激光直写光刻机和自动聚焦控制方法与流程

1.本发明涉及激光直写光刻机技术领域，尤其是涉及一种激光直写光刻机和自动聚焦控制方法。


背景技术：

2.相关技术中，激光直写光刻机可通过多种自动聚焦的方式进行自动聚焦，在传统掩膜式光刻机中通过单次聚焦的方式进行自动聚焦，并且在聚焦完成后再进行曝光，无掩膜的激光直写光刻机中在连续扫描曝光过程中需要进行实时聚焦，因此单次聚焦的方式不适用于无掩膜的激光直写光刻机；在扫描式显微镜中通常使用图像处理的方式对比图像清晰度来实现实时聚焦，且在但扫描式显微镜进行实时聚焦时托盘快速移动会产生拖影，因此传统掩膜式光刻机可通过上述方式进行实时聚焦，但是该方式受外界光强影响较大且需要一定的处理时间，以及激光直写光刻机通过上述方式进行实时聚焦时线宽均匀性较差和图形解析度较差，因此上述提出的自动聚焦的方式不满足激光直写光刻机进行自动聚焦的要求。
3.以及现有的激光直写光刻机中通过激光位移传感器倾斜测量曝光光路机构所发出的曝光光斑中心，并根据在曝光光斑中心测得的待曝光基板的高度变化进行自动聚焦时，由于激光位移传感器倾斜测量曝光光斑中心，因此测量不稳定易导致自动聚焦时不准确，并且该方式在测得高度信息后通过高度信息对基板的起伏进行补偿时存在一定的延时；或者现有的激光直写光刻机中通过与曝光镜头同轴的位移传感器测量待曝光基板的高度信息进行自动聚焦时，与上述方式类似该方式对基板高度起伏补偿时也存在延时，若待曝光基板的高度变化较快，导致激光直写光刻机进行自动聚焦时有较高的离焦风险，因此激光直写光刻机对于自动聚焦有更高的要求。


技术实现要素：

4.本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本发明的一个目的在于提出一种激光直写光刻机，采用该激光直写光刻机可以对待曝光基板高度起伏进行实时补偿，解决了激光直写光刻机进行曝光时由于待曝光基板高度起伏产生离焦的问题。
5.本发明的目的之二在于提出一种自动聚焦控制方法。
6.为了解决上述问题，本发明第一方面实施例提供一种激光直写光刻机，包括：曝光平台，用于承载待曝光基板；运动机构，所述运动机构与所述曝光平台连接，用于驱动所述曝光平台移动；曝光光路机构，所述曝光光路机构包括成像物镜，所述曝光光路机构用于在所述曝光平台移动至曝光位置时，对所述曝光平台上的待曝光基板进行曝光处理；高度调节机构，所述高度调节机构包括：高度采集模块，所述高度采集模块与所述曝光光路机构连接，用于采集所述曝光位置处所述待曝光基板的高度信息；高度调节模块，所述高度调节模块与所述成像物镜连接，用于驱动所述成像物镜沿第一方向移动，以改变所述成像物镜与所述待曝光基板之间的物距，其中，所述第一方向为垂直于所述曝光平台的方向；控制模
块，所述控制模块与所述高度采集模块、所述高度调节模块连接，用于根据所述高度信息确定目标移动信息，根据所述目标移动信息控制所述高度调节模块执行调节动作，以使得所述成像物镜完成聚焦。
7.根据本发明实施例的激光直写光刻机，通过在激光直写光刻机中设置高度调节机构，高度采集模块提前采集曝光位置时待曝光基板的高度信息，当待曝光基板被输送至曝光位置时，控制模块接收到待曝光基板的高度信息进行处理，根据高度信息以获得目标移动信息，以控制高度调节模块通过目标移动信息驱动成像物镜沿第一方向移动，以增加或减少成像物镜与待曝光基板之间的物距，以对待曝光基板高度起伏进行实时补偿，使得成像物镜在对待曝光基板曝光时进行自动聚焦，从而解决了激光直写光刻机进行曝光时由于待曝光基板高度变化产生离焦的问题。
8.在一些实施例中，所述高度调节模块包括：驱动器，所述驱动器与所述控制模块连接，用于根据所述目标移动信息执行调节动作；致动器，所述致动器与所述成像物镜、所述驱动器连接，用于在所述驱动器的驱动下，带动所述成像物镜沿第一方向移动，以改变所述成像物镜与所述待曝光基板之间的物距。
