技术特征：
1.一种大面积纳米压印拼接模板，其特征在于，包括：基板，所述基板上设有多个阵列排布的基准光栅，所述多个阵列排布的基准光栅在所述基板上界定多个拼接区域；多个压印模板单元，分别设于所述多个拼接区域内，且任意相邻的两个所述压印模板单元相互拼接。2.如权利要求1所述的大面积纳米压印拼接模板，其特征在于，所述基板上任意相邻的两个所述基准光栅的对准中心之间的间距为d；所述压印模板单元上形成有多个微纳结构，相邻的两个所述微纳结构之间的间距为a；其中，d为a的正整数倍。3.如权利要求1所述的大面积纳米压印拼接模板，其特征在于，所述基准光栅呈矩阵排布。4.如权利要求3所述的大面积纳米压印拼接模板，其特征在于，所述基准光栅为能够形成摩尔纹的圆形光栅。5.如权利要求1所述的大面积纳米压印拼接模板，其特征在于，任意相互拼接的两个所述压印模板单元均具有相互重合的过渡部分。6.如权利要求5所述的大面积纳米压印拼接模板，其特征在于，任意相互拼接的两个所述压印模板单元的所述过渡部分相互压合。7.如权利要求6所述的大面积纳米压印拼接模板，其特征在于，所述压印模板单元由压印胶固化形成。8.如权利要求1～7中任一项所述的大面积纳米压印拼接模板，其特征在于，所述基板的表面上设有增粘剂。
技术总结
本实用新型公开了一种大面积纳米压印拼接模板，其包括基板和多个压印模板单元；所述基板上设有多个阵列排布的基准光栅，所述多个阵列排布的基准光栅在所述基板上界定多个拼接区域；所述多个压印模板单元分别设于所述多个拼接区域内，且任意相邻的两个所述压印模板单元相互拼接。本实用新型提供的大面积纳米压印拼接模板，通过在基板上设置多个阵列排布的基准光栅，该基准光栅能够在拼接压印模板单元时，作为对准准星，以使得压印模板单元能够精确的被布置在基板上预定的拼接区域内，从而实现压印模板单元间的精准过渡。现压印模板单元间的精准过渡。现压印模板单元间的精准过渡。
技术研发人员：罗刚
受保护的技术使用者：苏州鸿兴微纳科技有限公司
技术研发日：2022.01.13
技术公布日：2022/7/5