光源装置的制作方法

本发明涉及能够应用于x射线、极紫外光等的射出的光源装置。

背景技术：

1、以往，x射线被用于医疗用用途、工业用用途、研究用用途。在医疗用领域，x射线被用于胸部x射线相片摄影、牙科x射线相片摄影、ct(computer tomogram)之类的用途。

2、在工业用领域，x射线被用于观察构造物、焊接部等的物质内部的非破坏检查、断层非破坏检查之类的用途。

3、在研究用领域中，x射线被用于用来将物质的结晶构造解析的x射线衍射、用来分析物质的构成元素的x射线分光(荧光x射线分析)之类的用途。

4、x射线能够使用x射线管产生。x射线管在其内部中具有一对电极(阳极、阴极)。如果使电流流到阴极灯丝中并加热，对阳极与阴极间施加高电压，则从灯丝产生的负的热电子高速地碰撞到处于阳极表面的靶极上，从该靶极产生x射线。

5、此外，在x射线管中，已知有将阳极侧的靶极作为液体金属喷射器、通过对该靶极照射电子束而将高亮度的x射线取出的技术。

6、x射线中的处于波长比较长的软x射线区域中的波长13.5nm的极紫外光(以下也称作“euv(extreme ultra violet)光”)近年来被用作曝光光。

7、这里，构成微细样式的euv光刻用的掩模的基材是作为层叠构造而在由低热膨胀性玻璃构成的基板之上设有用于使euv光反射的多层膜(例如，钼和硅)的反射镜。

8、并且，通过在多层膜上布图将波长13.5nm的放射线吸收的材料布图，构成euv掩模。

9、如果euv掩模的不能容许的缺陷的大小与以往的arf掩模的情况相比大幅变小，则难以检测到。

10、所以，作为euv掩模的检查，通常进行被称作光化检查(actinic inspection)，进行使用与光刻的作业波长一致的波长的放射线的检查。例如，如果使用波长13.5nm的放射线进行检查，则能够以比l0nm更好的解析力来检测缺陷。

11、一般来说，作为euv光源装置可以举出dpp(discharge produced plasma)光源装置、ldp(laser assisted discharge produced plasma)光源装置及lpp(laser producedplasma)光源装置。

12、dpp方式的euv光源装置是对被供给了包含euv放射种(气相的等离子体原料)的放电气体的电极间施加高电压而通过放电生成高密度高温等离子体、利用从这里放射的极紫外光的装置。

13、ldp光源装置是将dpp光源装置改良而成的，例如是以下这样的装置：对产生放电的电极(放电电极)表面供给包含euv放射种的液体状的高温等离子体原料(例如，sn(锡)、li(锂)等)，对该原料照射激光束等的能量束(例如，电子束、激光束等)而将该原料气化，然后，通过放电来生成高温等离子体。

14、lpp光源装置是通过将激光对于作为euv放射用靶极材料的被以微小的液滴状喷出的锡(sn)或锂(li)等的微滴聚光、将该靶极材料激励而产生等离子体的装置。

15、这样，作为产生处于软x射线区域中的euv光的euv光源装置，可以使用dpp方式(ldp方式)或lpp方式的光源装置。

16、另一方面，在euv光源装置中，dpp方式(ldp方式)的装置由于最终通过电极间的放电来生成等离子体，所以容易产生起因于euv原料的碎片。

17、lpp方式的装置由于以作为euv原料的微细的锡的微滴为靶极，使激励用激光聚光于其上，所以光源的构造复杂。此外，难以将锡的微滴稳定地滴落/供给，难以稳定地生成euv光。

18、在专利文献1中，提出了对圆盘状的旋转体涂布液体状的x射线产生用的靶极原料、对该涂布的液体状原料照射能量束(激光束)来得到x射线的方法。根据该方法，能够以比较简单的结构得到高亮度的x射线。

19、在将专利文献1所记载的方法应用于euv光源装置的情况下，虽然相当于所谓lpp方式，但不需要将液体状的euv原料作为微滴供给。因此，euv原料供给较容易，并且能够可靠地对液体状的euv原料照射激光束，能够以比较简单的结构的装置得到euv放射。

