光罩承载台的制作方法

1.本实用新型涉及一种半导体集成电路制造设备，特别是涉及一种光罩承载台(reticle stage，rs)。


背景技术：

2.如图1a所示，是现有光罩承载台的定位结构的沿第一方向的侧视图；如图1b所示，是现有光罩承载台的定位结构的沿第二方向的侧视图；第一方向对应于图1b中从左到右观察的方向，第二方向对应于图1a中从右到左观察的方向；现有光罩承载台包括：台面结构和定位装置。
3.所述台面结构用于放置光罩。
4.所述定位结构包括：主框架101、长行程运动部件103、多个u型管104。
5.所述主框架101固定在光刻机台(未显示)上。
6.各所述u型管104包括第一段管、第二段管以及连接管。
7.所述第一段管固定在所述长行程运动部件103上。
8.所述第二段管铺设在所述主框架101的顶部表面上。
9.所述连接管呈u型结构并连接在所述第一段管和所述第二段管之间。
10.所述长行程运动部件103运动时所述第一段管通过所述连接管带动所述第二段管做卷起或铺平运动。
11.所述主框架101的侧面设置有保护外壳102。由图1b所示可知，所述保护外壳202的宽度方向的剖面为矩形，所述保护外壳102垂直放置。
12.所述u型管104包括多个根水管104a、多个气管104c和多个电线104b，由图1b所示可知，水管104a位于最外侧并和所述保护外壳102相邻。所述u型管104会连接到所述光刻机台上并由光刻机台提供水、气和电。
13.通常，所述定位结构还包括短行程运动部件(未显示)；所述短行程运动部件的定位精度大于所述长行程运动部件103的定位精度。
14.所述台面结构放置在所述短形成运动部件上。
15.通常，所述长行程运动部件103用于对光罩承载台进行粗定位，即将所述台面结构移动到一个初步位置；之后再采用所述短行程运动部件对所述光罩承载台进行精确定位，即将所述台面结构移动到精确位置；由于光罩是放置在所述台面结构上，这样，所述光罩就得到精确定位。
16.在光罩承载台的下方设置有投影系统、晶圆承载台和检测系统；所述晶圆承载台用于放置晶圆。
17.图1b所示结构中，最外侧的水管104a容易和所述保护外壳102发生摩擦损耗，摩擦最大位置对应于标记105所示的所述保护外壳102的内侧顶角和水管104a之间的容易相接触的位置。最后会造成最外侧的水管104a破裂而漏水。发生水管104a断裂时，需要将光刻机宕机并对断裂的水管104a进行修理，这会影响光刻机的正常运行时间(uptime)；漏水滴到
底部的投影系统、检测系统、晶圆承载台和位于晶圆承载台的晶圆上，会对光刻机设备和晶圆产品产生巨大影响。


