基板及其制作方法、显示面板以及掩膜版组件与流程

1.本技术涉及显示技术领域，尤其涉及一种基板、一种基板的制作方法、一种具有该基板的显示面板以及一种掩膜版组件。


背景技术：

2.随着市场对大尺寸显示屏的需求越来越多，越来越多的公司建立了高世代的液晶显示器(liquid crystal display，lcd)与有机发光二极管(organic light-emitting diode，oled)显示器的生产线，以应对市场的需求。目前，大尺寸显示屏的基板上的图案一般无法通过一次曝光形成，因此，在设计和生产大尺寸显示屏的基板时，大多是通过多次拼接曝光形成一个具有完整图案的基板。
3.然而，在现有的设计和生产过程中，由于拼接曝光是多次曝光，掩膜版在移动过程中容易造成同层图案出现对位精度差，也会影响不同层图案之间的重叠。造成这一现象的主要原因是前后的两次曝光之间未进行有效的精度管控设计，并也未对曝光后形成的图案进行精度调整，这就造成了曝光次数越多，对位精度越差，进而导致基板的良率越低。
4.因此，如何解决提升拼接曝光的精度以达到更高的产品生产要求以及提升产品良率是技术人员亟待解决的问题。


技术实现要素：

5.鉴于上述现有技术的不足，本技术的目的在于提供一种基板、一种基板的制作方法、一种具有该基板的显示面板以及一种掩膜版组件，旨在解决现有技术中基板上的同层图案对位精度差导致的基板良率低的问题。
6.为解决上述技术问题，本技术实施例提供一种基板。所述基板包括衬底以及设置于所述衬底上的至少一个图案层，每个所述图案层包括并排设置的多个图案区，每个所述图案区包括主图案区、至少两个第一对位标记以及至少两个第二对位标记，其中，至少两个所述第一对位标记以及至少两个所述第二对位标记位于所述主图案区的同一端，所述图案区的至少两个所述第一对位标记与相邻的所述图案区的至少两个所述第二对位标记一一对准，以将相邻的所述主图案区进行对位且相邻的所述主图案区部分重合；或者，至少两个所述第一对位标记以及至少两个所述第二对位标记均分别位于所述主图案区的相对两端，且所述主图案区的每一端均具有至少一个所述第一对位标记和至少一个所述第二对位标记，相邻的两个所述图案区的至少两个所述第一对位标记与至少两个所述第二对位标记一一对准，以将相邻的所述主图案区进行对位且相邻的所述主图案区部分重合。
7.综上所述，本技术提供的基板包括衬底以及设置于所述衬底上的至少一个图案层，每个所述图案层包括并排设置的多个图案区，每个所述图案区包括主图案区、至少两个第一对位标记以及至少两个第二对位标记，其中，至少两个所述第一对位标记以及至少两个所述第二对位标记位于所述主图案区的同一端，所述图案区的至少两个所述第一对位标记与相邻的所述图案区的至少两个所述第二对位标记一一对准，以将相邻的所述主图案区
进行对位且相邻的所述主图案区部分重合；或者，至少两个所述第一对位标记以及至少两个所述第二对位标记均分别位于所述主图案区的相对两端，且所述主图案区的每一端均具有至少一个所述第一对位标记和至少一个所述第二对位标记，相邻的两个所述图案区的至少两个所述第一对位标记与至少两个所述第二对位标记一一对准，以将相邻的所述主图案区进行对位且相邻的所述主图案区部分重合。因此，在所述主图案区的同一端或者相对两端设置所述第一对位标记以及所述第二对位标记，并将所述图案区的第一对位标记与相邻的所述图案区的第二对位标记相应对准，实现了相邻的所述主图案区对位，提高了同层的所述图案区的对位精度，进而提高了基板的良率。
8.在示例性实施方式中，所述主图案区包括间隔设置的第一拼接区以及第二拼接区。至少两个所述第一对位标记以及至少两个所述第二对位标记位于所述第一拼接区和第二拼接区的同端，其中，所述第一拼接区的一端设置有至少两个所述第一对位标记，所述第二拼接区的一端设置有至少两个所述第二对位标记；或者，所述第一拼接区的一端设置有至少两个所述第二对位标记，所述第二拼接区的一端设置有至少两个所述第一对位标记；或者，所述第一拼接区的一端设置有至少一个所述第一对位标记和至少一个所述第二对位标记，所述第二拼接区的一端设置有至少一个所述第一对位标记和至少一个所述第二对位标记。
9.在示例性实施方式中，所述第一拼接区与所述第二拼接区的形状相同，且两个所述第一对位标记以及两个所述第二对位标记位于所述第一拼接区和第二拼接区的同端，所述第一拼接区一端的两个所述第一对位标记和两个所述第二对位标记中的任意两个对位标记分别位于所述第一拼接区的中轴线的相对两侧。所述第二拼接区一端的两个所述第一对位标记和两个所述第二对位标记中的任意两个对位标记分别位于所述第二拼接区的中轴线的相对两侧，其中，所述第一拼接区一端的两个对位标记与所述第一拼接区的中轴线之间的距离等于所述第二拼接区一端的两个对位标记与所述第二拼接区的中轴线之间的距离。
10.在示例性实施方式中，所述主图案区包括间隔设置的第一拼接区以及第二拼接区。所述第一拼接区的相对两端均设置至少一个所述第一对位标记，所述第二拼接区的相对两端均设置至少一个所述第二对位标记；或者，
11.所述第一拼接区的相对两端均设置至少一个所述第二对位标记，所述第二拼接区的相对两端均设置至少一个所述第一对位标记；或者，所述第一拼接区的相对两端分别设置至少一个所述第一对位标记和至少一个所述第二对位标记，所述第二拼接区的相对两端分别设置至少一个所述第一对位标记和至少一个所述第二对位标记，其中，所述第一拼接区与所述第二拼接区的同端设置有至少一个所述第一对位标记和至少一个所述第二对位标记。
12.在示例性实施方式中，所述第一拼接区与所述第二拼接区的形状相同，且两个所述第一对位标记以及两个所述第二对位标记均分别位于所述主图案区的相对两端，所述主图案区的每一端均具有一个所述第一对位标记和一个所述第二对位标记。所述第一拼接区的相对两端的第一对位标记或/和第二对位标记位于所述第一拼接区的中轴线上，所述第二拼接区的相对两端的第一对位标记或/和第二对位标记位于所述第二拼接区的中轴线上。
13.在示例性实施方式中，所述第一对位标记围设在相对准的所述第二对位标记的周侧，且所述第一对位标记的中心点与对准的所述第二对位标记的中心点的间距小于0.8um。
14.在示例性实施方式中，在每个所述主图案内，所述第一拼接区从背对所述第二拼接区的一侧到朝向所述第二拼接区的一侧的曝光程度依次递减，所述第二拼接区从背对所述第一拼接区的一侧到朝向所述第一拼接区的一侧的曝光程度依次递减；或者，在每个所述主图案内，所述第一拼接区从背对所述第二拼接区的一侧到朝向所述第二拼接区的一侧的曝光程度依次递增，所述第二拼接区从背对所述第一拼接区的一侧到朝向所述第一拼接区的一侧的曝光程度依次递增。
15.基于同样的发明构思，本技术实施例还提供一种显示面板，所述显示面板包括多个间隔柱以及上述的基板，多个所述间隔柱位于所述基板的同一侧，所述间隔柱用于支撑所述基板。