20、现有技术文献

21、专利文献

22、专利文献1：日本特许第6658324号公报

技术实现思路

1、发明将要解决的课题

2、在上述那种射出x射线、euv光等的光源装置中，重要的是抑制碎片的影响。

3、鉴于以上的情况，本发明的目的在于提供能够抑制碎片的影响的光源装置。

4、用于解决课题的手段

5、为了实现上述目的，本发明的一方式的光源装置具备束获取部、板部件、原料供给部、及放射线取出部。

6、所述束获取部获取能量束。

7、所述板部件具有表面以及背面，配置于所获取的所述能量束入射到所述表面的位置，以与所述表面正交的方向作为旋转轴方向而旋转。

8、所述原料供给部通过向所述表面的所述能量束所入射的入射区域供给等离子体原料而生成等离子体。

9、所述放射线取出部从所生成的所述等离子体取出并射出放射线。

10、另外，所述板部件配置成所述表面的所述入射区域中的法线轴偏离轴间区域，该轴间区域在向所述入射区域入射的所述能量束的入射轴与从所述等离子体取出的所述放射线的射出轴之间构成。

11、在该光源装置中，向构成为能够旋转的板部件的表面供给等离子体原料并照射能量束。由此，生成等离子体，射出放射线。

12、板部件配置成能量束所入射的入射区域中的法线轴偏离能量束的入射轴与放射线的射出轴之间的轴间区域。

13、由此，提供能够抑制伴随着等离子体的产生的碎片的影响的光源装置。

14、所述光源装置也可以还具备收容所述板部件的室。在该情况下，所述束获取部也可以具有连结于所述室的入射室与从所述入射室向所述室内入射所述能量束的入射侧小孔。另外，所述板部件也可以配置成所述法线轴偏离所述入射侧小孔的开口。

15、所述光源装置也可以还具备收容所述板部件的室。在该情况下，所述放射线取出部也可以具有连结于所述室的射出室与使所述放射线从所述室向所述射出室内入射的射出侧小孔。另外，所述板部件也可以构成为所述法线轴偏离所述射出侧小孔的开口。

16、所述光源装置也可以还具备气体供给部，该气体供给部以所述法线轴比所述轴间区域靠下游侧的方式在从所述轴间区域朝向所述法线轴的方向上吹送气体。

17、所述室内也可以被维持为比所述入射室减压的环境。

18、也可以向所述入射室内供给用于使内部的压力增加的气体。

19、所述室内也可以被维持为比所述射出室减压的环境。

20、也可以向所述射出室内供给用于使内部的压力增加的气体。

21、所述轴间区域也可以包含三维区域，该三维区域由使包含所述入射轴以及所述射出轴的平面上的所述入射轴以及所述射出轴之间的二维区域沿所述平面的法线方向移动的情况下的轨迹构成。

22、也可以构成为所述入射轴与所述法线轴之间的角度、或者所述射出轴与所述法线轴之间的角度的至少一方包含在30度至60度的范围内。

23、也可以构成为所述入射轴与所述法线轴之间的角度以及所述射出轴与所述法线轴之间的角度分别包含在30度至60度的范围内。

24、所述束获取部也可以具有入射侧突出部，该入射侧突出部朝向所述入射区域突出，且在突出侧的前端设有所述入射侧小孔。

25、所述入射侧突出部也可以由随着向突出侧前进而截面积变小的圆锥形构成。

26、所述放射线取出部也可以具有射出侧突出部，该射出侧突出部朝向所述入射区域突出，且在突出侧的前端设有所述射出侧小孔。

27、所述射出侧突出部也可以由随着向突出侧前进而截面积变小的圆锥形构成。

28、所述光源装置也可以还具备向所述射出侧突出部施加电压的电压施加部。

29、所述放射线也可以是x射线或者极紫外光。

30、所述光源装置也可以还具备对向所述表面供给的所述等离子体原料的厚度进行调整的厚度调整机构。

31、发明效果

32、如以上那样，根据本发明，能够抑制碎片的影响。另外，此处所记载的效果不一定被限定，也可以是本公开中所记载的任意效果。