光学膜组件的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明是关于一种光学膜组件，尤其是一种具有良好抗眩以及抗反射的光学膜组件。
【背景技术】
[0002]随着科技的发展，目前各种电子产品已广泛地使用触控面板(touch panel)。此夕卜，为了减轻电子产品的重量以达到「轻薄短小」的目标，因此在设计电子产品时常会省略例如键盘等传统输入设备。也就是说，目前触控面板已成为电子产品的重要组件。
[0003]如上所述，触控面板的质量已成为衡量电子产品优劣的重要因素。因此，如何提升触控面板的各种光学特性、用户的使用体验就成为重要的课题。目前来说，为了避免触控面板的表面脏污，一般会在触控面板上设置抗污膜。另一方面，为了提升触控面板的出光量，也会在触控面板上设置抗反射膜。再者，目前也有在触控面板上设置抗眩膜，以降低触控面板眩光的现象。一般来说，抗眩膜设置于抗反射膜上。然而，这种抗眩膜迭设于抗反射膜设置方式，抗眩膜会减少光线进入抗反射膜的比例，进而降低穿透率，影响亮度，更同时影响抗眩膜以及抗反射膜个别的抗眩效果以及抗反射效果。
[0004]因此，目前同时在触控面板上设置多层不同种类的薄膜仍较为困难，而使得触控面板难以满足使用者的各种需求。因此，这就成为了研究人员需要解决的问题。
【发明内容】
[0005]是以本发明提供一种光学膜组件，藉以解决上述多层薄膜迭设时无法同时发挥个别之特定效果。
[0006]本发明的实施例揭露一种光学膜组件，其包含一基板、一抗眩层、一第一抗反射层以及一第二抗反射层。抗眩层设置于基板上，且抗眩层具有一微粗糙结构，位于相反于基板的一侧。第一抗反射层设置于抗眩层的微粗糙结构上，且抗眩层位于基板以及第一抗反射层之间。第二抗反射层设置于第一抗反射层上，且第一抗反射层位于抗眩层以及第二抗反射层之间。其中，第一抗反射层的折射率相异于抗眩层的折射率。如此的配置，可以同时提升光学膜组件的抗眩以及抗反射的功效。
[0007]在本发明的部分实施例中的光学膜组件，其中第一抗反射层之折射率大于抗眩层的折射率。
[0008]在本发明的部分实施例中的光学膜组件，其中第一抗反射层之折射率大于1.8，第二抗反射层之折射率小于1.5。
[0009]在本发明的部分实施例中的光学膜组件，其中第一抗反射层之折射率大于第二抗反射层之折射率。
[0010]在本发明的部分实施例中的光学膜组件，其中抗眩层的成分包含Si02，第一抗反射层之成分系选自于Si02、Nb205、Ti02、Ta205、S1xNy、Si3N4及Ti305所组成之群组，其中第二抗反射层之成分系选自于Si02及MgF2所组成之群组。
[0011]在本发明的部分实施例中的光学膜组件，另包含一抗污层，设置于第二抗反射层上，该第二抗反射层位于第一抗反射层以及抗污层之间。
[0012]在本发明的部分实施例中的光学膜组件，其中第一抗反射层以及第二抗反射层之总厚度介于225奈米(nanometer, nm)以及255奈米之间，抗眩层之厚度小于100奈米。
[0013]在本发明的部分实施例中的光学膜组件，其中微粗糙结构具有多个凸起部以及多个凹陷部，凹陷部形成于凸起部之间，且第一抗反射层的一部份系位于凹陷部上。
[0014]在本发明的部分实施例中的光学膜组件，其中抗眩层具有彼此相对的一第一侧以及一第二侧，凸起部的尺寸自第一侧朝向第二侧缩小。
[0015]在本发明的部分实施例中的光学膜组件，其中微粗糙结构为不规则形状。
[0016]综合上述，本发明所揭露的光学膜组件，其抗眩层位于基板以及第一抗反射层之间，抗眩层的微粗糙结构面对于第一抗反射层，且抗眩层的折射率系相异于第一抗反射层。如此的光学膜组件，抗眩层以及第一抗反射层仍能分别具有良好的抗眩层以及抗反射效果，同时亦可具有高穿透效果。
[0017]在部分实施例中，光学膜组件更可包含一抗污层，设置于第二抗反射层，进而更达到抗污的效果。
[0018]以上之关于本
【发明内容】
之说明及以下之实施方式之说明系用以示范与解释本发明之原理，并且提供本发明之专利申请范围更进一步之解释。
【附图说明】
[0019]图1为根据本发明第一实施例的光学膜组件的局部剖切示意图。