16.综上所述，本技术提供的显示面板包括间隔柱和基板。所述基板包括衬底以及设置于所述衬底上的至少一个图案层，每个所述图案层包括并排设置的多个图案区，每个所述图案区包括主图案区、至少两个第一对位标记以及至少两个第二对位标记，其中，至少两个所述第一对位标记以及至少两个所述第二对位标记位于所述主图案区的同一端，所述图案区的至少两个所述第一对位标记与相邻的所述图案区的至少两个所述第二对位标记一一对准，以将相邻的所述主图案区进行对位且相邻的所述主图案区部分重合；或者，至少两个所述第一对位标记以及至少两个所述第二对位标记均分别位于所述主图案区的相对两端，且所述主图案区的每一端均具有至少一个所述第一对位标记和至少一个所述第二对位标记，相邻的两个所述图案区的至少两个所述第一对位标记与至少两个所述第二对位标记一一对准，以将相邻的所述主图案区进行对位且相邻的所述主图案区部分重合。因此，在所述主图案区的同一端或者相对两端设置所述第一对位标记以及所述第二对位标记，并将所述图案区的第一对位标记与相邻的所述图案区的第二对位标记相应对准，实现了相邻的所述主图案区对位，提高了同层的所述图案区的对位精度，进而提高了基板的良率。
17.基于同样的发明构思，本技术实施例还提供一种掩膜版组件，所述掩膜版组件包括多个掩膜版，每个所述掩膜版包括至少两个第一标记区域以及至少两个第二标记区域，所述第一标记区域和所述第二标记区域用于分别形成上述的第一对位标记和第二对位标记。
18.综上所述，本技术提供的掩膜版组件包括多个掩膜版。所述掩膜版用于形成上述的图案层，每个所述掩膜版包括至少两个第一标记区域以及至少两个第二标记区域，所述第一标记区域和所述第二标记区域用于分别形成上述的第一对位标记和第二对位标记。每个所述图案层包括并排设置的多个图案区，每个所述图案区包括主图案区、至少两个第一对位标记以及至少两个第二对位标记，其中，至少两个所述第一对位标记以及至少两个所述第二对位标记位于所述主图案区的同一端，所述图案区的至少两个所述第一对位标记与相邻的所述图案区的至少两个所述第二对位标记一一对准，以将相邻的所述主图案区进行对位且相邻的所述主图案区部分重合；或者，至少两个所述第一对位标记以及至少两个所述第二对位标记均分别位于所述主图案区的相对两端，且所述主图案区的每一端均具有至少一个所述第一对位标记和至少一个所述第二对位标记，相邻的两个所述图案区的至少两个所述第一对位标记与至少两个所述第二对位标记一一对准，以将相邻的所述主图案区进
行对位且相邻的所述主图案区部分重合。因此，在所述主图案区的同一端或者相对两端设置所述第一对位标记以及所述第二对位标记，并将所述图案区的第一对位标记与相邻的所述图案区的第二对位标记相应对准，实现了相邻的所述主图案区对位，提高了同层的所述图案区的对位精度，进而提高了基板的良率。
19.基于同样的发明构思，本技术实施例还提供一种的制作方法，所述制作方法包括：
20.提供一衬底组件以及位于所述衬底组件上的掩膜版，所述衬底组件包括衬底；
21.对部分所述掩膜版进行第一次曝光，以在所述衬底上形成第一图案区；
22.将所述掩膜版移动第一距离后对部分所述掩膜版进行第二次曝光，以在所述衬底上形成与所述第一图案区部分重合的第二图案区；
23.将所述掩膜版移动第二距离后对部分所述掩膜版进行第三次曝光，以在所述衬底上形成与所述第二图案区部分重合的第三图案区，其中，所述第一图案区、所述第二图案区以及所述第三图案区的相对两端均具有依次排列的一个第一对位标记和一个第二对位标记。
24.在示例性实施方式中，所述制作方法还包括：检测所述第二图案区的所述第一对位标记的中心点与所述第一图案区的所述第二对位标记的中心点之间的第一间距以及所述第二图案区的所述第二对位标记的中心点与所述第三图案区的所述第一对位标记的中心点之间的第二间距；
25.若所述第一间距大于或等于临界间距，或所述第二间距大于或等于所述临界间距，修正所述第一距离和所述第二距离使得所述第一间距小于所述临界间距且所述第二间距小于所述临界间距。
26.综上所述，本技术提供的基板的制作方法包括：提供一衬底组件以及位于所述衬底组件上的掩膜版，所述衬底组件包括衬底；对部分所述掩膜版进行第一次曝光，以在所述衬底上形成第一图案区；将所述掩膜版移动第一距离后对部分所述掩膜版进行第二次曝光，以在所述衬底上形成与所述第一图案区部分重合的第二图案区；将所述掩膜版移动第二距离后对部分所述掩膜版进行第三次曝光，以在所述衬底上形成与所述第二图案区部分重合的第三图案区，其中，所述第一图案区、所述第二图案区以及所述第三图案区的相对两端均具有依次排列的一个第一对位标记和一个第二对位标记。通过检测前后两次曝光形成的所述第一对位标记的中心点与所述第二对位标记的中心点的间距，然后判断该间距是否小于临界间距。若不小于临界间距，则进行精度调整，再次曝光并检测，直至该间距小于临界间距。因此，本技术的制作方法通过有效的精度管控设计，并对曝光后形成的图案进行精度调整，提高了拼接曝光的精度并提升了产品的良率。
附图说明
27.为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
28.图1为本技术第一实施例公开的基板的结构示意图；
29.图2为图1所示的基板沿ii-ii方向的截面的俯视结构示意图；
30.图3为本技术实施例公开的第一对位标记与第二对位标记的结构示意图；
31.图4为图2所示的基板的第一图案区的结构示意图；
32.图5为图2所示的基板的第二图案区的结构示意图；
33.图6为图2所示的基板的第三图案区的结构示意图；
34.图7为本技术第二实施例公开的基板的结构示意图；
35.图8为图7所示的基板沿viii-viii方向的截面的俯视结构示意图；
36.图9为本技术实施例公开的一种显示面板的层结构示意图；
37.图10为本技术实施例公开的一种掩膜版组件的掩膜版的平面结构示意图；
38.图11为本技术实施例公开的一种基板的制作方法示意图。
39.附图标记说明：
40.1000、2000-基板；100-衬底；300-图案层；310-图案区；310a-第一图案区；310b-第二图案区；310c-第三图案区；311-主图案区；311a-第一拼接区；311b-第二拼接区；311c-非拼接区；315-第一对位标记；317-第二对位标记；3000-间隔柱；4000-显示面板；10-掩膜版；1-第一标记区域；2-第二标记区域；4-第一区域；5-第二区域；6-第三区域；8-第一过渡区域；9-第二过渡区域；11-边框；s1-s7-基板的制作方法的步骤。
具体实施方式
41.为了便于理解本技术，下面将参照相关附图对本技术进行更全面的描述。附图中给出了本技术的较佳实施方式。但是，本技术可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施方式。相反地，提供这些实施方式的目的是使对本技术的公开内容理解的更加透彻全面。
