1.一种光学元件，包括：
2.根据权利要求1所述的光学元件，其中，所述预设值大于或等于92%，所述光学元件对光线的反射率小于或等于1%。
3.根据权利要求1所述的光学元件，其中，所述第一增透膜层的厚度在50 nm~2000 nm范围内，所述第一增透膜层包括交替堆叠的第一膜层和第二膜层，
4.根据权利要求3所述的光学元件，其中，
5.根据权利要求1所述的光学元件，其中，所述第二增透膜层的厚度在30 nm~400 nm范围内，所述第二增透膜层包括交替堆叠的第三膜层和第四膜层，
6.根据权利要求5所述的光学元件，其中，
7.根据权利要求1所述的光学元件，其中，所述功能膜层的厚度在20 nm~600 nm范围内，所述功能膜层的方阻在2ω/sq~200ω/sq范围内，所述功能膜层对所述光线的折射率在2.0~2.3范围内。
8.根据权利要求7所述的光学元件，其中，所述功能膜层包括金属材料、半导体材料和合金材料中的一种或多种，
9.根据权利要求8所述的光学元件，其中，所述功能膜层包括氧元素，其中所述氧元素在所述功能膜层包含的全部元素中的占比在40%~75%范围内。
10.根据权利要求1-9中任一项所述的光学元件，其中，采用蒸发镀膜工艺、溅射镀膜工艺或气相沉积镀膜工艺形成所述第一增透膜层、所述功能膜层和所述第二增透膜层中的至少之一。
11.根据权利要求1-9中任一项所述的光学元件，其中，所述光学元件还包括位于所述基板和所述第一增透膜层之间的结合层，
12.根据权利要求1-9中任一项所述的光学元件，其中，所述光学元件还包括位于所述基板背离所述第一增透膜层的一侧的保护层，其中所述保护层包括防水膜层和硬质膜层中的至少之一。
13.根据权利要求12所述的光学元件，其中，所述光学元件还包括：
14.根据权利要求12所述的光学元件，其中，所述保护层的厚度在5 nm~50 nm范围内，所述保护层包括含氟有机物。
15.根据权利要求1-9中任一项所述的光学元件，其中，所述第一增透膜层、所述功能膜层和所述第二增透膜层的等效光程为1/4λ的奇数倍，其中λ为所述光线的波长，
16.根据权利要求1-9中任一项所述的光学元件，其中，所述基板包括玻璃材料、塑料材料和陶瓷材料中的一种或多种。
17.根据权利要求9所述的光学元件，其中，所述功能膜层对光线的吸收率a与所述氧元素的占比q满足：10≤q/a≤28。
18.一种光学装置，包括：
19.一种光学元件的制造方法，包括：
20.根据权利要求19所述的方法，其中，采用蒸发镀膜工艺、溅射镀膜工艺或气相沉积镀膜工艺形成所述第一增透膜层、所述功能膜层和所述第二增透膜层中的至少之一。
21.根据权利要求19所述的方法，其中，所述功能膜层包括金、银、铜、铝、氧化铟锡、铝锌氧化物中的一种或多种，在所述第一增透膜层背离所述基板的一侧设置功能膜层，包括：
22.根据权利要求21所述的方法，其中，所述镀膜腔体内的温度t、真空度p和充氧量f满足：0.1≤-log(p)×t/f≤750。
23.根据权利要求21所述的方法，其中，所述镀膜腔体内的氧气分压x、真空度p和充氧量f满足：x=kf/p，其中k在0.005~0.02范围内。
24.根据权利要求21所述的方法，其中，所述功能膜层的方阻r、所述镀膜腔体内的氧气分压x和所述镀膜腔体内的温度t满足：r=-0.0005x3+0.15084x2-11.405x+275.61+0.031t。
25.根据权利要求19所述的方法，其中，在基板的一侧设置第一增透膜层包括：
26.根据权利要求19所述的方法，其中，在所述功能膜层背离所述第一增透膜层的一侧设置第二增透膜层包括：
27.根据权利要求19所述的方法，其中，所述方法还包括：
28.根据权利要求19-27中任一项所述的方法，其中，所述方法还包括：
29.根据权利要求28所述的方法，其中，所述方法还包括：
30.根据权利要求29所述的方法，其中，在所述基板背离所述第一增透膜层的一侧设置第三增透膜层包括：
31.一种光学装置的制造方法，包括：