技术特征：
1.一种散斑投射器，其特征在于，包括：偏振光发射器和超构表面；所述偏振光发射器出射两种单一偏振状态的偏振光；所述超构表面的两个表面方向上呈现不同预设排布结构；所述两种单一偏振状态的偏振光分别照射在所述超构表面时，一种所述单一偏振状态的偏振光在所述超构表面的一个所述表面方向上发生衍射而投射出点阵光，另一种所述单一偏振状态的偏振光在所述超构表面的另一个所述表面方向上发生折射而投射出泛光。2.根据权利要求1所述的散斑投射器，其特征在于，所述偏振光发射器为垂直腔面发射激光器。3.根据权利要求2所述的散斑投射器，其特征在于，所述垂直腔面发射激光器上设置有多个发光点，所述多个发光点被划分成两类区域，所述两类区域的发光点对应产生所述两种单一偏振状态的出射光线。4.根据权利要求1所述的散斑投射器，其特征在于，所述两种单一偏振状态的偏振光的偏振方向相差90度。5.根据权利要求1所述的散斑投射器，其特征在于，所述超构表面上设置纳米级的多个圆柱结构；所述多个圆柱结构在一个所述表面方向上呈现高度不变且直径逐渐变小的预设排布结构，在另一个所述表面方向上呈现高度和直径均逐渐变小的预设排布结构。6.根据权利要求5所述的散斑投射器，其特征在于，所述超构表面的两个表面方向相互垂直。7.根据权利要求1-6任一项所述的散斑投射器，其特征在于，还包括：偏振切换装置，用于控制所述偏振光发射器切换出射所述两种单一偏振状态的偏振光，或者在同一时间同时出射所述两种单一偏振状态的偏振光。8.根据权利要求1所述的散斑投射器，其特征在于，所述另一种所述单一偏振状态的偏振光在所述超构表面的另一个所述表面方向上还发生部分衍射。9.根据权利要求1-6任一项所述的散斑投射器，其特征在于，所述超构表面为纳米级硅材料。10.一种结构光相机，其特征在于，包括：如权利要求1-9中任一项所述的散斑投射器，以及散斑接收器。
技术总结
本发明实施例涉及光器件领域，公开了一种散斑投射器和结构光相机，通过在散斑投射器中设置偏振光发射器和超构表面；偏振光发射器出射两种单一偏振状态的偏振光；超构表面的两个表面方向上呈现不同预设排布结构；当两种单一偏振状态的偏振光单独照射在超构表面时，一种单一偏振状态的偏振光在超构表面的一个表面方向上发生衍射而投射出点阵光，另一种单一偏振状态的偏振光在超构表面的另一个表面方向上发生折射而投射出泛光，从而仅通过控制偏振光发射器交替出射指定单一偏振状态的偏振光就可以实现泛光和点阵光相互切换的投射效果，实现模组小型化，降低成本，降低功耗。降低功耗。降低功耗。
技术研发人员：成纯森 户磊
受保护的技术使用者：合肥的卢深视科技有限公司
技术研发日：2022.12.07
技术公布日：2023/1/19