42.以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本技术可用以实施的特定实施例。本文中为部件所编序号本身，例如“第一”、“第二”等，仅用于区分所描述的对象，不具有任何顺序或技术含义。而本技术所说“连接”、“联接”，如无特别说明，均包括直接和间接连接(联接)。本技术中所提到的方向用语，例如，“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“内”、“外”、“侧面”等，仅是参考附加图式的方向，因此，使用的方向用语是为了更好、更清楚地说明及理解本技术，而不是指示或暗指所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
43.在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸地连接，或者一体地连接；可以是机械连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。需要说明的是，本技术的说明书和权利要求书及所述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别不同对象，而不是用于描述特定顺序。此外，本技术中使用的术语“包括”、“可以包括”、“包含”、或“可以包含”表示公开的相应功能、操作、元件等的存在，并不限制其他的一个或多个更多功能、操作、元件等。此外，术语“包括”或“包含”表示存在说明书中公开的相应特征、数目、步骤、操作、元素、部件或其组合，而并不排除存在或添加一个或多个其他特征、数目、步骤、操作、元素、部件或其组合，意图在于覆盖不排他的包含。还需要理解的是，本文中描述的“至少一个”的含义是一个及其以上，例如一个、两个或三个等，而“多个”的含义是至少两个，例如两个或三个等，除非另有明确具体的限定。
44.除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本技术的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本技术。
45.请参阅图1，图1为本技术第一实施例公开的基板的层结构示意图。本技术实施例提供的基板1000至少可包括衬底100以及设置于所述衬底100上的至少一个图案层300。
46.在本技术实施方式中，所述图案层300的数量可为1至10个，例如，1个、3个、5个、6个、8个、10个、或其他数量个，本技术对此不作具体限制。可以理解的是，当所述图案层300的数量为多个时，多个所述图案层300依次层叠于所述衬底100上。
47.在本技术实施方式中，以所述衬底100以及与所述衬底100相贴合的所述图案层300为例详细地阐述本方案，在其他实施方式中，也可以以相邻的两个所述图案层300为例详细地阐述本方案。本技术对此不做具体限制。
48.在示例性实施方式中，所述衬底100可为玻璃衬底。
49.在示例性实施方式中，所述基板1000可为阵列基板，所述图案层300可为栅极金属层、漏极金属层、半导体层、源极金属层、栅绝缘层、钝化层或电极层等，本技术对此不作具体限制。在其他实施方式中，所述基板1000可为彩色基板，所述图案层300可为色阻层或遮光层等，本技术对此不作具体限制。所述基板1000还可为印制电路板(printed circuit board，pcb)、集成电路板或任一需要拼接曝光形成的半导体器件，本技术对此不作具体限制。
50.请参阅图2和图3，图2为图1所示的基板沿ii-ii方向的截面的俯视结构示意图，图3为本技术实施例公开的第一对位标记与第二对位标记的结构示意图。在本技术实施例中，每个所述图案层300至少可包括并排设置的多个图案区310，其中，每个所述图案区310包括主图案区311、至少两个第一对位标记315以及至少两个第二对位标记317，至少两个第一对位标记315以及至少两个第二对位标记317位于所述主图案区311的同一端，所述图案区310的至少两个所述第一对位标记315与相邻的所述图案区310的至少两个所述第二对位标记317一一对准，以将相邻的所述主图案区311对位且相邻的所述主图案区311部分重合；或者，至少两个所述第一对位标记315以及至少两个所述第二对位标记317分别位于主图案区311的相对两端，且所述主图案区311相对两端中的每一端均具有至少一个所述第一对位标记315和至少一个所述第二对位标记317，以将相邻的所述主图案区311对位且相邻的所述主图案区311部分重合。
51.在本技术一实施方式中，每个所述图案区310可包括主图案区311、两个第一对位标记315以及两个第二对位标记317，多个所述主图案区311并排设置。两个第一对位标记315以及两个第二对位标记317位于所述主图案区311的同一端，所述图案区310的两个所述第一对位标记315与相邻的所述图案区310的两个所述第二对位标记317一一对准，以将相邻的所述主图案区311对位且相邻的所述主图案区311之间部分重合。
52.在本技术实施方式中，位于所述主图案区311同一端的至少两个所述第一对位标记315与至少两个所述第二对位标记317间隔排列。
53.在本技术另一实施方式中，请参阅图2，每个所述主图案区311包括相对设置的两端，所述主图案区311的每一端均设置有一个所述第一对位标记315以及一个所述第二对位标记317，所述图案区310的所述第一对位标记315与相邻的所述图案区310的所述第二对位
标记317对准，即任意相邻的所述图案区310的第一对位标记315与第二对位标记317之间相对准，以将相邻的所述主图案区311对位且相邻的所述主图案区311之间部分重合。其中，所述主图案区311的相对两端为未设置有相邻所述主图案区311的两端。
54.在示例性实施方式中，所述主图案区311相对两端的端面与相邻的所述主图案区311的相对两端的端朝向齐。
55.可以理解的是，若只在每个所述主图案区311相对两端中的一端设置一个所述第一对位标记315以及一个所述第二对位标记317，则有可能出现所述主图案区311的所述第一对位标记315与相邻的所述主图案区311的所述第二对位标记317对准后，所述主图案区311相对于相邻的所述主图案区311有一定的偏转角度。因此，在所述主图案区311的相对两端均设置至少一个所述第一对位标记315以及至少一个所述第二对位标记317，可以避免所述主图案区311相对于相邻的所述主图案区311有一定的偏转角度的情况，以进一步提高相邻的所述主图案区311的对位精度并提升了基板的良率。
56.在示例性实施方式中，请一并参阅图4至图6，图4为图2所示的基板的第一图案区的结构示意图，图5为图2所示的基板的第二图案区的结构示意图，图6为图2所示的基板的第三图案区的结构示意图。多个所述图案区310包括第一图案区310a、多个第二图案区310b以及第三图案区310c，也即为，多个所述图案区310按照图案类型可以划分为第一图案区310a、所述第二图案区310b以及所述第三图案区310c，且所述第一图案区310a、多个所述第二图案区310b以及所述第三图案区310c依次并排设置形成所述图案层300。