9.在一些实施例中，所述致动器为音圈电机致动器或压电陶瓷致动器。
10.在一些实施例中，所述高度采集模块至少包括第一高度采集单元和第二高度采集单元；其中，所述第一高度采集单元和第二高度采集单元沿曝光方向分别设于所述成像物镜的两侧。
11.本发明第二方面实施例提供一种自动聚焦控制方法，用于上述实施例中所述的激光直写光刻机，所述自动聚焦控制方法包括：接收所述激光直写光刻机内高度采集模块提供的曝光位置处待曝光基板的高度信息；根据所述高度信息确定目标移动信息；根据所述目标移动信息控制所述激光直写光刻机内高度调节模块执行调节动作，以使得所述激光直写光刻机的成像物镜完成聚焦。
12.根据本发明实施例的激光直写光刻机，高度采集模块提前采集曝光位置时待曝光基板的高度信息，当待曝光基板被输送至曝光位置时，控制模块接收到待曝光基板的高度信息获得目标移动信息，以控制高度调节模块通过目标移动信息驱动成像物镜沿第一方向移动，以增加或减少成像物镜与待曝光基板之间的物距，以对待曝光基板高度起伏进行实时补偿，使得成像物镜在对待曝光基板曝光时进行自动聚焦，从而解决了激光直写光刻机进行曝光时由于待曝光基板高度变化产生离焦的问题。
13.在一些实施例中，根据所述高度信息确定目标移动信息，包括：对所述高度信息进行筛选处理和滤波处理，以获得处理后的高度信息；根据所述处理后的高度信息，获得所述目标移动信息。
14.在一些实施例中，在根据所述目标移动信息控制所述激光直写光刻机内高度调节模块执行调节动作之前，所述自动聚焦控制方法还包括：判断接收所述高度信息的持续时长是否达到预设时长；若达到所述预设时长，则发送所述目标移动信息至所述高度调节模块。
15.在一些实施例中，所述自动聚焦控制方法还包括：若未达到所述预设时长，则对所述目标移动信息进行存储；直至所述持续时长达到所述预设时长后，按先入先出的方式发送所述目标移动信息。
16.在一些实施例中，所述目标移动信息包括目标移动方向和目标移动距离。
17.在一些实施例中，所述自动聚焦控制方法还包括：获取所述激光直写光刻机在进行曝光时的曝光方向，其中，所述曝光方向包括正向曝光和反向曝光；根据所述曝光方向控制所述高度采集模块内第一高度采集单元或第二高度采集单元的开启状态。
18.本发明的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本发明的实践了解到。
附图说明
19.本发明的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：
20.图1是根据本发明一个实施例的激光直写光刻机的示意图；
21.图2是根据本发明另一个实施例的激光直写光刻机的示意图；
22.图3是根据本发明一个实施例的高度调节机构的示意图；
23.图4是根据本发明一个实施例的自动聚焦控制方法的流程图；
24.图5是根据本发明一个实施例的驱动器接收到高度信息和采集的高度信息的关系的示意图；
25.图6是根据本发明一个实施例的驱动器接收到控制致动器移动的移动信息与致动器的实时位置延时的示意图；
26.图7是根据本发明另一个实施例的致动器实时位置和采集的高度信息的关系的示意图；
27.图8是根据本发明一个实施例的激光直写光刻机进行双向曝光的示意图；
28.图9是根据本发明另一个实施例的自动聚焦控制方法的流程图。
29.附图标记：
30.激光直写光刻机1000；
31.曝光平台1；运动机构2；曝光光路机构3；高度调节机构4；成像物镜31；高度采集模块41；高度调节模块42；控制模块43；驱动器421；致动器422；第一高度采集单元411；第二高度采集单元412。
具体实施方式
32.下面详细描述本发明的实施例，参考附图描述的实施例是示例性的，下面详细描述本发明的实施例。
