技术特征：
1.波分复用滤光片，玻璃基板的其中一面覆盖有光学涂层，其特征在于：所述光学涂层由内向外依次为甲复层、乙复层及丙复层；所述甲复层由二氧化铪、二氧化硅组成；所述乙复层由五氧化二钽、二氧化硅组成；所述丙复层由三氧化二钛、二氧化硅组成。2.根据权利要求1所述的波分复用滤光片，其特征在于：所述光学涂层设有9-11层。3.根据权利要求2所述的波分复用滤光片，其特征在于：所述甲复层的厚度为0.3-0.5微米。4.根据权利要求3所述的波分复用滤光片，其特征在于：所述甲复层、乙复层及丙复层的厚度比为1:0.7-0.9:0.9-1.2。5.根据权利要求1-4中任一所述的波分复用滤光片，其特征在于：甲复层、乙复层及丙复层中的二氧化硅厚度均为0.12-0.18微米。6.根据权利要求5所述的波分复用滤光片，其特征在于：所述玻璃基板的另一面贴附有增透膜层，所述玻璃基板的厚度为0.8mm～1.2mm。7.波分复用滤光片的生产方法，其特征在于，包括以下步骤：1)清洗玻璃基板；2)用真空离子束溅射方法镀制二氧化硅薄膜；3)用真空离子束溅射方法镀制二氧化铪薄膜；4)用真空离子束溅射方法镀制二氧化硅薄膜；5)用真空离子束溅射方法镀制五氧化二钽薄膜；6)用真空离子束溅射方法镀制二氧化硅薄膜；7)用真空离子束溅射方法镀制三氧化二钛薄膜；8)重复2)-7)预设次数，完成波分复用滤光片的生产，预设次数为光学涂层的层数。8.根据权利要求7所述波分复用滤光片的生产方法，其特征在于：所述1)中，用去离子水将基片清洗干净，然后用丙酮擦拭干净，清洗干净并自然晾干后放入沉积腔体样品台，之后在真空度抽取到2-3
×
10-4
pa，最后在薄膜沉积前用辅助源在低电流和低压条件下对基板清洗5-10min。9.根据权利要求7或8所述波分复用滤光片的生产方法，其特征在于：所述2)、4)、6)中，溅射气体为氩气，反应气体为氧气和水汽，用主离子源产生的高能氩气离子束轰击硅靶材，硅靶材溅射出来的粒子与辅离子源产生的氧离子束发生反应，形成二氧化硅化合物沉积在基片区域表面，离子源作为溅射离子源。10.根据权利要求9所述波分复用滤光片的生产方法，其特征在于：所述3)中，用高纯ar气产生的氩离子束对二氧化铪靶材进行轰击，对安装在样品台上的样品基体做二氧化铪沉积,氩气流速12～17cm3/s，离子源的射频频率均为9-12mhz，离子束压为1950v～2360v，离子束流的调整范围为590ma～640ma，沉积时间为11～14min；所述5)中，溅射气体为氩气，氩气流速10～13cm3/s，反应气体为氧气和水汽，且水汽的流量为氧气流量的1.5％-1.7％，溅射速率为0.4nm/s-0.7nm/s，用主离子源产生的高能氩气离子束轰击钽靶材，钽靶材溅射出来的粒子与辅离子源产生的氧离子束发生反应，形成五氧化二钽膜，离子源作为溅射离子源，离子源的射频频率均为11-14mhz，离子束压为
1500v～1750v，离子束流的调整范围和580ma～620ma，沉积时间为10～12min；所述7)中，用高纯ar气产生的氩离子束对三氧化二钛靶材进行轰击，对安装在样品台上的样品基体做三氧化二钛沉积，氩气流速14～19cm3/s，离子源的射频频率均为12-18mhz，离子束压为2650v～2980v，离子束流的调整范围为590ma～690ma，沉积时间为12～17min。
技术总结
本发明揭示了一种波分复用滤光片，玻璃基板的其中一面覆盖有光学涂层，其特征在于：所述光学涂层由内向外依次为甲复层、乙复层及丙复层；所述甲复层由二氧化铪、二氧化硅组成；所述乙复层由五氧化二钽、二氧化硅组成；所述丙复层由三氧化二钛、二氧化硅组成。本发明高精度光学涂层材料制备方法工艺简单，生产成本低，适于工业化生产，能够有效降低产品偏差问题。题。题。
技术研发人员：张椿英 何孔杰 陈鸿飞 陈家星 周衍浩
受保护的技术使用者：安徽信息工程学院
技术研发日：2022.08.15
技术公布日：2022/10/21