57.在本技术实施方式中，以所述第二图案区310b的数量为一个进行举例阐述，在其他实施方式中，所述第二图案310b的数量可为多个，本技术对此不作具体限定。
58.在本技术实施方式中，所述第一对位标记315的中心点与对准的所述第二对位标记317的中心点的间距小于0.8um，例如，0.1um、0.2um、0.3um、0.4um、0.5um、0.6um、0.7um、0.75um、或其他数值，本技术对此不作具体限定。
59.在示例性实施方式中，所述第一对位标记315的中心点为其几何中心，所述第二对位标记317的中心点为其几何中心。
60.可以理解的是，所述第一对位标记315的中心点与对准的所述第二对位标记317的中心点之间存在一定距离，即相邻的所述主图案区311之间的对位存在偏移量。在本技术实例中，相邻的所述图案区311之间的对位偏移量不能超过0.8um，即所述第一对位标记315的中心点与对准的所述第二对位标记317的中心点的间距小于0.8um，一旦对位偏移量超过0.8um，将会使得基板1000的良率以及功能大幅降低。
61.在示例性实施方式中，所述第一对位标记315的整体面积大于所述第二对位标记317的整体面积，使得所述第一对位标记315围设在相对准的所述第二对位标记317的周侧。
62.在示例性实施方式中，位于每个所述主图案区311同一端的所述第一对位标记315与所述第二对位标记317的个数以及排列方式相同。
63.在示例性实施方式中，每个所述主图案区311的端面与位于其同一端的所述第一对位标记315的中心点与所述第二对位标记317的中心点的连线平行。
64.在示例性实施方式中，所述第一对位标记315的整体形状可为中空的矩形、圆形、菱形、三角形、椭圆形、梯形或多边形等，本技术对此不作具体限制。所述第一对位标记315中空部分的形状可为矩形、圆形、菱形、三角形、椭圆形、梯形或多边形等，本技术对此不作
具体限制。
65.在示例性实施方式中，所述第二对位标记317的整体形状可为矩形、圆形、菱形、三角形、椭圆形、梯形或多边形等，本技术对此不作具体限制。
66.在本技术实施方式中，以所述第一对位标记315的整体形状为正方形、所述第一对位标记315中空部分为正方形以及所述第二对位标记317的整体形状也为正方形进行举例阐述。所述第一对位标记315的边长为60至100um，例如，60um、71um、80um、89um、100um、或其他数值，本技术对此不作具体限制。所述第一对位标记315中空部分的边长为40至80um，例如，40um、50um、58um、71um、80um、或其他数值，本技术对此不作具体限制。所述第二对位标记317的边长为20至60um，例如，20um、29um、37um、50um、60um、或其他数值，本技术对此不做具体限制。
67.综上所述，本技术实施例提供的基板1000包括衬底100以及设置于所述衬底100上的至少一个图案层300，每个所述图案层300至少可包括并排设置的多个图案区310，其中，每个所述图案区310包括主图案区311、至少两个第一对位标记315以及至少两个第二对位标记317，其中，至少两个第一对位标记315以及至少两个第二对位标记317位于主图案区311的同一端，所述图案区310的至少两个所述第一对位标记315与相邻的所述图案区310的至少两个所述第二对位标记317一一对准，以将相邻的所述主图案区311对位且相邻的所述主图案区311之间部分重合；或者，至少两个第一对位标记315以及至少两个第二对位标记317分别位于主图案区311的相对两端，且主图案区311的同一端具有至少一个第一对位标记315和至少一个第二对位标记317，以将相邻的所述主图案区311对位且相邻的所述主图案区311之间部分重合。因此，在所述主图案区311的同一端或者相对两端设置所述第一对位标记315以及所述第二对位标记317，并将所述图案区310的第一对位标记315与相邻的所述图案区310的第二对位标记317相应对准，实现了相邻的所述主图案区311对位，提高了同层的所述图案区310的对位精度，进而提高了基板的良率。
68.请参阅图2、图4、图5和图6，在本技术实施例中，每个所述主图案区311包括间隔设置的第一拼接区311a以及第二拼接区311b，所述第一拼接区311a的一端设置一个所述第一对位标记315，所述第一拼接区311a的另一端设置一个所述第二对标记317，也即为，所述第一拼接区311a的相对两端均设置有一个对位标记，且所述第一拼接区311a相对两端设置的对位标记不同。所述第二拼接区311b的一端设置一个所述第一对位标记315，所述第二拼接区311b的另一端设置一个所述第二对标记317，也即为，所述第二拼接区311b的相对两端设置有不同的对位标记，且所述第二拼接区311b相对两端设置的对位标记不同。所述第一拼接区311a与所述第二拼接区311b朝向相同的端设置不同的对位标记。
69.在示例性实施方式中，所述第一拼接区311a和所述第二拼接区311b的整体形状可矩形，且所述第一拼接区311a和所述第二拼接区311b的尺寸和形状一致。在其他实施方式中，所述第一拼接区311a和所述第二拼接区311b的形状还可为三角形、梯形、圆形或多边形等，本技术对此不作具体限制。
70.在本技术实施方式中，位于所述第一拼接区311a相对两端的对位标记的中心点位于所述第一拼接区311a的中轴线上，位于所述第二拼接区311b相对两端的对位标记的中心点位于所述第二拼接区311b的中轴线上。其中，所述第一拼接区311a的中轴线与所述第一拼接区311a相对两端的端面垂直，并将所述第一拼接区311a分成两个完全对等的图形；所
述第二拼接区311b的中轴线与所述第二拼接区311b相对两端的端面垂直，并将所述第二拼接区311b分成两个完全对等的图形。可以理解的是，所述图案区310的第一对位标记315与相邻的所述图案区310的第二对位标记317对准，以将所述图案区310的所述第二拼接区311b与相邻的所述图案区310的所述第一拼接区311a对位且完全重合。
71.在其他实施例中，所述第一拼接区311a的相对两端均设置一个所述第一对位标记315或一个所述第二对位标记317，也即为，所述第一拼接区311a的相对两端设置同一种对位标记。相应地，所述第二拼接区311b的相对两端均设置一个所述第二对位标记317或所述第一对位标记315，也即为，所述第二拼接区311b的相对两端设置不同于位于所述第一拼接区311a相对两端的对位标记的另一种对位标记。也即为，每个所述主图案区311包括间隔设置的第一拼接区311a以及第二拼接区311b，所述第一拼接区311a的相对两端均设置一个所述第一对位标记315，所述第二拼接区311b的相对两端均设置一个所述第二对位标记317，或者，所述第一拼接区311a的相对两端均设置一个所述第二对位标记317，所述第二拼接区311b的相对两端均设置一个所述第一对位标记315。