33.为了解决上述问题，本发明第一方面实施例提供一种激光直写光刻机1000，如图1所示，该激光直写光刻机1000包括：曝光平台1、运动机构2、曝光光路机构3和高度调节机构4(图中未示出)。如图2所示，曝光光路机构3包括成像物镜31，高度调节机构4包括：高度采集模块41、高度调节模块42和控制模块43(图中未示出)。
34.其中，曝光平台1，用于承载待曝光基板；运动机构2与曝光平台1连接，用于驱动曝光平台1移动；曝光光路机构3用于在曝光平台1移动至曝光位置时，对曝光平台1上的待曝光基板进行曝光处理；高度采集模块41与曝光光路机构3连接，用于采集曝光位置处待曝光基板的高度信息；高度调节模块42与成像物镜31连接，用于驱动成像物镜31沿第一方向移
动，以改变成像物镜31与待曝光基板之间的物距，其中，第一方向为垂直于曝光平台1的方向；控制模块43与高度采集模块41、高度调节模块42连接，用于根据高度信息确定目标移动信息，根据目标移动信息控制高度调节模块42执行调节动作，以使得成像物镜31完成聚焦。
35.相关技术中，现有的激光直写光刻机包括大理石基座、运动机构、吸盘和曝光光路机构。为了提升激光直写光刻机的产能，将十个曝光镜头并排组成曝光光路机构。如图1所示，当上述激光直写光刻机在进行曝光的过程中，首先将待曝光基板放置于吸盘上进行真空吸附，其次运动机构带动吸盘吸附的待曝光基板沿y轴的正向匀速运动以进行连续曝光，直至第一条带曝光完成，然后运动机构带动待曝光基板沿x方向进行步进运动，再驱动待曝光基板再沿y轴负向进行反向曝光，由此通过上述方式进行往复运动，直至激光直写光刻机完全覆盖待曝光基板。但是在ic封装载板、先进封装、掩模版制作领域中所使用的无掩膜光刻机的特征线宽已达到几微米至亚微米的量级，或者激光直写光刻机的特征线宽较小，使得其所使用曝光镜头的焦深越小，因此激光直写光刻机对于自动聚焦的要求更高，以及由于运动机构的吸盘与待曝光基板之间真空吸附不牢靠，以及待曝光基板在进行前道工序或其他原因造成待曝光基板翘曲，使得待曝光基板表面存在高度起伏，因此激光直写光刻机在曝光时，若曝光镜头无法实时的根据待曝光基板高度起伏进行实时聚焦会产生离焦的问题，使得待曝光基板报废。
36.为了解决上述问题，本技术中在激光直写光刻机1000中设置高度调节机构4，通过高度调节机构4的高度采集模块41提前采集曝光位置处待曝光基板的高度信息，并将高度信息发送至控制模块43，控制模块43对高度信息处理后获得目标移动信息，并间隔预设时长后发送至高度调节机构4的高度调节模块42，此时待曝光基板被输送至曝光位置时，根据目标移动信息控制高度调节模块42驱动成像物镜31移动以对待曝光基板的高度信息的变化进行实时补偿，实现了激光直写光刻机1000在对待曝光基板曝光时进行自动聚焦，从而解决了激光直写光刻机1000进行曝光时由于待曝光基板高度变化产生离焦的问题，以减少了待曝光基板的报废。
37.示例性的，在激光直写光刻机1000进行曝光的过程中将待曝光基板放置于曝光平台1，运动机构2驱动曝光平台1移动，在运动机构2将待曝光基板移动到高度调节机构4的高度采集模块41位置下方的测量点时，高度调节机构4的高度采集模块41实时采集待曝光基板与高度采集模块41的距离即高度信息，因此可将高度采集模块采集测量点的高度信息表征为待曝光基板表面的高度起伏，控制模块43根据高度信息获得目标移动信息，并间隔预设时长后将目标移动信息发送至高度调节机构4的高度调节模块42，此时待曝光基板正好被输送至曝光位置时，因此测量点对应的高度信息为曝光位置时待曝光基板的高度信息，则根据目标移动信息控制高度调节模块42执行调节动作，即将待曝光基板的高度信息与预设基准高度进行对比，通过预设基准高度与待曝光基板的高度信息的差值作为目标移动信息，通过目标移动信息以驱动成像物镜31沿第一方向的正向或反向移动，从而增加或减少成像物镜31与待曝光基板之间的物距，以对移动至曝光位置处待曝光基板高度起伏进行实时补偿，由此通过上述内容对整个待曝光基板的高度起伏进行实时补偿，使得成像物镜31完成自动聚焦，由此本技术的激光直写光刻机1000中设置高度调节机构4，通过高度采集模块41提前采集曝光位置时待曝光基板的高度信息，通过高度信息控制驱动物镜根据目标移动信息对待曝光基板高度起伏进行实时补偿，实现了激光直写光刻机1000在对待曝光基板