[0020]图2为根据本发明第一实施例的光学膜组件的抗眩层以及第一抗反射层的局部放大剖切示意图。
[0021]图3为根据本发明第二实施例的光学膜组件的抗眩层以及第一抗反射层的局部放大剖切示意图。
[0022]图4为根据本发明第三实施例的光学膜组件的抗眩层以及第一抗反射层的局部放大剖切示意图。
[0023]图5为根据本发明第四实施例的光学膜组件的抗眩层以及第一抗反射层的局部放大剖切示意图。
[0024]图6为根据本发明第五实施例的光学膜组件的局部剖切示意图。
【具体实施方式】
[0025]以下在实施方式中详细叙述本发明之详细特征以及优点，其内容足以使任何熟习相关技艺者了解本发明之技术内容并据以实施，且根据本说明书所揭露之内容、申请专利范围及图式，任何熟习相关技艺者可轻易地理解本发明相关之目的及优点。以下之实施例系进一步详细说明本发明之观点，但非以任何观点限制本发明之范畴。
[0026]本发明的实施例揭露一种光学膜组件，其可贴附于一对象表面上，对象例如是一显示面板或显示面板上的一触控模块。此光学膜组件用以保护对象直接暴露于外界，并具有良好的抗眩层以及抗反射效果。
[0027]以下介绍本发明的光学膜组件。请参照『图1』，其为根据本发明第一实施例的光学膜组件的局部剖切示意图。
[0028]光学膜组件1包含依序迭设的一基板100、一抗眩层200、一第一抗反射层300以及一第二抗反射层400。也就是说,抗眩层200设置于基板100上，第一抗反射层300设置于抗眩层200上，以使抗眩层200介于基板100以及第一抗反射层300之间。第二抗反射层400设置于第一抗反射层300上，以使第一抗反射层300介于抗眩层200以及第二抗反射层400之间。
[0029]基板100用以承载其他膜层(例如本实施例的抗眩层200、第一抗反射层300以及第二抗反射层400)，且用以接触于对象(例如上述的显示面板，未绘示)。更进一步来说，基板100具有彼此相对的一第一面110以及一第二面120，第一面11用以面对并接触于对象，而第二面面对抗眩层200。在本实施例中，基板100的成分是可透光玻璃或PET (聚对苯二甲酸乙二酯)，但非用以限定本发明。当基板100为玻璃时，其光泽度(Gloss)可为150。
[0030]抗眩层200具有一微粗糙结构210,位于相反于基板100的第二面200的一侧，且抗眩层200具有抗眩的功效。在本实施例中，抗眩层200的成分包含Si02( 二氧化硅)，在部分实施例中，抗眩层200的成分包含正娃酸乙酯(tetraethyl orthosilicate,TE0S)、酸类、溶剂、醇类、水。此外，抗眩层200之厚度小于100奈米。抗眩层200藉由喷涂或蚀刻的方式设置于基板100上。抗眩层200的光泽度可为115至145之间，但非用以限定本发明。
[0031]第一抗反射层300设置于抗眩层200的微粗糙结构210上，而第二抗反射层400设置于第一抗反射层300上。第一抗反射层300以及第二抗反射层400具有抗反射、抗指纹残留以及防污等功效。第二抗反射层400具有一第一上表面410，第一上表面410位于面对第一抗反射层300的相反一侧，并适于暴露于外界。详细来说，第一抗反射层300之成分系选自于Si02、Nb205 (五氧化二铌)、Τ?02 ( 二氧化钛)、Ta205 (氧化钽)、S1xNy (氮氧硅化合物)、Si3N4 (氮化硅)及Ti305 (五氧化三钛)所组成之群组，而第二抗反射层400之成分系选自于Si02及MgF2(氟化镁)所组成之群组。此外，第一抗反射层300以及第二抗反射层400之总厚度可介于225奈米(nanometer, nm)以及255奈米之间。第一抗反射层300以及第二抗反射层400分别可以利用喷涂、蒸镀或溅镀等方式依序设置。再者，当抗眩层200的光泽度为115至145之间时，抗眩层200、第一抗反射层300以及第二抗反射层400的光线总穿透率约为95.6%，第一抗反射层300以及第二抗反射层400的粗糙度可为
0.025 μ m以下。如此,可降低第一抗反射层300以及第二抗反射层400对于光线的反射，并提高光线穿透率