技术特征：
1.一种具有大视场的投影光刻物镜光学系统，其特征在于：沿着光轴顺序设置有：第一镜组、第二镜组、第三镜组和第一反射镜，所述第一镜组和所述第二镜组具有正的光焦度，所述第三镜组具有负的光焦度，由物面发射的光束依次经过第一镜组、第二镜组、第三镜组后，经过第一反射镜反射，再依次经过第三镜组、第二镜组、第一镜组后汇聚成像到像面，所述物镜光学系统满足关系式：0.25<f1/l<1.10.17<f2/l<0.720.24<-f3/l<0.95其中，f1为第一镜组的组合焦距，f2为第二镜组的组合焦距，f3为第三镜组的组合焦距，l为所述物镜光学系统的物面至像面的光学距离。2.根据权利要求1所述的一种具有大视场的投影光刻物镜光学系统，其特征在于：所述第一反射镜采用具有低热膨胀系数的材料制成。3.根据权利要求1所述的一种具有大视场的投影光刻物镜光学系统，其特征在于：所述第一反射镜的反射面为凹面，所述第一反射镜满足关系式：0.25<-r/l<1.2其中，r为所述第一反射镜的反射曲面的曲率半径。4.根据权利要求1所述的一种具有大视场的投影光刻物镜光学系统，其特征在于：所述第一镜组至少包含1个正透镜，所述第二镜组至少包含1个正透镜，满足：0.7<f1/f2<2.9。5.根据权利要求1所述的一种具有大视场的投影光刻物镜光学系统，其特征在于：所述投影光刻物镜光学系统满足：0.3<d0/d1<1.20.15<(d0+d1)/l<0.6其中，d0为物面到第一镜组之间的光学距离，d1为第一镜组到第二镜组之间的光学距离。6.根据权利要求1所述的一种具有大视场的投影光刻物镜光学系统，其特征在于：所述第三镜组至少包含1个正透镜和1个负透镜，所述第三镜组满足关系式：vdps-vdms>15其中，vdps为所述第三镜组中一个正透镜的色散系数，vdms为所述第三镜组中一个负透镜的色散系数。7.根据权利要求1所述的一种具有大视场的投影光刻物镜光学系统，其特征在于：所述第一镜组包括第一透镜，所述第一透镜为正透镜，所述第一透镜远离所述第一反射镜的第一侧面为凸面，所述第一透镜靠近所述第一反射镜的第二侧面为凸面；所述第二镜组包括第二透镜，所述第二透镜为正透镜，所述第二透镜为正透镜，所述第二透镜远离所述第一反射镜的第一侧面为凸面；所述第三镜组包括第三透镜和第四透镜，所述第三透镜为负透镜，所述第四透镜为正透镜，所述第三透镜远离所述第一反射镜的第一侧面为凹面，所述第三透镜靠近所述第一反射镜的第二侧面为凹面；所述第四透镜远离所述第一反射镜的第一侧面为凸面，所述第二透镜靠近所述第一反射镜的第二侧面为凸面。
8.根据权利要求1所述的一种具有大视场的投影光刻物镜光学系统，其特征在于：所述第一镜组、第二镜组、第三镜组的透镜分别为球面镜片，所述物镜光学系统还包括第二反射镜，所述第二反射镜设置在所述第一镜组的前侧，所述第二反射镜包括第一反射平面和第二反射平面，所述第一反射平面和所述第二反射的延长面相交的直线与所述第一镜组、第二镜组、第三镜组和所述第一反射镜所构成的光轴垂直，物面与像面相互平行且均平行于光轴设置，从由物面发射的光束经所述第一反射平面反射后进入所述第一镜组，经过第一镜组、第二镜组、第三镜组后经过所述第一反射镜反射，再经过第三镜组、第二镜组、第一镜组，从所述第一镜组射出的光束经所述第二反射平面反射后汇聚成像到像面。9.根据权利要求1所述的一种具有大视场的投影光刻物镜光学系统，其特征在于：所述第一反射镜位置处设置有冷却装置，所述冷却装置用于对所述反射曲面进行控温，所述冷却装置为热传导冷却式装置或对流冷却式装置或电制冷式装置中的任意一种或者多种的组合。10.根据权利要求1所述的一种具有大视场的投影光刻物镜光学系统，其特征在于：所述光学系统能够对光谱中i线、h线、g线三种谱线校正像差，所述i线、h线、g线的波长分别为365纳米、405纳米、436纳米。
技术总结
本发明提供了一种具有大视场的投影光刻物镜光学系统，物镜光学系统具有大视场、易于生产加工的特点，同时热稳定性好可以满足大曝光剂量的需求，设置有：第一镜组、第二镜组、第三镜组和第一反射镜，由物面发射的光束依次经过第一镜组、第二镜组、第三镜组后，经过第一反射镜反射，再依次经过第三镜组、第二镜组、第一镜组后汇聚成像到像面，物镜光学系统满足关系式：0.25<f1/L<1.1、0.17<f2/L<0.72、0.24<-f3/L<0.95，其中，f1、f2、f3为第一、二、三镜组的组合焦距，L为物镜光学系统的物面至像面的光学距离，Hy为视场的半径。Hy为视场的半径。Hy为视场的半径。
技术研发人员：刘鹏
受保护的技术使用者：张家港中贺自动化科技有限公司
技术研发日：2022.05.23
技术公布日：2022/10/3