技术实现要素：

18.本实用新型所要解决的技术问题是提供一种光罩承载台，能防止u型管在运动过程中和主框架的保护外壳摩擦并破裂，特别是能防止水管产生破裂并从而防止产生漏水。
19.为解决上述技术问题，本实用新型提供的光罩承载台包括：台面结构和定位装置。
20.所述台面结构用于放置光罩。
21.所述定位结构包括：主框架、长行程运动部件、多个u型管。
22.所述主框架固定在光刻机台上。
23.各所述u型管包括第一段管、第二段管以及连接管。
24.所述第一段管固定在所述长行程运动部件上。
25.所述第二段管铺设在所述主框架的顶部表面上。
26.所述连接管呈u型结构并连接在所述第一段管和所述第二段管之间。
27.所述长行程运动部件运动时所述第一段管通过所述连接管带动所述第二段管做卷起或铺平运动。
28.所述主框架的侧面设置有保护外壳，所述保护外壳的内侧顶角设置为远离所述主框架的侧面边缘的结构且使所述保护外壳的内侧顶角位于最外侧的所述u型管的所述第二段管的运动路径外。
29.进一步的改进是，所述保护外壳的内侧表面呈向外倾斜结构，使所述保护外壳的内侧顶角为远离所述主框架的侧面边缘的结构。
30.进一步的改进是，所述保护外壳的沿宽度方向上的剖面结构呈矩形，所述保护外壳的整体呈向外倾斜的外翻结构。
31.进一步的改进是，所述u型管包括多个根水管、多个气管和多个电线。
32.进一步的改进是，所述u型管在所述主框架的顶部表面上的排布为：
33.所述气管位于外侧、所述水管位于内侧以及所述电线位于所述气管和所述水管之间的中间区域。
34.进一步的改进是，所述定位结构还包括短行程运动部件；所述短行程运动部件的定位精度大于所述长行程运动部件的定位精度。
35.进一步的改进是，所述台面结构放置在所述短形成运动部件上。
36.进一步的改进是，所述保护外壳的材料采用金属。
37.进一步的改进是，在光罩承载台的下方设置有投影系统、晶圆承载台和检测系统；所述晶圆承载台用于放置晶圆。
38.本实用新型对主框架的侧面的保护外壳的内侧顶角结构做了特别设置，将内侧顶角设置为远离主框架的侧面边缘的结构且使内侧顶角位于最外侧的u型管的第二段管的运动路径外，这样就能防止保护外壳特别是保护外壳的内侧顶角和最外侧的u型管的第二段管产生摩擦并防止由摩擦而产生u型管的破裂，所以，本实用新型能防止u型管在运动过程中和主框架的保护外壳摩擦并破裂，特别是能防止水管产生破裂并从而防止产生漏水。
39.本实用新型还能对u型管在主框架的顶部表面上的排布做进一步设置，将气管设
置在外侧以及将水管设置在内侧，这样即使出现u型管和保护外壳摩擦破裂的故障，也仅是气管产生破裂，水管并不会产生破裂，气管破裂后并不会光刻机的其他部件产生不利影响，而水管破裂后则会光刻机的其他部件特别是光罩承载台底部的部件产生不利影响，故本实用新型能进一步防止水管破裂以及防止漏水产生的不利影响。
40.本实用新型由于能防止u型管破裂，故能减少由于u型管破裂产生的光刻机宕机，提升光刻机的正常运行时间(uptime)，并从而能减少产能损失。
41.本实用新型由于特别能防止u型管的水管破裂，即使发生气管破裂，由于不需要进行水渍的清理，气管破裂的维修恢复时间大大缩短，也能进一步减少光刻机宕机时间，提高光刻机的uptime并进一步提升产能。
附图说明
42.下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明：
43.图1a是现有光罩承载台的定位结构的沿第一方向的侧视图；
44.图1b是现有光罩承载台的定位结构的沿第二方向的侧视图；
45.图2a是本发明实施例光罩承载台的定位结构的沿第一方向的侧视图；
46.图2b是本发明实施例光罩承载台的定位结构的沿第二方向的侧视图。
具体实施方式
47.如图2a所示，是本发明实施例光罩承载台的定位结构的沿第一方向的侧视图；如图2b所示，是本发明实施例光罩承载台的定位结构的沿第二方向的侧视图；第一方向对应于图2b中从左到右观察的方向，第二方向对应于图2a中从右到左观察的方向；本实用新型实施例光罩承载台包括：台面结构和定位装置。
48.所述台面结构用于放置光罩。
49.所述定位结构包括：主框架201、长行程运动部件203、多个u型管204。
50.所述主框架201固定在光刻机台(未显示)上。
