波分复用解复用装置及光模块的制作方法

文档序号:8904595阅读:413来源:国知局
波分复用解复用装置及光模块的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及光通信技术领域,具体涉及一种波分复用解复用装置及光模块。
【背景技术】
[0002]随着人类对通信带宽的需求的快速增长,现有通信系统面临着容量和能耗两大挑战。为了在更小的空间、更低的能耗占用下能够提供更大的带宽,关于并行光学模块的研宄发展开始日益增多。然而,现有技术中,这类波分复用解复用装置的封装尺寸过大。
[0003]如图1所示,在现有技术中,基板10、滤光片20、发射入射光线的光源等封装在同一个腔体中,以形成具有波分复用解复用装置的光模块,假设此时腔体沿着B方向延伸,考虑到简化工艺流程,将入射光线的方向设置成平行于B方向。基板10的第一表面11为全反射表面,基板10的第二表面12上设置有多个滤光片20,入射光线由基板10的第一表面11处入射并于所述基板10内多次反射,而后入射光线由滤光片20处出射,这里,基板10与A方向形成一夹角α摆放,使得沿着B方向入射的入射光线可于基板10内多次反射,但是,此时基板10由于呈角度摆放,这个摆放角度限制了基板10于B方向的尺寸压缩,不利于光模块的小型化。