72.在示例性实施方式中，每个所述主图案区311还包括至少一个非拼接区311c。请参阅图4，所述第一图案区310a包括两个所述非拼接区311c，其中，一个所述非拼接区域311c设置于所述第一拼接区311a与所述第二拼接区311b之间，另一个所述非拼接区311c设置于所述第一拼接区311a背对所述第二拼接区311b的一侧，即所述第一拼接区311a位于两个所述非拼接区311c之间。请参阅图5，所述第二图案区310b包括一个所述非拼接区域311c，其中，所述非拼接区域311c设置于所述第一拼接区311a与所述第二拼接区311b之间。请参阅图6，所述第三图案区310c包括两个所述非拼接区域311c，其中，一个所述非拼接区域311c设置于所述第一拼接区311a与所述第二拼接区311b之间，另一个所述非拼接区311c位于所述第二拼接区311b背对所述第一拼接区311a的一侧，即所述第二拼接区311b位于两个所述非拼接区311c之间。
73.可以理解的是，由于所述基板1000的面积太大，不能通过一次曝光就形成，需要通过多次拼接曝光形成。在本技术实施方式中，先在所述衬底100上形成所述第一图案区310a，然后在所述第一图案区310a的一侧形成所述第二图案区310b，通过所述第二图案区310b的所述第一拼接区311a的相对两端的对位标记与所述第一图案区310a的所述第二拼接区311b相对两端的对位标记对准，来实现所述第二图案区310b的所述第一拼接区311a与所述第一图案区310a的所述第二拼接区311b的对位与重合。最后在所述第二图案区310b背对所述第一图案区310a的一侧形成所述第三图案区310c，通过所述第三图案区310c的所述第一拼接区311a的相对两端的对位标记与所述第二图案区310b的所述第二拼接区311b相对两端的对位标记对准，来实现所述第三图案区310c的所述第一拼接区311a与所述第二图案区310b的所述第二拼接区311b的对位与重合。
74.在本技术实施方式中，所述第二图案区310b的数量可为多个，即可在所述第一图案区310a的一侧设置有并排设置的多个所述第二图案区310b，且多个所述第二图案区310b位于所述第一图案区310a的同一侧。本技术以所述第二图案区310b的数量为一个进行举例阐述，本技术对此不做具体限定。
75.可以理解的是，所述第一图案区310a与所述第二图案区310b的重合部分(即所述第一图案区310a的所述第二拼接区311b与所述第二图案区310b的所述第一拼接区311a)是
通过两次曝光形成的，所述第二图案区310b与所述第三图案区310c的重合部分(即所述第二图案区310b的所述第二拼接区311b与所述第三图案区310c的所述第一拼接区311a)也是通过两次曝光形成的。所述非拼接区311c的曝光程度是100％，为实现重合部分与所述非拼接区311c的曝光程度一致，所述第一拼接区311a与所述第二拼接区311b的曝光程度是递增或递减的，且所述第一拼接区311a与第二拼接区311b的曝光程度是互补的。例如，所述第一拼接区311a从背对所述第二拼接区311b的一侧到朝向所述第二拼接区311b的一侧的曝光程度从100％依次递减为0％，所述第二拼接区311b从背对所述第一拼接区311a的一侧到朝向所述第一拼接区311a的一侧的曝光程度从100％依次递减为0％，通过上述即可实现在重合部分形成100％曝光，即与所述非拼接区311c的曝光程度一致。当然也可以所述第一拼接区311a从背对所述第二拼接区311b的一侧到朝向所述第二拼接区311b的一侧的曝光程度从0％依次递增为100％，所述第二拼接区311b从背对所述第一拼接区311a的一侧到朝向所述第一拼接区311a的一侧的曝光程度从0％依次递增为100％，本技术对此不做具体限定。
76.综上所述，本技术实施例提供的基板1000包括衬底100以及设置于所述衬底100上的至少一个图案层300，每个所述图案层300至少可包括并排设置的多个图案区310，其中，每个所述图案区310包括主图案区311、两个第一对位标记315以及两个第二对位标记317，每个所述主图案区311包括间隔设置的第一拼接区311a以及第二拼接区311b，所述第一拼接区311a的相对两端分别设置一个所述第一对位标记315和一个所述第二对标记317，所述第二拼接区311b的相对两端分别设置一个所述第二对标记317和一个所述第一对位标记315，且所述第一拼接区311a与所述第二拼接区311b的同端设置不同的对位标记。所述图案区310的第一对位标记315与相邻的所述图案区310的第二对位标记317对准，以将所述图案区310的所述第二拼接区311b与相邻的所述图案区310的所述第一拼接区311a对位且重合。因此，在所述主图案区311的同一端设置所述第一对位标记315以及所述第二对位标记317，并将相邻的所述图案区310的第一对位标记315与相邻的所述图案区310的第二对位标记317对准，实现了相邻的所述主图案区311对位，提高了同层的所述图案区310的对位精度，进而提高了基板的良率。
77.请参阅图7和图8，图7为本技术第二实施例公开的基板的层结构示意图。图8为图7所示的基板沿vii-vii方向的截面的俯视结构示意图。本技术第二实施例公开的基板2000与第一实施例公开的基板1000的区别点在于：图7和图8所示基板2000的主图案区311的的相对两端均设置有两个所述第一对位标记315和两个所述第二对位标记317。
78.在本技术实施例中，每个所述主图案区311的相对两端均设置有两个所述第一对位标记315和两个所述第二对位标记317，也即为，每个所述主图案区311的一端设置有两个所述第一对位标记315和两个所述第二对位标记317，相对的另一端设置有两个所述第一对位标记315和两个所述第二对位标记317。所述图案区310的两个所述第一对位标记315与相邻的所述图案区310的两个所述第二对位标记317一一对准，以将相邻的所述主图案区311对位且相邻的所述主图案区311部分重合。
79.在本技术实施方式中，在一个所述图案区310中，所述第一拼接区311a的相对两端均设置有两个第一对位标记315，所述第二拼接区311b的相对两端均设置有两个第二标记317。其中，设置于所述第一拼接区311a一端的两个所述第一对位标记315位于所述第一拼接区311a的中轴线的相对两侧，设置于所述第二拼接区311b一端的两个所述第二对位标记
317位于所述第二拼接区311b的中轴线的相对两侧。
80.在其他实施方式中，所述第一拼接区311a的相对两端均设置有两个第二对位标记317，所述第二拼接区311b的相对两端均设置有两个第一对位标记315。也可以，所述第一拼接区311a的一端设置一个所述第一对位标记315以及一个所述第二对位标记317，所述第二拼接区311b的一端设置一个所述第二对位标记315以及一个所述第二对位标记317，本技术对此不作具体限制。只需保证所述第一拼接区311a与所述第二拼接区311b的同一端且中轴线的同一侧设置不同的对位标记。