曝光时进行自动聚焦，且激光直写光刻机1000自动聚焦的准确性较高，解决了激光直写光刻机1000进行曝光时由于待曝光基板高度起伏产生离焦的问题，减少了待曝光基板报废，并极大的提高了激光直写光刻机1000在实际生产过程中的质量，以及为激光直写光刻机1000生成更小的特征线宽提供了助力。
38.此外，控制模块43可以为fpga(field programmable gate array，现场可编程逻辑门阵列)控制板卡，对此不作限制。曝光光路机构3可以包括多个曝光镜头，对此不作限制，且每个曝光镜头上设置一个成像物镜31。
39.根据本发明实施例的激光直写光刻机1000，通过在激光直写光刻机1000中设置高度调节机构4，高度采集模块41提前采集曝光位置时待曝光基板的高度信息，当待曝光基板被输送至曝光位置时，控制模块43接收到待曝光基板的高度信息进行处理，根据高度信息以获得目标移动信息，以控制高度调节模块42通过目标移动信息驱动成像物镜31沿第一方向移动，以增加或减少成像物镜31与待曝光基板之间的物距，以对待曝光基板高度起伏进行实时补偿，使得成像物镜31在对待曝光基板曝光时进行自动聚焦，从而解决了激光直写光刻机1000进行曝光时由于待曝光基板高度变化产生离焦的问题。
40.在一些实施例中，如图3所示，高度调节模块42包括：驱动器421(图中未示出)和致动器422。其中，驱动器421与控制模块43连接，用于根据目标移动信息执行调节动作；致动器422与成像物镜31、驱动器421连接，用于在驱动器421的驱动下，带动成像物镜31沿第一方向移动，以改变成像物镜31与待曝光基板之间的物距。也就是说，控制模块43通过接收到曝光位置处待曝光基板的高度信息获得目标移动信息，并延迟预设时长后将目标移动信息发送至驱动器421，驱动器421根据目标移动信息执行调节动作，即致动器422在驱动器421的驱动作用下，根据高度信息与预设基准高度的差值作为目标移动信息带动成像物镜31沿第一方向移动，以对待曝光基板高度起伏进行实时补偿，从而实现了成像物镜31在对待曝光基板曝光时进行自动聚焦。
41.在一些实施例中，致动器422为音圈电机致动器或压电陶瓷致动器。也就是说，由于驱动器421带动成像物镜31沿第一方向移动以补偿待曝光基板的高度信息的变化，因此选择调节频率较高的致动器422，以按照较高的频率快速驱动成像物镜31沿第一方向移动，如致动器422可以为音圈电机致动器或压电陶瓷致动器，对此不作限制，且音圈电机致动器或压电陶瓷致动器具有较高的共振频率，以驱动成像物镜31快速地沿第一方向移动，从而更快的响应待曝光基板的高度信息的变化。
42.在一些实施例中，如图3所示，高度采集模块41至少包括第一高度采集单元411和第二高度采集单元412。其中，第一高度采集单元411和第二高度采集单元412沿曝光方向分别设于成像物镜31的两侧。也就是说，激光直写光刻机1000沿曝光方向进行双向曝光时，即运动机构2带动曝光平台1承载待曝光基板沿曝光方向移动至第一高度采集单元411或第二高度采集单元412的位置下方时，第一高度采集单元411或第二高度采集单元412采集曝光位置处待曝光基板的高度信息，由此通过第一高度采集单元411和第二高度采集单元412采集的高度信息，以实现激光直写光刻机在进行双向曝光时的自动聚焦。
