二氧化硅粒子、调色剂、显影剂、盒、成像装置及方法与流程

文档序号:37435194发布日期:2024-03-25 19:32阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种二氧化硅粒子,其特征在于,包含含氮元素化合物,

2.根据权利要求1所述的二氧化硅粒子,其中,

3.根据权利要求1或2所述的二氧化硅粒子,其中,

4.根据权利要求1~3中任一项所述的二氧化硅粒子,其中,

5.根据权利要求4所述的二氧化硅粒子,其中,

6.根据权利要求4或5所述的二氧化硅粒子,其中,

7.根据权利要求4~6中任一项所述的二氧化硅粒子,其中,

8.根据权利要求7所述的二氧化硅粒子,其中,

9.根据权利要求7或8所述的二氧化硅粒子,其中,

10.根据权利要求1~9中任一项所述的二氧化硅粒子,其中,

11.根据权利要求1~10中任一项所述的二氧化硅粒子,其中,

12.根据权利要求1~11中任一项所述的二氧化硅粒子,其中,

13.根据权利要求1~12中任一项所述的二氧化硅粒子,其中,

14.一种静电潜像显影用调色剂,其特征在于,包含:

15.一种静电潜像显影剂,其特征在于,包含权利要求14所述的静电潜像显影用调色剂。

16.一种调色剂盒,其特征在于,容纳权利要求14所述的静电潜像显影用调色剂,

17.一种处理盒,其特征在于,具备显影构件,所述显影构件容纳权利要求15所述的静电潜像显影剂,并且通过所述静电潜像显影剂将形成于图像保持体的表面上的静电潜像显影为调色剂图像,

18.一种图像形成装置,其特征在于,具备:

19.一种图像形成方法,其特征在于,包括:


技术总结
本发明公开了二氧化硅粒子、调色剂、显影剂、盒、成像装置及方法。所述二氧化硅粒子包含含氮元素化合物,在将350℃煅烧前后的BET比表面积分别设为α及β时,α/β为0.30以上且0.80以下,350℃煅烧前与350℃煅烧后的带电序列比以绝对值计为0.10以上且0.85以下。

技术研发人员:野原晃太,竹内荣,钱谷优香,菅原启,持田麻衣,关三枝子
受保护的技术使用者:富士胶片商业创新有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/3/24
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