透光构件52，使得布鲁斯特角与光对第一透光构件51的入射角θ1之间的差的绝对值等于布鲁斯特角与光对第二透光构件52的入射角θ2之间的差的绝对值。例如，如图5中所示，在一次扫描曝光中，可以在一个方向上驱动第一透
光构件51，使得入射角θ1从39
°
线性增加到74
°
，并且可以在一个方向上驱动第二透光构件52，使得入射角θ2从74
°
线性减小到39
°
。即，第一透光构件51的驱动方向和第二透光构件52的驱动方向在一次扫描曝光期间不改变(逆转)。
[0045]
图4a示出了在扫描曝光开始时第一透光构件51和第二透光构件52的布置。在扫描曝光开始时，第一透光构件51被布置为使得入射角θ1变为39
°
，并且第二透光构件52被布置为使得入射角θ2变为74
°
。随着扫描曝光的进行，第一透光构件51和第二透光构件52被驱动(旋转)。图4b示出了在扫描曝光期间当入射角θ1和入射角θ2都达到布鲁斯特角(56.5
°
)时第一透光构件51和第二透光构件52的布置。控制器cnt优选地控制第一透光构件51和第二透光构件52的驱动，使得在扫描曝光中基板w的速度是最大速度的状态下获得图4b中所示的布置。图4c示出了在扫描曝光结束时第一透光构件51和第二透光构件52的布置。在扫描曝光结束时，第一透光构件51被布置为使得入射角θ1变为74
°
，并且第二透光构件52被布置为使得入射角θ2变为39
°
。
[0046]
在此，在下一次扫描曝光中，优选地将第一透光构件51的驱动方向和第二透光构件52的驱动方向逆转(反转)。更具体而言，在下一次扫描曝光中，可以驱动第一透光构件51使得入射角θ1在第一角度范围内减小，并且可以驱动第二透光构件52使得入射角θ2在第二角度范围内增加。这可以避免每次执行扫描曝光时都将第一透光构件51和第二透光构件52恢复到原始布置的必要性。因此可以简化对第一透光构件51和第二透光构件52的驱动的控制。注意的是，驱动方向的逆转可以在基板w的步进移动期间进行，该步进移动是从一个拍摄区域的扫描曝光结束到下一次扫描曝光开始执行的。
[0047]
图6a和图6b是各自示出透射率改变机构5中光的透射率的改变的曲线图。
[0048]
图6a示出了在39
°
至74
°
的角度范围(第一角度范围和第二角度范围)内第一透光构件51的透射率特点(入射角θ1与透射率之间的关系)。如果第一透光构件51和第二透光构件52由相同的玻璃材料制成，那么第二透光构件52的透射率特点(入射角θ2与透射率之间的关系)也等于如图6a中所示的特点，与第一透光构件51一样。
[0049]
图6b示出了在39
°
至74
°
的角度范围内组合第一透光构件51的透射率和第二透光构件52的透射率的结果(以下有时称为组合透射率)。在图6b中，横坐标表示光对第一透光构件51的入射角θ1，并且纵坐标表示组合透射率。如上所述，在扫描曝光中，根据这个实施例的透射率改变机构5从39
°
到74
°
线性地增加光对第一透光构件51和第二透光构件52中的一个透光构件的入射角，并且从74
°
到39
°
线性地减小光对另一个透光构件的入射角。在这种情况下，入射角θ1和入射角θ2中的一个变得大于布鲁斯特角(56.5
°
)，并且另一个变得小于布鲁斯特角。而且，与布鲁斯特角的差的绝对值彼此相等。出于这个原因，该角度范围内的组合透射率的形状能够以布鲁斯特角为对称轴横向对称，并且可以实现与图2中所示的照度分布对应的照明光学系统il的光强度分布。在此，在根据这个实施例的透射率改变机构5中，当改变入射角θ1和入射角θ2中的每一个的角度范围时，可以改变照明光学系统il的光强度分布。即，角度范围可以根据扫描曝光中从照明光学系统il出射的光的强度的目标分布来适当地改变。
[0050]
[光轴的移位量]
[0051]
接下来将描述透射率改变机构5中的光轴的移位量。在这个实施例中，光轴a的移位量可以被定义为进入透光构件的入射光的光轴与穿过透光构件并从透光构件出射的透
射光的光轴之间的差。此外，光轴a的变化(变化量)可以被定义为当透光构件在预定角度范围(例如，39
°
到74
°
)内被驱动(旋转)时发生的透射光的光轴a的变化(变化量)。
[0052]
第一透光构件51由平面-平行板形成。因此，光轴a的移位量根据光对第一透光构件51的入射角θ1生成，并且当入射角θ1改变时，光轴a的移位量可以相应地变化。类似地，第二透光构件52也由平面-平行板形成。因此，光轴a的移位量根据光对第二透光构件52的入射角θ2生成，并且当入射角θ2改变时，光轴a的移位量可以相应地变化。
