1.一种曝光设备，其特征在于，包括：光路成像装置和电子束曝光机；所述光路成像装置包括依次设置的光源、扩束准直器件、可变光阑、第一投影器件、第一反射器件、第二反射器件、第二投影器件、光学放大组件以及图像传感器；当所述曝光设备处于检测状态，且目标硅片位于所述第一投影器件和所述第二投影器件之间时，所述光源、扩束准直器件、可变光阑、第一投影器件、第一反射器件、目标硅片、第二反射器件、第二投影器件、光学放大组件以及图像传感器形成光路；所述可变光阑和所述第一投影器件之间设置有一个掩模板，所述掩模板上设置有光栅阵列和多个宽度不同的狭缝阵列，用于将光栅标记和多个宽度不同的狭缝标记引入到所述光路成像光路中；所述光路成像装置用于生成具有光栅标记和狭缝标记的目标图像；
2.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，包括：所述掩模板上设置有光栅阵列和第一狭缝阵列、第二狭缝阵列、第三狭缝阵列、第四狭缝阵列、第五狭缝阵列、第六狭缝阵列；所述光栅阵列位于所述掩模板的中心位置，所述第一狭缝阵列位于所述光栅阵列的第一方位，所述第二狭缝阵列位于所述光栅阵列的第二方位，所述第三狭缝阵列与所述第四狭缝阵列平行设置，均位于所述光栅阵列的第三方位，所述第三狭缝阵列位于所述光栅阵列和所述第四狭缝阵列之间；所述第五狭缝阵列与所述第六狭缝阵列平行设置，且均位于所述光栅阵列的第四方位，所述第五狭缝阵列位于所述光栅阵列和所述第六狭缝阵列之间。
3.根据权利要求2所述的曝光设备，其特征在于，包括：所述第一狭缝阵列中包括第一狭缝；所述第二狭缝阵列中包括第二狭缝；所述第三狭缝阵列中包括第三狭缝和第四狭缝，所述第三狭缝位于所述光栅阵列和所述第四狭缝之间，且所述第三狭缝的宽度小于所述第四狭缝的宽度；所述第四狭缝阵列中包括三个宽度依次递增的第五狭缝、第六狭缝和第七狭缝，所述第五狭缝位于所述第四狭缝和所述第六狭缝之间，所述第六狭缝位于所述第五狭缝和所述第七狭缝之间；所述第五狭缝阵列中包括第八狭缝和第九狭缝，所述第八狭缝位于所述光栅阵列和所述第九狭缝之间，且所述第八狭缝的宽度小于所述第九狭缝的宽度；所述第六狭缝阵中包括三个宽度依次递增的第十狭缝、第十一狭缝和第十二狭缝，所述第十狭缝位于所述第九狭缝和所述第十一狭缝之间，所述第十一狭缝位于所述第十狭缝和所述第十一狭缝之间。
4.一种基于权利要求1-3任一项所述的曝光设备实现的离焦补偿方法，其特征在于，包括：
5.根据权利要求4所述的离焦补偿方法，其特征在于，所述电子束曝光机还包括计算控制模块；所述对所述目标图像进行处理，得到待测硅片的离焦量，根据所述离焦量进行离焦补偿，包括：
6.根据权利要求5所述的离焦补偿方法，其特征在于，所述利用光路成像装置检测待测硅片得到目标图像之前，还包括：
7.根据权利要求6所述的离焦补偿方法，其特征在于，所述若识别结果为所述目标图像中具有光栅标记，则所述计算控制模块对所述目标图像进行处理，得到待测硅片的第一离焦量，所述曝光机本体根据所述第一离焦量对所述待测硅片进行离焦补偿，包括：
8.根据权利要求6所述的离焦补偿方法，其特征在于，若识别结果为所述目标图像中不具有光栅标记，则所述计算控制模块对所述目标图像进行分割，得到目标狭缝标记图像，对所述目标狭缝标记图像进行处理，得到待测硅片的最终离焦量，所述曝光机本体根据所述最终离焦量对所述待测硅片进行离焦补偿，包括：
9.根据权利要求8所述的离焦补偿方法，其特征在于，所述计算控制模块根据所述第二中心位置变化量，得到待测硅片的最终离焦量，包括：
10.一种计算机可读存储介质，其特征在于，所述计算机可读存储介质存储有计算机程序，所述计算机程序能够被执行以用于实现如权利要求4-9任一项所述的离焦补偿方法的步骤。