【发明内容】

[0004]本申请一实施例提供一种波分复用解复用装置,其具有较小的尺寸,该波分复用解复用装置包括基板和多个滤光片,所述基板包括相对的第一表面、第二表面及连接所述第一表面和所述第二表面的侧表面,至少部分所述第一表面为全反射面,所述多个滤光片设置在所述第二表面上,所述波分复用解复用装置还包括与所述第二表面相连的反光元件,当垂直于所述第一表面的入射光线射向所述反光元件时,所述反光元件将所述入射光线偏离入射方向弯折一定角度后到达所述第一表面,所述入射光线于所述第一表面处发生反射并分别经过各个所述滤光片后从所述基板中射出。
[0005]一实施例中,所述多个滤光片之间具有间隔,所述入射光线于所述基板内每相邻两个滤光片之间至少经过两次反射后分别经过各个所述滤光片从所述基板中射出。
[0006]一实施例中,所述反光元件包括反射面,所述反射面倾斜于所述第二表面,当垂直于所述第一表面的入射光线射向所述反光元件时,所述反射面将所述入射光线偏离入射方向弯折一定角度后到达所述第一表面,所述入射光线于所述第一表面处发生反射并分别经过各个所述滤光片后从所述基板中射出。
[0007]一实施例中,所述反光元件设置于所述基板的第二表面下或所述侧表面旁。
[0008]一实施例中,所述反光元件与所述基板为一体成型结构。
[0009]一实施例中,所述反射面为连接所述基板的所述第一表面和所述第二表面的平面。
[0010]一实施例中,所述反射面为连接所述基板的所述第二表面和所述侧表面的平面。[0011 ] 一实施例中,所述滤光片将从所述基板倾斜于所述第一表面射出的光线偏折至垂直于所述第一表面出射。
[0012]本申请一实施例提供一种波分复用解复用装置,包括全反射面、与全反射面相对设置的滤光片和反光元件,当垂直于所述全反射面的入射光线射向所述反光元件时,所述反光元件将所述入射光线向所述全反射面和所述滤光片之间弯折一定角度后到达所述滤光片并分别经过各个所述滤光片后从所述滤光片中射出。
[0013]一实施例中,从所述滤光片中射出的光线垂直于所述全反射面。
[0014]本申请一实施例提供一种光模块,包括如上所述的波分复用解复用装置。
[0015]与现有技术相比,本申请的技术方案的入射光线垂直于基板第一表面入射,通过反光元件的作用使得光线在基板内后续的传播方向偏离入射方向,通过该设计可以压缩基板于入射光线入射方向上的尺寸,从而有利于减小整个装置的尺寸。
【附图说明】
[0016]图1是现有技术的波分复用解复用装置的结构示意图;
图2是本申请的波分复用解复用装置的一实施例的结构示意图;
图3是本申请的波分复用解复用装置的一实施例的滤光片改变的结构示意图;
图4-图6是本申请的波分复用解复用装置的一实施例的其他示例的结构示意图;
图7是本申请的波分复用解复用装置的另一实施例的结构示意图;
图8是本申请的波分复用解复用装置的另一实施例的滤光片改变的结构示意图;
图9-图11是本申请的波分复用解复用装置的另一实施例的其他示例的结构示意图。
具体实施例
[0017]以下将结合附图所示的具体实施例对本申请进行详细描述。但这些实施例并不限制本申请,本领域的普通技术人员根据这些实施例所做出的结构、方法、或功能上的变换均包含在本申请的保护范围内。
[0018]在本申请的各个图示中,为了便于图示,结构或部分的某些尺寸会相对于其它结构或部分夸大,因此,仅用于图示本申请的主题的基本结构。
[0019]另外,本文使用的例如“上”、“上方”、“下”、“下方”等表示空间相对位置的术语是出于便于说明的目的来描述如附图中所示的一个单元或特征相对于另一个单元或特征的关系。空间相对位置的术语可以旨在包括设备在使用或工作中除了图中所示方位以外的不同方位。例如,如果将图中的设备翻转,则被描述为位于其他单元或特征“下方”或“之下”的单元将位于其他单元或特征“上方”。因此,示例性术语“下方”可以囊括上方和下方这两种方位。设备可以以其他方式被定向(旋转90度或其他朝向),并相应地解释本文使用的与空间相关的描述语。
[0020]参图2,本申请的波分复用解复用装置包括全反射面101、与全反射面101相对设置的滤光片200和折光元件300,当垂直于所述全反射面101的入射光线射向所述折光元件300时,所述折光元件300将所述入射光线向所述全反射面101和所述滤光片200之间弯折一定角度后到达所述滤光片200并分别经过各个所述滤光片200后从所述滤光片200中射出。其中,从所述滤光片200中射出的光线垂直于所述全反射面101。
[0021]继续参见图2,在本申请一实施例中,波分复用解复用装置包括基板100、多个滤光片200及折光元件300。
[0022]基板100设置于入射光线的光路上,所述基板100包括相对设置的第一表面101、第二表面102及连接所述第一表面101和所述第二表面102的侧表面103,所述第一表面101为全反射面;多个滤光片200设置于所述基板100的所述第二表面102 ;折光元件300连接所述第一表面101设置;其中,当垂直于所述第一表面101的入射光线射向所述折光元件300时,所述折光元件300将所述入射光线向所述基板100内部弯折一定角度后到达所述第二表面102并分别经过各个所述滤光片200后从所述基板100中射出。
[0023]这里,需要说明的是,基板100的全反射面101可以通过将全反射膜设置于基板100上形成,亦或是在基板100的第一表面101涂布全反射材料形成;所述多个滤光片200之间具有间隔,相邻滤光片200之间的间隔可为固定值,即多个滤光片200均匀分布于所述第二表面102上,此时,所述入射光线于所述基板100内每相邻两个滤光片200之间至少经过两次反射后分别经过各个所述滤光片200从所述基板100中射出,当然,滤光片200之间也可以无间隔;入射光线可以通过光源提供,光源例如为激光器。
[0024]实际运用中,需将基板100、滤光片200、光源等封装在同一个腔体中,以形成具有波分复用解复用装置的光模块。参图2,假设此时腔体沿着Y方向延伸,考虑到简化工艺流程,将入射光线的方向设置成平行于Y方向。在本实施例中,入射光线垂直于所述第一表面101入射,这里可将基板100的第一表面101及第二表面102平行设置,即此时第一表面101及第二表面102均平行于X方向,相较于现有技术的基板10倾斜一角度摆放(即与X方向形成一角度摆放),本实施例的基板100平行于X方向摆放,在与现有技术的基
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