阵列基板及液晶显示面板的制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明设及一种阵列基板及一种使用该阵列基板的液晶显示面板。
【背景技术】
[0002] 液晶显示面板通常包括彩色滤光片基板、阵列基板W及夹着于彩色滤光片基板与 阵列基板之间的液晶层。阵列基板上通常包括多条扫描线、多条数据线W及多个薄膜晶体 管。该些扫描线与数据线依次形成在一衬底上。然而，现有的液晶显示面板经常会出现色 偏现象，显示效果不佳。尤其是在平面内切换（InPlaneSwitching,IP巧型液晶显示面板 中，色偏的现象会经常发生，极大的影响了使用者的观看效果。
【发明内容】
[0003] 有鉴于此，有必要提供一种阵列基板。所述阵列基板包括多条扫描线、多条数据线 W及多个公共电极，相邻的两条扫描线与相邻的两条数据线相互交叉W定义一像素区域， 所述公共电极对应所述像素区域设置，且所述公共电极包括狭缝，相邻的多个像素区域共 同定义一像素，在每一像素对应的多个像素区域中，各像素区域中的公共电极的狭缝与其 它像素区域中公共电极的狭缝的延伸方向均不同。
[0004] 还有必要提供一种液晶显示面板。所述液晶显示面板包括所述阵列基板、对向基 板W及液晶层，所述阵列基板与所述对向基板相对设置，所述液晶层夹设于所述阵列基板 与对向基板之间。
[0005] 与现有技术相比较，本发明所提供的阵列基板及液晶显示面板由于各像素区域中 的狭缝的延伸方向不同，能够改善液晶显示面板色偏的问题。
【附图说明】
[0006] 图1是本发明【具体实施方式】所提供的液晶显示面板的示意图。
[0007] 图2是沿图1中II-II切割线所做的剖面示意图。
[0008] 图3是本发明第一实施方式所提供的阵列基板的俯视图。
[0009] 图4是沿图3中IV-IV切割线所做的剖面示意图。
[0010] 图5是图3中公共电极的俯视图。
[0011] 图6是本发明第二实施方式所提供的阵列基板的俯视图。
[0012] 图7是图6中公共电极的俯视图。
[0013] 主要元件符号说明
如下【具体实施方式】将结合上述附图进一步说明本发明。
【具体实施方式】
[0014] 请一并参阅图1与图2,本发明【具体实施方式】所提供的液晶显示面板1包括阵列 基板10、对向基板20W及液晶层30。所述阵列基板10与所述对向基板20相对设置。所 述液晶层30夹设于所述阵列基板10与对向基板20之间。在本实施方式中，所述对向基板 20为彩色滤光片基板。在本实施方式中，所述液晶显示面板1为一平面内切换（InPlane Switching,IP巧型液晶显示面板。
[0015] 在本实施方式中，所述对向基板20包括多个红色滤光单元、绿色滤光单元W及蓝 色滤光单元。相邻的一个红色滤光单元、一个绿色滤光单元W及一个蓝色滤光单元共同定 义一个像素。可W理解，在其它实施方式中，所述对向基板20还可W包括白色滤光单元、黄 色滤光单元等其它形式的滤光结构，并不W此为限。
[0016] 请参阅图3,所述阵列基板10包括多条扫描线12与多条数据线13。所述多条扫 描线12与多条数据线13相互交叉设置。相邻的两条扫描线12与相邻的两条数据线13相 互交叉W定义一像素区域14。可W理解，所述的每一个像素区域14分别对应对向基板20 中的一滤光单元，如：一个红色滤光单元或一个绿色滤光单元或一个蓝色滤光单元。相邻的 =个像素区域14共同定义一个所述像素。在本实施方式中，该阵列基板10包括相邻的第 一像素区域14a、第二像素区域14bW及第=像素区域14c。该第一像素区域14a、第二像素 区域14bW及第=像素区域14c分别对应对向基板20上的一个红色滤光单元、一个绿色滤 光单元W及一个蓝色滤光单元。所述第一像素区域14a、第二像素区域14bW及第=像素区 域14c共同构成一个像素。
[0017] 每一像素区域14中，一条扫描线12与一条数据线13相互交叉的位置包括一薄膜 晶体管40。所述薄膜晶体管40包括栅极41、通道层43、源极44W及漏极45。在本实施方 式中，所述栅极41为由所述扫描线12向所述像素区域14内的延伸。所述源极44为由所 述数据线13向所述像素区域14内的延伸。每一像素区域14中设有一像素电极46与一公 共电极48。所述像素电极46与公共电极48层叠设置且相互绝缘。所述像素电极46与公 共电极48配合产生水平电场W共同驱动所述液晶层30中的液晶分子进行转动。
[0018] 请一并参阅图4,所述扫描线12与栅极41共同设置在一基底11上。一栅极绝缘 层42形成在所述基底11上并覆盖所述栅极41。所述通道层43设置在所述栅极绝缘层42 上与所述栅极41相对应的位置。所述源极44与漏极45相互绝缘且分别连接所述通道层 43的两侧。所述像素电极46呈片状设于所述栅极绝缘层42上，并与所述漏极45电性连 接。具体地，所述所述漏极45远离所述通道层43的一侧覆盖在所述像素电极46上。一纯 化层47形成在所述基底11上，并覆盖所述通道层43、源极44、漏极45W及像素电极46。 所述公共电极48形成在所述纯化层47上，且所述公共电极48的位置与所述像素电极46 相对应。
[0019] 请一并参阅图5,所述公共电极48包括多个狭缝49(Slit)。所述狭缝49为开设 在所述公共电极48上的长条状开口。每一像素区域14中的多个狭缝49的延伸方向相同， 且长度与宽度均相等。在本实施方式中，每一像素区域14中对应的公共电极48包括=个 狭缝49,所述=个狭缝49的延伸方向平行且长度与宽度均相等。同一像素的各像素区域 14中，各像素区域14的狭缝49的延伸方向均不同。在本实施方式中，所述第一像素区域 14曰、第二像素区域14bW及第=像素区域14c中每一像素区域14中的狭缝49的延伸方向 均与其它像素区域中的狭缝49的延伸方向不同。所述每一像素区域14中狭缝49的延伸 方向可根据实际需要进行调整。其中，狭缝49的延伸方向不同，导致不同像素区域14内的 狭缝49与扫描线12所形成的夹角不同。如在第一像素区域14a中的狭缝49与扫描线12 所形成的夹角、在第二像素区域14b中的狭缝49与扫描线12所形成的夹角W及在第=像 素区域14c中的狭缝49与扫描线12所形成的夹角均不同。
[0020] 可W理解，在其它实施方式中，例如当相邻的一个红色滤光单元、一个绿色滤光单 元、一个蓝色滤光单元W及一个白色滤光单元共同定义一个像素时，相邻的一个红色滤光 单元、一个绿色滤光单元、一个蓝色滤光单元W及一个白色滤光单元所对应的像素区域14 中的狭缝的延伸方向均不同。
[0021]