1.一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其含有由下述通式(s1)表示的化合物及酸分解性树脂，
2.根据权利要求1所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，所述通式(s1)中的q1、q2、q3、q4及q5中的至少一个表示吸电子基团。
3.根据权利要求1或2所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，所述通式(s1)中的q1、q2、q3、q4及q5中的至少一个表示氟原子或一价的氟代烃基。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，所述通式(s1)中的lq1表示单键。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，所述通式(s1)中的q1、q2、q3、q4及q5中的至少一个表示由所述通式(qr1)表示的芳氧基。
6.根据权利要求5所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，所述通式(s1)中的q3表示由所述通式(qr1)表示的芳氧基。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，通式(qr1)中的g1、g2、g3、g4及g5中的至少两个表示含有酯基的取代基。
8.根据权利要求1～7中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，所述含有酯基的取代基为由下述通式(gr1)或(gr2)表示的基团，
9.根据权利要求8所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，所述通式(gr1)中的lg1及所述通式(gr2)中的lg2表示单键。
10.根据权利要求8或9所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，所述通式(gr1)中的t1及所述通式(gr2)中的t2分别独立地表示碳数1～20的有机基团。
11.根据权利要求8～10中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，所述通式(gr1)中的t1及所述通式(gr2)中的t2分别独立地表示任选地含有杂原子的链状脂肪族基团、或任选地含有杂原子的环状脂肪族基团。
12.一种抗蚀剂膜，其是使用权利要求1～11中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物而形成的。
13.一种图案形成方法，其使用权利要求12所述的抗蚀剂膜。
14.一种电子器件的制造方法，其包括权利要求13所述的图案形成方法。
15.一种化合物，其由下述通式(s1)表示，