[0053]
在这个实施例中，由于使用第一透光构件51和第二透光构件52，因此由第一透光构件51引起的光轴a的移位量和由第二透光构件52引起的光轴a的移位量被组合(相加)。组合移位量大于单个透光构件中光轴a的移位量。但是，通过以上述方式驱动第一透光构件51和第二透光构件52而生成的组合移位量的变化小于在单个透光构件中光轴a的移位量的变化。
[0054]
图7示出了在第一透光构件51和第二透光构件52都具有2mm的厚度的情况下光的入射角与光轴a的移位量之间的关系。图7中的横坐标表示光对第一透光构件51的入射角θ1的角度范围(39
°
到74
°
)。光对第二透光构件52的入射角θ2的角度范围可以是沿着横坐标逆转的角度范围(74
°
到39
°
)。而且，在图7中，线(a)表示单个第一透光构件51中的光轴a的移位量，并且线(b)表示单个第二透光构件52中的光轴a的移位量。线(c)表示整个透射率改变机构5中的光轴a的移位量，即，当使用第一透光构件51和第二透光构件52两者时光轴a的移位量。由线(c)指示的光轴a的移位量可以被理解为组合由线(a)表示的光轴a的移位量和由线(b)表示的光轴a的移位量的结果(下文中有时称为组合移位量)。
[0055]
参考图7，如果入射角θ1是39
°
(即，如果入射角θ2是74
°
)，那么第一透光构件51引起的光轴a的移位量是0.52mm，第二透光构件52引起的光轴a的移位量是1.45mm，并且组合移位量是1.97mm。而且，如果入射角θ1和入射角θ2都是56.5
°
(布鲁斯特角)，那么第一透光构件51引起的光轴a的移位量和第二透光构件52引起的光轴a的移位量都是0.905mm，并且组合移位量是1.81mm。此外，如果入射角θ1是74
°
(即，如果入射角θ2是39
°
)，那么第一透光构件51引起的光轴a的移位量是1.45mm，第二透光构件52引起的光轴a的移位量是0.52mm，并且组合移位量是1.97mm。
[0056]
如上所述，在单个透光构件(第一透光构件51或第二透光构件52)中，光轴a的移位量可以在39
°
到74
°
的角度范围内从0.52mm到1.45mm变化0.93mm。另一方面，在39
°
到74
°
的角度范围内，组合移位量平均是1.89mm，最小是1.81mm，或最大是1.97mm，并且变化可以被抑制到0.16mm。即，当平面-平行板4的光轴和出射角保持光学元件6的光轴用与1.89mm的平均组合移位量对应的移位进行布置时，由驱动第一透光构件51和第二透光构件52生成的光轴变化量可以被抑制到
±
0.08mm。
[0057]
如果进入出射角保持光学元件6的光的光轴发生变化，那么进入傅立叶变换平面9的光束倾斜。进入出射角保持光学元件6的光的光轴的变化的容许量是
±
0.5mm。在上述示例中，光轴的变化量是
±
0.08mm，这比容许量(
±
0.5mm)小很多。为了增加刚性，第一透光构件51和第二透光构件52可以比2mm厚。透光构件51和52的厚度被优选地设置(决定)为使得光轴的变化量在容许量(
±
0.5mm)以内。
[0058]
如上所述，在这个实施例中，在一次扫描曝光中，透光构件51和52中的一个透光构件被驱动使得光对这个透光构件的入射角在第一角度范围内增加，并且另一个透光构件被
驱动使得光对该另一个透光构件的入射角在第二角度范围内减小。第一角度范围和第二角度范围中的每一个都包括布鲁斯特角。因而，在一个拍摄区域的扫描曝光(例如，正弦波曝光)中，由于照明光学系统il的光强度(即，基板w的照度)可以根据基板w的速度而改变，因此可以使这个拍摄区域中的曝光量均匀。而且，在这个实施例中，在一次扫描曝光中，由于透光构件51和52的驱动方向不逆转，因此可以减小由于逆转造成的马达(第一驱动单元51b和第二驱动单元52b)上的负荷。即，由于可以简化透射率改变机构5的配置(例如，可以使马达紧凑)，因此能够防止装置变得笨重。注意的是，虽然上面已经描述了使用两个透光构件(第一透光构件51和第二透光构件52)的示例，但是可以使用三个或更多个透光构件。
[0059]
《第二实施例》
[0060]
