图案生成方法以及信息处理装置的制造方法
【技术领域】
[0001 ] 本发明涉及图案生成方法以及信息处理装置。
【背景技术】
[0002]包括照明光学系统和投影光学系统的曝光设备已被用于光刻技术。照明光学系统利用来自光源的光照明掩模。投影光学系统将掩模图案的图像投影到基板(例如晶片)上。当要形成在基板上的目标图案的最小尺寸小于用于曝光的光源的波长时，在毗邻图案之间，掩模图案的图像在基板上的投影涉及不期望的光相互作用(干涉)。因此，在基板上形成了具有不同于目标图案的形状的、不期望的图像。目标图案的最小尺寸与光源的波长之间的差越大，则引起图案的分辨率缺陷的可能性越高。
[0003]—种已知的用于使用计算机生成掩模图案的方法包括:从包括大量标准单元(cell)的单元库中选择多个单元、布置这些单元、并对多个布置的单元进行光学邻近校正(optical proximity correct1n，下文中称为0PC)。通过0PC，以将图案的图像设置在目标范围内的方式来校正各图案元素的形状。在OPC中，考虑到了在毗邻图案之间光的干涉如何影响形成的图案图像。单元库包括形成用于掩模图案的基本图案的多个单元。多个单元包括彼此不同的图案。
[0004]用于改变图案元素的形状的计算量随着图案元素的数量的增加而增加。因此，当布置要使用的所有单元以生成掩模图案，然后对整个掩模图案(整个芯片)进行OPC时，需要极其大量的计算。美国专利申请第2009/0100396号公报讨论了解决这种情况的方法。具体而言，对各个单元中的图案进行OPC以校正图案的形状，并且布置经历了 OPC的多个单元来形成掩模图案。然后，对整个掩模图案最后一次进行0PC。由于各单元的图案已经经历了 0PC，因此不需要向具有已经被校正在目标范围内的图像的一些图案元素施加对整个掩模的0PC。因此，减少了要校正的图案元素的数量。结果，能够减少OPC中的计算量。
[0005]在美国专利第7873929号公报中，将辅助图案按特定规则布置在标准单元中。因此，能够以更小的光学邻近效果(当布置多个标准单元时产生该光学邻近效果)或无光学邻近效果来生成掩模图案。在日本特开2005-84101号公报中，在虚拟图案(dummypattern)被添加至单元的图案的两侧的情况下进行0PC，然后去除虚拟图案并且将由此得到的图案存储在单元库中。
[0006]美国专利申请第2009/0100396号公报讨论了使各单元中的图案变形的0PC，但是并未讨论用于实现单元中的主图案的更高分辨率的辅助图案。因此，无法获得辅助图案的分辨率提升效果。在美国专利第7873929号公报中，仅在单元内部布置辅助图案。因此，由于辅助图案布置的限制，可能无法实现足够的分辨率。在日本特开2005-84101中讨论的虚拟图案在OPC中不仅被放置在单元内，而且还被放置在单元的两侧。当单元被存储在单元库中时去除虚拟图案。因此，由于在从单元库中选择的单元中不存在虚拟图案，当生成掩模图案时可能无法实现足够的分辨率。
【发明内容】
[0007]根据本发明的一个方面，提供了一种图案生成方法，其用于使用处理器通过相邻布置从包含多个单元的单元库中选择的多个单元来生成掩模的图案，所述图案生成方法包括:限定步骤，在各单元中限定主图案的占有区；布置步骤，相邻布置第一单元和具有在所述主图案的占有区外部的辅助图案的第二单元，使得所述第二单元的所述占有区外部的辅助图案存在于所述第一单元的主图案的占有区中；以及生成步骤，通过在相邻布置的所述第一单元和所述第二单元中的、所述第二单元的所述占有区外部的辅助图案的图案元素与所述第一单元中的所述主图案接近或交叠的部分中，去除所述辅助图案的图案元素，来生成所述掩模的图案。
[0008]根据以下参照附图对示例性实施例的描述，本发明的其他特征将变得清楚。
【附图说明】
[0009]图1是例示掩模图案的生成方法的流程图。
[0010]图2是例示单元A至D的图。
[0011]图3是例示各自包括辅助图案的单元A’至D’的图。
[0012]图4是例示有效光源分布的图。
[0013]图5是例示作为相邻布置单元A’至D’的状态的掩模图案的图。
