一种转印板及其制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及液晶显示技术领域，尤其涉及一种用于形成配向膜的转印板及其制作方法。
【背景技术】
[0002]薄膜晶体管液晶显不器(ThinFilm Transistor Liquid CrystalDisplay, TFT-1XD)具有体积小、功耗低、无辐射等优点，近年来得到飞速的发展，已经成为市场上显示器的主流，在市场和消费者心中成为理想的显示器件。
[0003]液晶显示面板主要由阵列基板和彩膜基板以及填充在阵列基板和彩膜基板之间的液晶层构成的液晶盒。液晶显示面板中，为了使液晶分子形成一定的取向，需要在液晶面板显示中阵列基板和彩膜基板上的显示区域分别制作配向膜，通过两侧的配向膜控制光的通过与否，阵列基板和彩膜基板可统称为显示基板。
[0004]现有工艺中配向膜一般都是通过转印板将配向液转印到显示基板表面，再通过固化形成的。目前制作工艺中所使用的转印板的表面布满了很多凸起的网状结构，如图1所示，所述转印板包括基板101、设置在所述基板101上的凸起的呈圆台状的网点结构102，该多个网点结构102间隔分布。参见图2，在制备配向膜的过程中，首先将配向液填充到转印板的网点结构102之间的空隙103中，再通过印刷的方式将配向液转印到显示基板2上。
[0005]随着液晶显示面板在移动终端显示应用的不断扩大和升级，市场和客户对液晶面板的分辨率不断提出了更高的要求，各种用途的显示面板的分辨率不断的提升。随着分辨率的提升，设置在阵列基板上的各种过孔21的孔径变的越来越小；但是，由于工艺水平的限制以及为了防止该网点结构102发生碎裂，却不能将转印板上的网点结构102的顶端的直径做到比过孔21的孔径小；因此在利用转印板制作配向膜的工艺过程中，常常出现过孔21被转印板上的网点结构102堵住的情况，造成该过孔区域内配向液的印刷不良、膜厚不均勾的问题，最终导致液晶显示面板显示不良。
【发明内容】
[0006]本发明实施例提供了一种转印板及其制作方法，用以解决现有技术中采用转印板制作配向膜时，因转印板上的网点结构将显示基板上的过孔堵住所造成的配向膜膜厚不均匀的问题。
[0007]本发明实施例提供了一种用于形成配向膜的转印板，所述转印板包括基板以及设置在所述基板上的多个凸起的网点结构；其中，至少一个所述网点结构的顶端设置有凹槽结构，所述凹槽结构用于盛放配向液，当待配向的显示基板中的过孔被所述网点结构覆盖时，所述凹槽结构中的配向液在所述过孔中形成配向膜。
[0008]本发明实施例提供的转印板包括基板以及设置在所述基板上的多个凸起的网点结构；其中，至少一个所述网点结构的顶端设置有凹槽结构，所述凹槽结构可以盛放一定量的配向液，在形成配向膜的过程中当待配向的显示基板中的过孔被所述网点结构覆盖时，所述凹槽结构中的配向液在所述过孔中印刷形成配向膜，用以形成较为完整的配向膜，解决现有技术中因过孔被堵住所造成的过孔区域无法形成配向膜的问题，用以提高配向膜的均勾性，提尚显不面板的显不质量。
[0009]较佳的，所述凹槽结构的剖面结构的形状为矩形、梯形或三角形。
[0010]所述凹槽结构的剖面结构的形状为矩形、梯形或三角形时，通过构图工艺较容易形成。此外所述凹槽结构的剖面结构的形状还可以为半圆形或多边形等其它形状。
[0011]较佳的，所述凹槽结构的剖面结构的形状为梯形时，所述梯形的上底边为5-15 μ m，所述梯形的下底边为2-5 μ m。
[0012]所述梯形的上底边为5-15 μ m，所述梯形的下底边为2-5 μ m，为一倒置的梯形，通过现有光刻工艺容易形成。且现有技术中所述网点结构的顶端的直径一般约为10-40 μπι，将所述上底边设置为5-15 μm，所述梯形的下底边设置为2-5 μπι时，既不会使得所述网点结构顶端处的侧壁因太薄而变得易碎，还可以保证能够使配向液顺利的进入凹槽结构中。
[0013]较佳的，所述凹槽结构在垂直于基底方向上的高度为5-10 μ m。
[0014]当所述梯形的上底边为5-15 μ m，所述梯形的下底边为2-5 μ m，且在垂直于基底方向上的高度为5-10 μπι时，能够保证凹槽结构中盛放一定量的配向液，使得能够在被网点结构覆盖的过孔区域中形成完整的配向膜。