将描述本发明的第二实施例。在这个实施例中，将描述其中第一透光构件51和第二透光构件52中的每一个由沿着光轴a有间隙布置的多个平面-平行板形成的示例。注意的是，这个实施例基本上遵循第一实施例，并且曝光装置100的配置和处理(例如，第一透光构件51和第二透光构件52的驱动方法)与在第一实施例中描述的相同。
[0061]
图8示出了根据这个实施例的透射率改变机构5'(第一透光构件51和第二透光构件52)的配置的示例。如图8中所示，第一透光构件51由沿着光轴a有间隙布置的两个平面-平行板511和512形成，并且两个平面-平行板511和512被第一驱动单元51b一体地驱动(旋转)。这可以改变光对第一透光构件51(平面-平行板511)的入射角θ1。此外，第二透光构件52由沿着光轴a有间隙布置的两个平面-平行板521和522形成，并且两个平面-平行板521和522被第二驱动单元52b一体地驱动(旋转)。这可以改变光对第二透光构件52(平面-平行板521)的入射角θ2。
[0062]
图9示出了在39
°
到74
°
的角度范围内组合第一透光构件51(平面-平行板511和512)的透射率与第二透光构件52(平面-平行板521和522)的透射率的结果(组合透射率)。如图9中所示，与根据第一实施例的透射率改变机构5相比，根据这个实施例的透射率改变机构5'可以在39
°
到74
°
的角度范围内大幅度改变(增加)组合透射率。但是，在根据这个实施例的透射率改变机构5'中，光轴的变化量比根据第一实施例的透射率改变机构5中的大。因此，平面-平行板511和512以及521和522的厚度优选地被设置(决定)为使得光轴的变化量变得等于或小于容许量(
±
0.5mm)。
[0063]
如上所述，在这个实施例中，第一透光构件51和第二透光构件52中的每一个由沿着光轴有间隙布置的多个平面-平行板形成。因此，可以在预定角度范围内增加第一透光构件51和第二透光构件52的组合透射率。注意的是，虽然在这个实施例中已经描述了透光构件51和52中的每一个由两个平面-平行板形成的示例，但是透光构件51和52中的每一个都可以由三个或更多个平面-平行板形成。
[0064]
《物品的制造方法的实施例》
[0065]
根据本发明实施例的制造物品的方法适于制造物品，例如，诸如半导体器件之类的微器件或具有微结构的元件。根据实施例的制造物品的方法包括通过使用上述曝光装置对施加在基板上的感光剂形成潜图案的步骤(曝光基板的步骤)，以及显影(处理)在形成步骤中已在上面形成潜图案的基板的步骤。此外，这种制造方法包括其它众所周知的步骤(例如，氧化、沉积、气相沉积、掺杂、平坦化、蚀刻、抗蚀剂移除、切割、键合、封装等)。与以往的方法相比，根据实施例的制造物品的方法在物品的性能、质量、生产率和生产成本中的至少
一个方面具有优势。
[0066]
《其它实施例》
[0067]
本发明的(一个或多个)实施例还可以通过读出并执行记录在存储介质(其也可以被更完整地称为“非瞬态计算机可读存储介质”)上的计算机可执行指令(例如，一个或多个程序)以执行上述(一个或多个)实施例中的一个或多个实施例的功能和/或包括用于执行上述(一个或多个)实施例中的一个或多个实施例的功能的一个或多个电路(例如，专用集成电路(asic))的系统或装置的计算机来实现，以及通过由系统或装置的计算机通过例如从存储介质读出并执行计算机可执行指令以执行上述(一个或多个)实施例中的一个或多个实施例的功能和/或控制一个或多个电路执行上述(一个或多个)实施例中的一个或多个实施例的功能而执行的方法来实现。计算机可以包括一个或多个处理器(例如，中央处理单元(cpu)、微处理单元(mpu))，并且可以包括单独计算机或单独处理器的网络，以读出并执行计算机可执行指令。计算机可执行指令可以例如从网络或存储介质提供给计算机。存储介质可以包括例如硬盘、随机存取存储器(ram)、只读存储器(rom)、分布式计算系统的存储装置、光盘(诸如紧凑盘(cd)、数字多功能盘(dvd)或蓝光盘(bd)
tm
)、闪存设备、存储卡等中的一个或多个。
[0068]
本发明的实施例还可以通过如下的方法来实现，即，通过网络或者各种存储介质将执行上述实施例的功能的软件(程序)提供给系统或装置，该系统或装置的计算机或是中央处理单元(cpu)、微处理单元(mpu)读出并执行程序的方法。
[0069]
虽然已经参考示例性实施例描述了本发明，但是应当理解，本发明不限于所公开的示例性实施例。所附权利要求的范围要符合最广泛的解释，以便涵盖所有此类修改以及等同的结构及功能。