43.此外，第一高度采集单元411和第二高度采集单元412可以采用高精度的位移传感器或者其他传感器，对此不作限制。
44.本发明第二方面实施例提供一种自动聚焦控制方法，用于上述实施例中的激光直
写光刻机，如图4所示，自动聚焦控制方法包括：步骤s1至步骤s3。
45.步骤s1，接收激光直写光刻机内高度采集模块提供的曝光位置处待曝光基板的高度信息。
46.具体地，由于运动机构的吸盘与待曝光基板之间真空吸附不牢靠，以及待曝光基板在进行前道工序或其他原因造成基板翘曲，使得待曝光基板表面存在高度起伏。由于高度信息为高度采集模块与待曝光基板的距离，因此可将高度采集模块连续采集的待曝光基板的高度信息表征为待曝光基板表面的高度起伏。当运动机构带动待曝光基板移动至高度采集模块的位置下方的测量点时，高度采集模块提前采集曝光位置处待曝光基板的高度信息，并将高度信息转化为模拟电压传送到控制模块，控制模块接收到高度采集模块提供的曝光位置处待曝光基板的高度信息。
47.步骤s2，根据高度信息确定目标移动信息。
48.具体地，将待曝光基板的高度信息与预设基准高度进行对比，通过预设基准高度与待曝光基板的高度信息的差值作为目标移动信息。
49.步骤s3，根据目标移动信息控制激光直写光刻机内高度调节模块执行调节动作，以使得激光直写光刻机的成像物镜完成聚焦。
50.具体地，为了实现激光直写光刻机在对待曝光基板进行曝光时的自动聚焦，本技术中通过目标移动信息控制激光直写光刻机内高度调节模块执行调节动作，即将待曝光基板的高度信息与预设基准高度进行对比，通过预设基准高度与待曝光基板的高度信息的差值作为目标移动信息，以通过目标移动信息控制高度调节模块沿第一方向移动，若预设基准高度与待曝光基板的高度信息的差值为正，则说明曝光基板表面起伏高度较高，使得成像物镜与待曝光基板之间的物距较小，则控制致动器驱动成像物镜沿第一方向的正向移动差值的绝对值，以增加成像物镜与待曝光基板之间的物距，以对曝光位置处待曝光基板高度起伏进行实时补偿，使得激光直写光刻机的成像物镜完成聚焦；若预设基准高度与待曝光基板的高度信息的差值为负，则说明待曝光基板表面起伏高度较低，使得成像物镜与待曝光基板之间的物距较大，则控制致动器驱动成像物镜沿第一方向的反向移动差值的绝对值，以减少成像物镜与待曝光基板之间的物距，以对曝光位置处待曝光基板高度起伏进行实时补偿，使得成像物镜完成自动聚焦，由此通过上述内容对整个待曝光基板的高度起伏进行实时补偿，本技术中通过目标移动信息调节成像物镜与待曝光基板之间的物距，实现了激光直写光刻机在对待曝光基板曝光时进行自动聚焦，从而解决了激光直写光刻机进行曝光时由于待曝光基板高度起伏产生离焦的问题，以减少了待曝光基板的报废，并极大的提高了激光直写光刻机在实际生产过程中的质量，以及为激光直写光刻机生成更小的特征线宽提供了助力。
51.根据本发明实施例的激光直写光刻机，高度采集模块提前采集曝光位置时待曝光基板的高度信息，当待曝光基板被输送至曝光位置时，控制模块接收到待曝光基板的高度信息获得目标移动信息，以控制高度调节模块通过目标移动信息驱动成像物镜沿第一方向移动，以增加或减少成像物镜与待曝光基板之间的物距，以对待曝光基板高度起伏进行实时补偿，使得成像物镜在对待曝光基板曝光时进行自动聚焦，从而解决了激光直写光刻机进行曝光时由于待曝光基板高度变化产生离焦的问题。
52.在一些实施例中，根据高度信息确定目标移动信息，包括：对高度信息进行筛选处
理和滤波处理，以获得处理后的高度信息，通过处理后的高度信息，获得目标移动信息。也就是说，控制模块通过阈值对高度信息转化的模拟电压进行筛选处理，以滤除模拟电压的坏点，并且再对高度信息转化的模拟电压进行滤波处理如低通滤波，以滤除模拟电压中的干扰杂波，由此以获得处理后的高度信息，再根据处理后的高度信息获得目标移动信息。此外，由于对高度信息的实时性要求较高，因此可使用卡尔曼滤波等实时性较高的滤波算法。