81.可以理解的是，所述图案区310的第一拼接区311a与相邻的所述图案区310的第二拼接区311b的同一端且中轴线的同一侧的对位标记相对准，以将所述图案区310的所述第二拼接区311b与相邻的所述图案区310的所述第一拼接区311a对位且重合，以及将所述图案区310的所述第一拼接区311a与相邻的所述图案区310的所述第二拼接区311b对位且重合。
82.在示例性实施方式中，位于所述第一拼接区311a的同一端的两个对位标记的中心点与所述第一拼接区311a的中轴线的间距一致，位于所述第二拼接区311b的同一端的两个对位标记的中心点与所述第二拼接区311b的中轴线的间距一致。第二实施例的基板2000与第一实施例的基板1000相同之处的描述，请参照第一实施例的基板1000的描述，在此不再赘述。
83.综上所述，本技术实施例提供的基板1000包括衬底100以及设置于所述衬底100上的至少一个图案层300，每个所述图案层300至少可包括并排设置的多个图案区310，其中，每个所述图案区310包括主图案区311、四个第一对位标记315以及四个第二对位标记317，两个第一对位标记315以及两个第二对位标记317位于主图案区311的同一端。每个所述主图案区311包括间隔设置的第一拼接区311a以及第二拼接区311b，所述第一拼接区311a的相对两端均设置有两个第一对位标记315，所述第二拼接区311b的相对两端均设置有两个第二对位标记317，所述图案区310的两个所述第一对位标记315与相邻的所述图案区310的两个所述第二对位标记317一一对准，以将所述图案区310的所述第二拼接区311b与相邻的所述图案区310的所述第一拼接区311a对位且重合。因此，在所述主图案区311的同一端设置所述第一对位标记315以及所述第二对位标记317，并将相邻的所述图案区310的第一对位标记315与相邻的所述图案区310的第二对位标记317对准，实现了相邻的所述主图案区311对位，提高了同层的所述图案区310的对位精度，进而提高了基板的良率。
84.基于同样的发明构思，本技术实施例提供一种显示面板，请参阅图9，图9为本技术实施例公开的一种显示面板的层结构示意图。所述显示面板4000包括多个间隔柱3000以及上述的基板1000(2000)，多个所述间隔柱3000位于所述基板1000(2000)的同一侧，所述间隔柱3000用于支撑所述基板。由于图1至图8所示的实施例中已对基板1000(2000)进行了较为详细的阐述，在此不再赘述。
85.在其中一个实施例中，所述显示面板还包括液晶层以及封框胶等其他必要的组件，本领域技术人员可根据显示面板的具体类型和实际功能进行相应地补充，在此不再赘述。
86.综上所述，本技术实施例提供的显示面板4000包括间隔柱3000以及上述的基板1000(2000)，所述基板1000(2000)包括衬底100以及设置于所述衬底100上的至少一个图案
层300，每个所述图案层300至少可包括并排设置的多个图案区310，其中，每个所述图案区310包括主图案区311、至少两个第一对位标记315以及至少两个第二对位标记317，其中，至少两个第一对位标记315以及至少两个第二对位标记317位于主图案区311的同一端，所述图案区310的至少两个所述第一对位标记315与相邻的所述图案区310的至少两个所述第二对位标记317一一对准，以将相邻的所述主图案区311对位且相邻的所述主图案区311之间部分重合；或者，至少两个第一对位标记315以及至少两个第二对位标记317分别位于主图案区311的相对两端，且主图案区311的同一端具有至少一个第一对位标记315和至少一个第二对位标记317，以将相邻的所述主图案区311对位且相邻的所述主图案区311之间部分重合。因此，在所述主图案区311的同一端或相对两端设置所述第一对位标记315以及所述第二对位标记317，并将相邻的所述图案区310的第一对位标记315与相邻的所述图案区310的第二对位标记317相应对准，实现了相邻的所述主图案区311对位，提高了同层的所述图案区310的对位精度，进而提高了基板的良率。
87.基于同样的发明构思，本技术实施例还提供一种掩膜版组件，所述掩膜版组件包括多个掩膜版10，所述掩膜版10用于制作图1至图8所示的基板1000(2000)的图案层300。
88.可以理解的是，一个掩膜版10用于形成一个图案层300，因此，形成多个图案层300需要掩膜版组件(即多个掩膜版10)。
89.请参阅图10，图10为本技术实施例公开的掩膜版组件的掩膜版的平面结构示意图。本技术实施例中，所述掩膜版10包括间隔设置的至少两个第一标记区域1以及至少两个第二标记区域2，所述第一标记区域1曝光后形成所述第一对位标记315，所述第二标记区域2曝光形成所述第二对位标记317。
90.在本技术实施方式中，以形成图1至图6所示的基板1000的图案层300进行举例说明，在其他实施方式中，也可以以形成图7和图8所示的基板2000的图案层300进行举例阐述，本技术对此不作具体限制。
91.在示例性实施方式中，所述掩膜版10包括依次并排设置的第一区域4、第一过渡区域8、第二区域5、第二过渡区域9以及第三区域6。其中，所述第一过渡区8曝光形成所述第一拼接区311a，所述第二过渡区9曝光形成所述第二拼接区311b。
92.在示例性实施方式中，所述第一过渡区域8的相对两端均设置一个标记区域。也即为，所述第一过渡区域8的一端设置一个第一标记区域1，另一端设置一个第二标记区域2。在其他实施方式中，也可以所述第一过渡区域8的相对两端均设一个所述第一标记区域1或一个所述第二标记区域2。
93.在示例性实施方式中，所述第二过渡区域9的相对两端均设置一个标记。也即为，所述第二过渡区域9的一端设置一个第一标记区域1，另一端设置一个第二标记区域2。在其他实施方式中，也可以所述第二过渡区域9的相对两端均设一个所述第一标记区域1或一个所述第二标记区域2。所述第一过渡区域8与所述第二过渡区域9的同端设置不同的标记区域。
94.在示例性实施方式中，请参阅图10和图4，所述第一区域4、第一过渡区域8、所述第二区域5以及所述第二过渡区域9曝光后形成第一图案区310a的主图案区311。请参阅图10和图5，将所述掩膜版10移动第一预定距离，所述第一过渡区域8、所述第二区域5以及所述第二过渡区域9曝光后形成曝光形成所述第二图案区310b的主图案区311。请参阅图10和图
6，将所述掩膜版10继续移动第二预定距离，所述第一过渡区域8、所述第二区域5、所述第二过渡区域9以及所述第三区域6曝光形成所述第三图案区310c的主图案区311。
95.在示例性实施方式中，所述掩膜版10还包括边框11，所述第一标记区域1、所述第二标记区域2、所述第一区域4、所述第二区域5、所述第三区域6、所述第一过渡区域8以及所述第二过渡区域9位于所述边框11内。
96.在示例性实施方式中，所述第一区域4与所述第一过渡区域8相互朝向的侧面齐平，所述第一过渡区域8与所述第二区域5相互朝向的侧面齐平，所述第二区域5与所述第二过渡区域9相互朝向的侧面齐平，所述第二过渡区域9与所述第三区域6相互朝向的侧面齐平。