51.各所述u型管204包括第一段管、第二段管以及连接管。
52.所述第一段管固定在所述长行程运动部件203上。
53.所述第二段管铺设在所述主框架201的顶部表面上。
54.所述连接管呈u型结构并连接在所述第一段管和所述第二段管之间。
55.所述长行程运动部件203运动时所述第一段管通过所述连接管带动所述第二段管做卷起或铺平运动。
56.所述主框架201的侧面设置有保护外壳202，所述保护外壳202的内侧顶角设置为远离所述主框架201的侧面边缘的结构且使所述保护外壳202的内侧顶角位于最外侧的所述u型管204的所述第二段管的运动路径外。
57.本发明实施例中，所述保护外壳202的内侧表面呈向外倾斜结构，使所述保护外壳202的内侧顶角为远离所述主框架201的侧面边缘的结构。图2b中，所述保护外壳202的内侧表面对应于虚线aa所示表面。
58.所述保护外壳202的材料采用金属。
59.在一些较佳实施例中，所述保护外壳202的沿宽度方向上的剖面结构呈矩形，所述
保护外壳202的整体呈向外倾斜的外翻结构。也即，在图1b的现有结构的基础上，进行将图1b中的保护外壳102外翻即可实现本发明实施例的图2b中对应的搜索保护外壳202。
60.所述u型管204包括多个根水管204a、多个气管204c和多个电线204b。
61.所述u型管204在所述主框架201的顶部表面上的排布为：
62.所述气管204c位于外侧、所述水管204a位于内侧以及所述电线204b位于所述气管204c和所述水管204a之间的中间区域。
63.在本发明实施例中，所述定位结构还包括短行程运动部件(未显示)；所述短行程运动部件的定位精度大于所述长行程运动部件203的定位精度。
64.所述台面结构放置在所述短形成运动部件上。
65.通常，所述长行程运动部件203用于对光罩承载台进行粗定位，即将所述台面结构移动到一个初步位置；之后再采用所述短行程运动部件对所述光罩承载台进行精确定位，即将所述台面结构移动到精确位置；由于光罩是放置在所述台面结构上，这样，所述光罩就得到精确定位。
66.在光罩承载台的下方设置有投影系统、晶圆承载台和检测系统；所述晶圆承载台用于放置晶圆。
67.本实用新型实施例对主框架201的侧面的保护外壳202的内侧顶角结构做了特别设置，将内侧顶角设置为远离主框架201的侧面边缘的结构且使内侧顶角位于最外侧的u型管204的第二段管的运动路径外，这样就能防止保护外壳202特别是保护外壳202的内侧顶角和最外侧的u型管204的第二段管产生摩擦并防止由摩擦而产生u型管204的破裂，所以，本实用新型实施例能防止u型管204在运动过程中和主框架201的保护外壳202摩擦并破裂，特别是能防止水管204a产生破裂并从而防止产生漏水。
68.本实用新型实施例还能对u型管204在主框架201的顶部表面上的排布做进一步设置，将气管204c设置在外侧以及将水管204a设置在内侧，这样即使出现u型管204和保护外壳202摩擦破裂的故障，也仅是气管204c产生破裂，水管204a并不会产生破裂，气管204c破裂后并不会光刻机的其他部件产生不利影响，而水管204a破裂后则会光刻机的其他部件特别是光罩承载台底部的部件产生不利影响，故本实用新型实施例能进一步防止水管204a破裂以及防止漏水产生的不利影响。
69.本实用新型实施例由于能防止u型管204破裂，故能减少由于u型管204破裂产生的光刻机宕机，提升光刻机的正常运行时间，并从而能减少产能损失。例如，现有结构中，u型管磨损后光刻机宕机超过48小时，产能减少超过6000片，损失巨大。
70.本实用新型实施例由于特别能防止u型管204的水管204a破裂，即使发生气管204c破裂，由于不需要进行水渍的清理，气管204c破裂的维修恢复时间大大缩短，也能进一步减少光刻机宕机时间，提高光刻机的uptime并进一步提升产能。例如，本实用新型实施例中，将和所述保护外壳202相邻的最外侧的所述u型管204换成所述气管204c后，能节省清理水渍及评估影响的时间约3小时，温度稳定时间节省约8小时。
71.以上通过具体实施例对本实用新型进行了详细的说明，但这些并非构成对本实用新型的限制。在不脱离本实用新型原理的情况下，本领域的技术人员还可做出许多变形和改进，这些也应视为本实用新型的保护范围。