[0014]图6是例示彼此接近或彼此交叠的辅助图案元素的图。
[0015]图7是例示在部分去除辅助图案之后的图案的图。
[0016]图8是例示在第一示例性实施例中确定的掩模图案的图。
[0017]图9是例示在第二示例性实施例中部分去除辅助图案之后的图案的图。
[0018]图10是例示在第二示例性实施例中确定的掩模图案的图。
[0019]图11是例示容许区域的变型例的图。
[0020]图12是例示根据第一比较例的掩模图案的图。
[0021]图13是例示根据第二比较例的掩模图案的图。
[0022]图14是例示根据第三比较例的掩模图案的图。
[0023]图15是例示在第四比较例中的单元Al至Dl的图。
[0024]图16是例示在第四比较例中的掩模图案的图。
[0025]图17是例示计算机的构造的图。
【具体实施方式】
[0026]可以通过硬件、固件、软件或它们的任意组合来实现一个实施例的元素。术语硬件通常是指具有诸如电子、电磁、光学、光电、机械、电子机械部件等的物理结构的元件。硬件实现可以包括模拟或数字电路、设备、处理器、专用集成电路(ASIC)、可编程逻辑设备(PLD)、现场可编程门阵列(FPGA)或任意电子设备。术语软件通常是指逻辑结构、方法、步骤、程序、例行程序(routine)、处理、算法、公式、函数、表达式等。术语固件通常是指在硬件结构(例如，闪速存储器、ROM、EPROM)中实现或实施的逻辑结构、方法、步骤、程序、例行程序、处理、算法、公式、函数、表达式等。固件的示例可以包括微码、可写控制存储器、微程序结构(micro-programmed structure)。当在软件或固件中实现时，实施例的元素可以是用以进行必要任务的代码段。软件/固件可以包括执行在一个实施例中描述的操作的实际代码，或者仿真或模拟操作的代码。程序或代码段可以被存储在处理器或机器可访问介质中。“处理器可读或可访问介质”或“机器可读或可访问介质”可以包括可以存储信息的任何介质。可以存储的处理器可读或机器可访问介质的示例包括存储介质、电子电路、半导体存储器设备、只读存储器(ROM)、闪速存储器、通用串行总线(USB)记忆棒、可擦除可编程ROM(EPROM)、软盘、高密度磁盘(CD) R0M、光盘、硬盘等。机器可访问介质可以在制造的物品中被实施。机器可访问介质可以包括当被机器访问时，使机器进行上述操作或动作的信息或数据。机器可访问介质也可以包括嵌入其中的程序代码、指令或多个指令。程序代码可以包括进行上述操作或动作的机器可读代码、指令或多个指令。在此，术语“信息”或“数据”是指针对机器可读目的而编码的任意类型的信息。因此，“信息”或“数据”可以包括程序、代码、数据、文件等。
[0027]实施例的全部或部分可以通过依据对应于特定特征、功能的应用的各种手段来实现。这些手段可以包括硬件、软件、固件、或它们的任意组合。硬件、软件、或固件元素可以具有彼此耦合的数个模块。硬件模块通过机械、电气、光学、电磁或任意物理连接与其他模块耦合。软件模块通过功能、步骤、方法、子程序、或子程序调用、跳转、链接、参数、变量、变元传递、函数返回等与其他模块耦合。软件模块与其他模块耦合以接收变量、参数、变元、指针等，和/或生成或传递结果、更新变量、指针等。固件模块通过以上硬件和软件耦合方法的任意组合与其他模块耦合。硬件、软件或固件模块可以与其他硬件、软件或固件模块中的任一个耦合。模块也可以是软件驱动程序或界面，以与在平台上运行的操作系统相互作用。模块也可以是硬件驱动程序，以构造、建立、初始化、向硬件设备发送数据并从硬件设备接收数据。装置可以包括硬件、软件和固件模块的任意组合。
[0028]第一示例性实施例涉及在用于制造半导体设备的光刻技术中使用的图案生成(形成)方法，例如，涉及用于生成(形成)在曝光设备中使用的掩模图案的数据的方法，该曝光设备使用照明掩模的照明光学系统和将掩模图案的图像投影在基板上的投影光学系统来曝光基板。
[0029]如下进行掩模图案的数据的生成方法。计算机(信息处理装置)的处理单元读出并执行程序，并且计算机通过使用图案的数据进行计算。图17例示了执行用于形成掩模图案的程序的计算机100的构造。计算机1