53.在一些实施例中，在根据目标移动信息控制激光直写光刻机内高度调节模块执行调节动作之前，自动聚焦控制方法还包括：判断接收高度信息的持续时长是否达到预设时长；若达到预设时长，则发送目标移动信息至高度调节模块。
54.具体地，当待曝光基板移动至高度采集模块的位置下方的测量点时，高度采集模块采集待曝光基板到达测量点的高度信息，由图2可知高度采集模块和曝光光路机构在曝光位置处所发出曝光光斑的中心的距离为d，以及运动机构沿曝光方向的扫描速度为v，运动机构带动待曝光基板沿曝光方向移动，因此待曝光基板从高度采集模块下方移动至曝光光路机构所处曝光位置处存在预设时长t1的延时，因此当控制模块将接收到测量点的高度信息延迟预设时间t1后发送，此时待曝光基板正好移动至曝光位置处，因此可将高度采集模块采集的测量点的高度信息作为曝光位置处待曝光基板的高度信息，基于此通过判断控制模块接收高度信息的持续时长是否达到预设时长t1，以确定高度采集模块采集测量点的高度信息是否为曝光位置处待曝光基板的高度信息，图5中的实线为控制模块接收到高度信息，以及虚线为t1后驱动器接收到高度信息，由图5可知若控制模块接收高度信息的持续时长达到预设时长t1，控制模块根据高度信息获得目标移动信息并发送至驱动器，此时运动机构带动待曝光基板已到达曝光光路机构的曝光位置处，则致动器在驱动器的作用下根据目标移动信息控制高度调节模块执行调节动作，以使得成像物镜完成聚焦。
55.此外，高度采集模块和曝光光路机构在曝光位置处所发出曝光光斑的中心的距离为d为固定值，因此预设时长t1随扫描速度v变化，由此本技术中的高度调节模块可自适应激光直写光刻机的运动机构不同的扫描速度。
56.在实施例中，致动器根据目标移动信息驱动成像物镜沿第一方向移动进行聚焦，由于致动器驱动成像物镜移动过程中，驱动器接收到控制致动器移动的目标移动信息与致动器的实时位置始终存在一定的时间差，如图6为压电陶瓷致动器根据控制致动器移动的移动信息与致动器的实时位置的关系示意图，由图6可知驱动器接收到的控制致动器移动的目标移动信息与致动器的实时位置存在t2如40ms的延时，当控制模块将高度信息延迟预设时长t1后发送到驱动器，可实现待曝光基板移动至曝光位置处与测量点的高度信息变化的实时跟随，但是由于控制致动器移动的目标移动信息与致动器的实时位置之间存在一定的时间差，因此当采用压电陶瓷致动器时未实现曝光位置处待曝光基板的高度信息未与测量点采集的高度信息同步，由此为了解决此问题，将控制模块接收到的曝光位置处待曝光基板的高度信息的延迟发送高度信息的预设时长由t1缩短为t0，其中t0＝t1-t2＝d/v-t2，当预设时长为t0时，控制模块接收到的曝光位置处待曝光基板的高度信息的延迟t0后，如图7中的实线为控制模块接收到的高度信息，以及虚线为t0后致动器的实时位置，由图7可知若控制模块接收高度信息的持续时长达到t0，此时高度采集模块采集高度信息为曝光位置处待曝光基板的高度信息，则控制模块根据高度信息获得目标移动信息并将目标移动信息发送至驱动器，在驱动器的作用下致动器通过目标移动信息驱动成像物镜实时补偿待曝
光基板的高度起伏，使得驱动器控制致动器驱动成像物镜实时根据待曝光基板的高度起伏进行移动，实现了激光直写光刻机在对待曝光基板曝光时进行自动聚焦。