97.在示例性实施方式中，所述第一区域4相对两端的端面、所述第一过渡区域8相对两端的端面、所述第二区域5相对两端的端面、所述第二过渡区域9相对两端的端面以及所述第三区域6相对两端的端面均相互齐平。
98.在示例性实施方式中，所述第一过渡区域8与所述第二过渡区域9的尺寸与大小一致。
99.可以理解的是，所述第一过渡区域8相对两侧的距离越大，其曝光形成的所述第一拼接区311a的平整性以及均一性就越好，所述第二过渡区域9相对两侧的距离越大，其曝光形成的所述第二拼接区311b的平整性以及均一性就越好。
100.在示例性实施方式中，所述第一过渡区域8和所述第二过渡区域9的整体形状可矩形，且所述第一过渡区域8和所第二过渡区域9的尺寸和形状一致。在其他实施方式中，所述第一过渡区域8和所述第二过渡区域9的形状还可为三角形、梯形、圆形或多边形等，本技术对此不作具体限制。
101.在示例性实施方式中，所述第一过渡区域8相对两端的所述第一标记区域1和所述第二标记区域2的中心点位于所述第一过渡区域8的中轴线上。所述第二过渡区域9相对两端的所述第一标记区域1和所述第二标记区域2的中心点位于所述第一过渡区域9的中轴线上。所述第一过渡区域8的中轴线与所述第一过渡区域8的端面垂直，且将所述第一过渡区域8分成两个完全对等的图形。所述第二过渡区域9的中轴线与所述第二过渡区域9的端面垂直，且将所述第二过渡区域9分成两个完全对等的图形。
102.在示例性实施方式中，位于所述第一过渡区域8和所述第二过渡区域9的同一端的两个对位标记的中心点的连线与所述第一过渡区域8的端面平行。
103.在示例性实施方式中，所述第一标记区域1的整体形状可为中空的矩形、圆形、菱形、三角形、椭圆形、梯形或多边形等，本技术对此不作具体限制。所述第一标记区域1中空部分的形状可为矩形、圆形、菱形、三角形、椭圆形、梯形或多边形等，本技术对此不作具体限制。
104.在示例性实施方式中，所述第二标记区域2的整体形状可为矩形、圆形、菱形、三角形、椭圆形、梯形或多边形等，本技术对此不作具体限制。
105.在本技术实施方式中，以所述第一标记区域1的整体形状为正方形、所述第一标记区域1中空部分为正方形以及所述第二标记区域2的整体形状也为正方形进行举例阐述。所述第一标记区域1的边长为60至100um，例如，60um、71um、80um、89um、100um、或其他数值，本技术对此不作具体限制。所述第一标记区域1中空部分的边长为40至80um，例如，40um、
50um、58um、71um、80um、或其他数值，本技术对此不作具体限制。所述第一标记区域1的边长为20至60um，例如，20um、29um、37um、50um、60um、或其他数值，本技术对此不做具体限制。
106.在示例性实施方式中，所述第一标记区域1的中心点为其几何中心，所述第二标记区域2的中心点为其几何中心。
107.在示例性实施方式中，所述第一标记区域1、所述第二标记区域2、所述第一区域4、所述第二区域5以及所述第三区域6的透光率可为100％。所述第一过渡区域8的透光率从背对所述第二过渡区域9的一侧到朝向所述第二过渡区域9的一侧的透光率从100％依次递减为0％，所述第二过渡区域9的透光率从背对所述第一过渡区域8的一侧到朝向所述第一过渡区域8的一侧的透光率从100％依次递减为0％。当然也可以为，所述第一过渡区域8的透光率从背对所述第二过渡区域9的一侧到朝向所述第二过渡区域9的一侧的透光率从0％依次递增为100％，所述第二过渡区域9的透光率从背对所述第一过渡区域8的一侧到朝向所述第一过渡区域8的一侧的透光率从0％依次递增为100％。
108.综上所述，本技术实施例提供的掩膜版组件的掩膜版10用于形成基板1000的图案层300，所述掩膜版10包括间隔设置的至少两个第一标记区域1以及至少两个第二标记区域2，所述第一标记区域1曝光后形成所述第一对位标记315，所述第二标记区域2曝光形成所述第二对位标记317。所述第一标记区域1曝光后形成所述第一对位标记315，所述第二标记区域2曝光形成所述第二对位标记317。所述掩膜版10还包括依次并排设置的第一区域4、第一过渡区域8、第二区域5、第二过渡区域9以及第三区域6。所述第一区域4、第一过渡区域8、所述第二区域5以及所述第二过渡区域9曝光后形成第一图案区310a的主图案区311。所述第一过渡区域8、所述第二区域5以及所述第二过渡区域9曝光后形成曝光形成所述第二图案区310b的主图案区311。所述第一过渡区域8、所述第二区域5、所述第二过渡区域9以及所述第三区域6曝光形成所述第三图案区310c的主图案区311。所述第一图案区310a、所述第二图案区310b以及所述第三图案区310c依次并排设置以形成所述图案层300，且所述第一图案区310a与所述第二图案区310b之间通过所述第一对位标记315与所述第二对位标记317相对准来实现对位，所述第二图案区310b与所述第三图案区310c之间通过所述第一对位标记315与所述第二对位标记317相对准来实现对位。因此，具有所述第一标记区域1以及所述第二标记区域2的所述掩膜版10通过拼接曝光形成的图案层300具有较高的对位精度，并进一步提高了形成的基板1000的良率。
109.基于同样的发明构思，本技术实施例还提供一种基板的制作方法，所述制作方法用于制作图1至图8所示的基板1000(2000)，在本技术实施例中，以形成图1至图6所示的基板1000为例进行阐述，在其他实施例中，也可以以形成图7和图8所示的基板1000为例进行阐述。在申请本实施例的制作方法中与上述基板1000(2000)以及掩膜版10中重复的部分内容可以直接参看上述基板1000(2000)和掩膜版10实施例中的描述，在此不再赘述。
110.请一并参阅图1、图2、图10以及图11，图11为本技术实施例公开的一种基板的制作方法示意图，所述制作方法至少包括以下步骤。
111.s1、提供一衬底组件以及位于所述衬底组件上的掩膜版10，所述衬底组件包括衬底100；
112.在本技术实施方式中，提供一衬底组件以及位于所述衬底组件上的掩膜版10，在洁净的衬底100上通过蒸镀或沉积的方式形成一层半导体层或金属层，并在所述半导体层
或所述金属层上涂覆一层光刻胶。也即为，所述衬底100上依次形成有半导体层(或金属层)和光刻胶。
113.在示例性实施方式中，所述金属层可由铂(pt)、金(au)、铝(al)、铜(cu)、钛(ti)、银(ag)、钪(sc)、钇(y)、铬(cr)、镍(ni)等金属材料中的任意一种或者多种材料制成。
114.具体为，所述掩膜版10包括依次并排设置的第一区域4、第一过渡区域8、第二区域5、第二过渡区域9以及第三区域6，所述掩膜版10还包括第一标记区域1以及第二标记区域2。其中，所述第一过渡区域8的一端设置有一个所述第一标记区域1，所述第一过渡区域8的另一端设置有一个所述第二标记区域2，所述第二过渡区域9的一端设置有一个所述第一标记区域1，所述第二过渡区域9的另一端设置有一个所述第二标记区域2，且所述第一过渡区域8和所述第二过渡区域9同端设置不同的标记区域。
