1.一种渐变折射率高带宽多模光纤，其特征是：沿多模光纤径向由内向外依次包括芯层i、芯层ii、内包层i、内包层ii、下陷包层、过渡包层和外包层；芯层i、芯层ii的折射率剖面幂指数分布；渐变折射率高带宽多模光纤的径向折射率n(r)表示为：
2.根据权利要求1所述的渐变折射率高带宽多模光纤，其特征是：所述芯层i、芯层ii折射率剖面为连续渐变，折射率剖面符合幂指数分布，分布幂指数α为1.92~2.2，芯层中心与外包层最大相对折射率差为0.9~1.2%。
3.根据权利要求1所述的渐变折射率高带宽多模光纤，其特征是：所述芯层ii半径为24.5~27.5um，芯层i半径与差值r2-r1为2~5um。
4.根据权利要求1所述的渐变折射率高带宽多模光纤，其特征是：所述内包层i的宽度w1为0~1um，折射率剖面为连续渐变，折射率剖面为直线或曲线，所述内包层ii的宽度w2为1~1.5um，内包层ii与外包层相对折射率差为-0.2~0.2%。
5.根据权利要求1所述的渐变折射率高带宽多模光纤，其特征是：所述下陷包层的宽度w3为3~8um，与外包层相对折射率差为-0.5%~-0.75%。所述外包层为纯石英玻璃，包层半径为61~64um。
6.根据权利要求1所述的渐变折射率高带宽多模光纤，其特征是：所述芯层i为cl、f、ge共掺sio2玻璃，芯层i对参与沉积反应的气体掺杂剂gecl4进行流量补偿修正，优化其dmd性能。
7.根据权利要求1所述的渐变折射率高带宽多模光纤，其特征是：所述芯层ii为cl、f、ge共掺sio2玻璃，芯层ii参与沉积反应的气体掺杂剂gecl4流量控制器开度为5%~15%。
8.根据权利要求1所述的渐变折射率高带宽多模光纤，其特征是：所述芯层ii制备过程中gecl4流量控制器开度恒定；芯层ii制备过程中gecl4流量控制器开度随芯层ii沉积层数增加递增；芯层ii掺杂剂氟利昂气体流量随沉积层数递减，且符合如下函数分布：
9.根据权利要求1所述的渐变折射率高带宽多模光纤，其特征是：所述芯层ii与芯层i的折射率剖面参数偏差∆α小于0.02；芯层ii的折射率剖面分布参数小于或等于芯层i的折射率剖面分布参数；芯层ii对掺杂剂氟利昂气体流量进行流量补偿修正，优化芯层ii的dmd性能。
10.根据权利要求9所述的渐变折射率高带宽多模光纤，其特征是：所述芯层i边界的sicl4流量与芯层i沉积终值的sicl4流量随沉积反应层数连续线性递减变化；芯层i边界的掺杂剂氟利昂流量与芯层ii沉积终值的氟利昂流量相同，芯层i掺杂剂氟利昂流量随沉积层数变化，且符合如下函数分布：