57.在一些实施例中，若未达到预设时长，则对目标移动信息进行存储；直至持续时长达到预设时长后，按先入先出(fifo，first input first output)的方式发送目标移动信息。也就是说，若控制模块接收待曝光基板在测量点处对应的高度信息的持续时长未达到预设时长，则将测量点处的高度信息进行存储，并将高度信息对应的目标移动信息顺序储存至控制模块，直至接收测量点的高度信息的持续时长达到预设时长后，此时运动机构带动待曝光基板已到达曝光光路机构的曝光位置处，则说明高度采集模块实时采集的测量点处对应的待曝光基板的高度信息为曝光位置处待曝光基板的高度信息，因此按先入先出的方式发送待曝光基板的目标移动信息，即先将根据第一个进入存储器的测量点处对应的高度信息获得的目标移动信息发送至驱动器，再按照顺序依次将待曝光基板到达测量点的所有高度信息获得的目标移动信息发送至驱动器。
58.在一些实施例中，目标移动信息包括目标移动方向和目标移动距离，也就是说，将待曝光基板的高度信息与预设基准高度进行对比，将预设基准高度与待曝光基板的高度信息的差值作为目标移动信息，其中目标移动信息包括目标移动方向和目标移动距离，因此，差值的正负代表致动器驱动成像物镜的目标移动方向，若差值为正则目标移动方向为第一方向的正向，若差值为负则目标移动方向为第一方向的反向，差值的绝对值为致动器驱动成像物镜沿目标移动方向移动目标移动距离。
59.在一些实施例中，自动聚焦控制方法还包括：获取激光直写光刻机在进行曝光时的曝光方向，其中，曝光方向包括正向曝光和反向曝光；根据曝光方向控制高度采集模块内第一高度采集单元或第二高度采集单元的开启状态。
60.具体地，如图1、图3和图8所示，控制模块获取激光直写光刻机在进行曝光时的曝光方向，其中曝光方向可以为正向曝光或反向曝光，通过判断激光直写光刻机在进行曝光时的曝光方向，即运动机构带动待曝光基板移动的曝光方向，以控制第一高度采集单元或第二高度采集单元的开启状态，若曝光方向为正向曝光，则说明运动机构带动待曝光基板移动的曝光方向为正向曝光，则控制高度采集模块内沿正向曝光的方向设置的第一高度采集单元处于开启状态，从而在激光直写光刻机进行正向曝光时，通过第一高度采集单元采集以提前采集曝光位置处待曝光基板的高度信息；若曝光方向为反向曝光，则控制高度采集模块内沿反向曝光的方向设置的第二高度采集单元处于开启状态，从而在激光直写光刻机进行反向曝光时，通过第二高度采集单元采集以提前采集曝光位置处待曝光基板的高度信息，由此本技术中通过设置多个高度采集单元在激光直写光刻机在进行正向曝光或反向曝光时，提前采集曝光位置处待曝光基板的高度信息，根据高度信息获得目标移动信息，通过目标移动信息以实现激光直写光刻机在进行双向曝光时的自动聚焦。
61.下面参考图9所示对本发明实施例的自动聚焦控制方法进行举例说明，具体内容如下。
62.步骤s4，开始曝光。
63.步骤s5，判断激光直写光刻机在进行曝光时的曝光方向，执行步骤s6或步骤s7。
64.步骤s6，若曝光方向为正向曝光，控制第一高度采集单元为开启状态。
65.步骤s7，若曝光方向为反向曝光，控制第二高度采集单元为开启状态。
66.步骤s8，对高度信息进行处理后获得目标移动信息并进行储存。
67.步骤s9，判断接收高度信息的持续时长是否达到预设时长，若是执行步骤s10，反之执行步骤s8。
68.步骤s10，控制模块接收到曝光位置处待曝光基板的高度信息的同时按照先入先出的方式发送目标移动信息至高度调节模块。
69.步骤s11，判断曝光条带是否扫描结束，若是执行步骤s12，反之执行步骤s10。
70.步骤s12，判断是否结束曝光，若是执行步骤s13，反之执行步骤s5。
71.步骤s13，结束曝光。
72.在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示意性实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。
73.尽管已经示出和描述了本发明的实施例，本领域的普通技术人员可以理解：在不脱离本发明的原理和宗旨的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由权利要求及其等同物限定。