115.s2、对部分所述掩膜版10进行第一次曝光，以在所述衬底100上形成第一图案区310a。
116.具体为，对所述第一区域4、第一过渡区域8、所述第二区域5、所述第二过渡区域9、位于所述第一过渡区域8相对两端的第一对位标记315和第二对位标记317以及位于所述第二过渡区域9相对两端的第一对位标记315以及第二对位标记317曝光后形成第一图案区310a。其中，所述第一过渡区域8曝光形成所述第一图案区310a的第一拼接区311a，所述第二过渡区域9曝光形成所述第一图案区310a的第二拼接区311b。
117.s3、将所述掩膜版10移动第一距离后对部分所述掩膜版10进行第二次曝光，以在所述衬底100上形成与所述第一图案区310a部分重合的第二图案区310b。
118.具体为，对第一过渡区域8、所述第二区域5、所述第二过渡区域9、位于所述第一过渡区域8相对两端的第一对位标记315和第二对位标记317以及位于所述第二过渡区域9相对两端的第一对位标记315以及第二对位标记317曝光后形成第二图案区310b。其中，所述第一过渡区域8曝光形成所述第二图案区310b的第一拼接区311a，所述第二过渡区域9曝光形成所述第二图案区310b的第二拼接区311b。
119.s4、将所述掩膜版10移动第二距离后对部分所述掩膜版10进行第三次曝光，以在所述衬底100上形成与所述第二图案区310b部分重合的第三图案区310c，其中，所述第一图案区310a、所述第二图案区310b以及所述第三图案区310c的相对两端均具有依次排列的一个第一对位标记315和一个第二对位标记317。
120.具体为，对第一过渡区域8、所述第二区域5、所述第二过渡区域9、所述第三区域6、位于所述第一过渡区域8相对两端的第一对位标记315和第二对位标记317以及位于所述第二过渡区域9相对两端的第一对位标记315以及第二对位标记317曝光后形成第三图案区310c。其中，所述第一过渡区域8曝光形成所述第三图案区310c的第一拼接区311a，所述第二过渡区域9曝光形成所述第三图案区310c的第二拼接区311b。其中，所述第一图案区310a、所述第二图案区310b以及所述第三图案区310c的依次并排设置。
121.s5、检测所述第二图案区310b的第一对位标记315的中心点与所述第一图案区310a的第二对位标记317的中心点之间的第一间距以及所述第二图案区310b的第二对位标记317的中心点与所述第三图案区310c的第一对位标记315的中心点之间的第二间距。
122.具体为，通过图形尺寸检测设备(例如，ads设备)检测所述第二图案区310b的第一对位标记315的中心点与所述第一图案区310a的第二对位标记317的中心点的间距以及检
测所述第二图案区310b的第二对位标记317的中心点与所述第三图案区310c的第一对位标记315的中心点的间距。
123.可以理解的是，所述第一间距和所述第二间距用来判断所述第二图案区310b的所述第二拼接区311b与所述第三图案区310c的所述第一拼接区311a的对位情况。
124.可以理解的是，所述第二图案区310b的第一对位标记315围设在所述第一图案区310a的第二对位标记317的周侧，所述第三图案区310c的第一对位标记315围设在所述第二图案区310b的第二对位标记317的周侧。通过上述的对位方式的检测出来的结果更准确，而且也便于调整所述第二图案区310b相对于所述第一图案区310a的对位情况以及所述第三图案区310c相对于所述第二图案区310b的对位情况。
125.s6、若所述第一间距小于临界间距且所述第二间距小于所述临界间距，则重复步骤s1与步骤s4制作基板1000。
126.具体为，若所述第二图案区310b的第一对位标记315与所述第一图案区310a的第二对位标记317的间距小于临界间距且所述第二图案区310b的第二对位标记317与所述第三图案区310c的第一对位标记315的间距小于所述临界间距，则说明，移动所述第一距离后形成的所述第二图案区310b满足对位要求，移动所述第二距离后形成的第三图案区310c满足对位要求。
127.在本技术实施方式中，所述临界间距为0.8um。
128.s7、若所述第一间距大于或等于所述临界间距或所述第二间距大于或等于所述临界间距，修正所述第一距离和所述第二距离使得所述第一间距小于所述临界间距且所述第二间距小于所述临界间距。
129.可以理解的是，检测所述第一图案区310a的第二对位标记317的中心点，得到参考坐标(0,0)，检测所述第二图案区310b的第一对位标记315的中心点，得到坐标(0+x1，0+y1),根据x1和y1修正所述第一距离，即将所述第一距离调整-x1以及-y1，同理调整修正所述第二距离。从而使得所述第二图案区310b相对于所述第一图案区310a的对位偏移量小于临界间距以及所述第三图案区310c相对于所述第二图案区310b的对位偏移量小于临界间距。
130.综上所述，本技术实施例提供的基板的制作方法通过检测前后两次曝光形成的所述第一对位标记315的中心点与所述第二对位标记317的中心点的间距，然后判断该间距是否小于临界间距。若小于临界间距，则进行大规模生产，若不小于临界间距，则进行精度调整，再次曝光并检测，直至该间距小于临界间距。因此，本技术的制作方法通过有效的精度管控设计，并对曝光后形成的图案进行精度调整，提高了拼接曝光的精度并提升了产品的良率。
131.本技术中所描述的流程图仅仅为一个实施例，在不偏离本技术的精神的情况下对此图示或者本技术中的步骤可以有多种修改变化。比如，可以不同次序的执行这些步骤，或者可以增加、删除或者修改某些步骤。本领域的一般技术人员可以理解实现上述实施例的全部或部分流程，并依本技术权利要求所作的等同变化，仍属于发明所涵盖的范围。
132.在本说明书的描述中，参考术语“一个实施方式”、“一些实施方式”、“示意性实施方式”、“示例”、“具体示例”或“一些示例”等的描述意指结合所述实施方式或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本技术的至少一个实施方式或示例中。在本说明书中，
对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施方式或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施方式或示例中以合适的方式结合。
133.应当理解的是，本技术的应用不限于上述的举例，对本领域普通技术人员来说，可以根据上述说明加以改进或变换，所有这些改进和变换都应属于本技术所附权利要求的保护范围。本领域的一般技术人员可以理解实现上述实施例的全部或部分流程，并依本技术权利要求所作的等同变化，仍属于本技术所涵盖的范围。