[0015]较佳的，所述网点结构采用树脂材料形成。
[0016]基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种转印板的制作方法，所述方法包括:
[0017]在基板上形成多个凸起的网点结构，以及在其中至少一个所述网点结构的顶端形成凹槽结构；所述凹槽结构用于盛放配向液，当待配向的显示基板中的过孔被所述网点结构覆盖时，所述凹槽结构中的配向液在所述过孔中形成配向膜。
[0018]通过本发明实施例提供的方法形成的网点结构中，其中至少一个所述网点结构的顶端设置有凹槽结构，所述凹槽结构可以盛放一定量的配向液，在形成配向膜的过程中当待配向的显示基板中的过孔被所述网点结构覆盖时，所述凹槽结构中的配向液在所述过孔中印刷形成配向膜，用以形成较为完整的配向膜，解决现有技术中因过孔被堵住所造成的过孔区域无法形成配向膜的问题，用以提高配向膜的均匀性，提高显示面板的显示质量。
[0019]较佳的，利用构图工艺形成的所述凹槽结构的剖面结构的形状为矩形、梯形或三角形。
[0020]所述凹槽结构的剖面结构的形状为矩形、梯形或三角形时，通过构图工艺较容易形成。此外所述凹槽结构的剖面结构的形状还可以为半圆形或多边形等其它形状。
[0021]较佳的，形成的所述凹槽结构的剖面结构的形状为梯形时，所述梯形的上底边为5-15 μ m，所述梯形的下底边为2-5 μ m。
[0022]所述梯形的上底边为5-15 μ m，所述梯形的下底边为2-5 μ m，为一倒置的梯形，通过现有光刻工艺容易形成。且现有技术中所述网点结构的顶端的直径一般约为10-40 μπι，将所述上底边设置为5-15 μm，所述梯形的下底边设置为2-5 μπι时，既不会使得所述网点结构顶端处的侧壁因太薄而变得易碎，还可以保证能够使配向液顺利的进入凹槽结构中。
[0023]较佳的，形成的所述凹槽结构在垂直于基底方向上的高度为5-10 μ m。
[0024]当所述梯形的上底边为5-15 μ m，所述梯形的下底边为2-5 μ m，且在垂直于基底方向上的高度为5-10 μπι时，能够保证凹槽结构中盛放一定量的配向液，使得能够在被网点结构覆盖的过孔中形成完整的配向膜。
[0025]较佳的，采用树脂材料形成所述网点结构。
[0026]较佳的，形成所述转印板的方法具体包括:
[0027]在所述基板上涂覆树脂材料，形成树脂材料层；
[0028]在所述树脂材料层上涂覆一层正性光刻胶；
[0029]利用包括分别与所述网点结构和凹槽结构对应的完全遮挡区域图案与半遮挡区域图案的掩膜板，通过构图工艺形成包括所述凹槽结构的网点结构。
[0030]利用所述方法，可形成本发明实施例所述包括凹槽结构的网点结构，使得在形成配向膜的过程中当待配向的显示基板中的过孔被所述网点结构覆盖时，所述凹槽结构中的配向液在所述过孔中印刷形成配向膜，用以形成较为完整的配向膜，解决现有技术中因过孔被堵住所造成的过孔区域无法形成配向膜的问题，用以提高配向膜的均匀性，提高显示面板的显示质量。
【附图说明】
[0031]图1为现有技术中转印板的剖面结构示意图；
[0032]图2为现有技术中利用转印板形成配向膜的方法示意图；
[0033]图3为本发明实施例一提供的一种转印板的剖面结构示意图；
[0034]图4为利用本发明实施例一提供的转印板形成配向膜的方法示意图；
[0035]图5为本发明实施例提供的其剖面结构的形状为三角形时的转印板的剖面结构示意图；
[0036]图6为本发明实施例提供的其剖面结构的形状为矩形时的转印板的剖面结构示意图。
【具体实施方式】
[0037]本发明实施例提供了一种转印板及其制作方法，用以解决现有技术中采用转印板制作配向膜时，因转印板上的网点结构将显示基板上的过孔堵住所造成的配向膜膜厚不均匀的问题。
[0038]下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
[0039]本发明实施例提供了一种用于形成配向膜的转印板，参见图3 ;所述转印板包括:基板101，以及设置在所述基板101上的多个凸起的网点结构102 ;其中，至少一个所述网点结构102的顶端设置有凹槽结构301，所述凹槽结构301用于盛放配向液。
[0040]在利用所述转印板进行制作配向膜时，如图4所示