本实用新型属于数控加工领域，尤其涉及一种复合式等离子切割胎架。
背景技术：
随着我国钢结构制造技术的发展，对钢结构加工制造的生产能力和质量提出了更高的要求，在钢结构制造厂，等离子数控切割机因其具有切割速度快、精度高、割缝小、整齐、无掉渣现象等诸多优点而被广泛应用，而如何保证等离子切割机的使用效果，与之相配套的切割胎架就显得尤为重要。
目前，工厂里面的现有的等离子切割胎架采用相互平行且垂直于切割机轨道的胎架横梁组成，通过斜拉杆将胎架横梁连接起来，共同镶嵌在胎架边框中。现有胎架存在以下缺陷：第一，现有的胎架在切割小规格和窄条零件时，零件很容易从胎架横梁间隙掉落到下方水池中，增加了工人工作的难度，给生产造成影响；第二，当等离子切割头运行轨迹正好落于胎架某一根钢条上，将会直接切伤胎架，导致胎架高低不平，影响切割精度，同时因切伤胎架而导致的频繁更换胎架，增加了生产成本；第三，清理切割水池的周期比较短，影响正常生产活动。
技术实现要素：
本实用新型所要解决的技术问题为提供一种复合式等离子切割胎架，旨在避免小规格零件掉入水池，提高生产效率，降低成本以及提高胎架使用过程中的安全性。
为解决上述技术问题，本实用新型是这样实现的，一种复合式等离子切割胎架，所述胎架设置在数控切割机下方的水池上，且凸伸出所述水池的水面，需要切割的工件放置在所述胎架上，所述胎架包括防坠架、防坠件以及若干斜梁，所述防坠件设置在所述防坠架上，若干所述的斜梁横向地铺设在所述防坠件上，并且，所述斜梁的长度方向倾斜于数控切割机的切割轨道。
进一步地，所述胎架还包括斜拉杆，所述斜拉杆设置在相邻两根斜梁之间。
进一步地，所述防坠架以及防坠件完全浸入所述水池的水面下。
进一步地，所述防坠架包括支撑架和立柱，所述立柱设置在所述支撑架的下方，所述防坠件设置在所述支撑架上。
进一步地，若干所述的斜梁的底部浸入所述水池的水面，其顶部凸伸出所述水池的水面。
进一步地，若干所述的斜梁等间距平行设置在所述防坠件中心线的两侧，并且两侧的斜梁沿所述中心线对称。
进一步地，所述防坠件为不锈钢丝网或钢板网。
本实用新型与现有技术相比，有益效果在于：本实用新型的一种复合式等离子切割胎架，斜梁因倾斜设置在防坠件上，不仅可以支撑窄条工件切割后的零件，避免其掉入水池，而且不会因为切割机的切割轨迹与某一根斜梁重合而直接切伤斜梁，减少了因切割过程中损坏胎架而增加的生产成本；较小规格的零件会直接掉落在防坠件上，省去了操作人员打捞零件的工作，提高生产效率，同时，较大的切割废屑可以过滤在防坠件上，延缓了切割胎架下方水池内残渣的沉积速度，延长了池底清理的周期。
附图说明
图1是本实用新型实施例提供的一种复合式等离子切割胎架结构示意图
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
如图1所示，本实用新型实施例的一种复合式等离子切割胎架，所述胎架设置在数控切割机下方的水池内，且凸伸出所述水池的水面，其所述胎架包括防坠架1、防坠件2以及若干斜梁3，所述防坠件2设置在所述防坠架1上，若干所述的斜梁3横向地铺设在所述防坠件2上，并且，所述斜梁3的长度方向倾斜于数控切割机的切割轨道。
所述胎架还包括斜拉杆(未图示)，所述斜拉杆设置在相邻两根斜梁3之间，用于固定所述斜梁3。所述防坠件2为不锈钢丝网或钢板网，用于承载小规格零件和较大的切割废屑，防止其掉入数控切割机下方的水池内。
具体的，所述防坠架1包括支撑架11以及立柱12，所述支撑架11呈矩形，所述立柱12设置在所述支撑架11四角的下方，起支撑作用。所述防坠件2设置在所述防坠架1的支撑架11上，所述防坠架1与所述防坠件2共同浸入到所述水池的水面下。
若干所述斜梁3等间距平行设置在所述支撑架11中心线的两侧，并且两侧的斜梁3沿所述中心线对称。若干所述的斜梁3的底部浸入所述水池的水面，其顶部凸伸出所述水池的水面，以承载窄条零件。
当工件需要切割时，将工件放置在所述斜梁3上，所述切割机的切割头根据切割轨道对所述工件进行切割。如果需要切割的工件为窄条状，则切割后的窄条零件会承载在所述斜梁3上；如果切割后的零件为小规格零件，则该小规格零件会穿过相邻两根斜梁3之间的空隙掉落在斜梁3下方的防坠件2上，从而避免了切割后的零件掉入水池，节省了操作人员打捞零件的工作，而且防坠件2有效防止切割废屑陈入水池，延长了池底清理的周期，提高生产效率。同时，因斜梁3的长度方向与切割轨道倾斜，当所述切割头切割工件时会均匀切伤多根斜梁3，但不会只切割在同一根斜梁3上而导致胎架的损坏，从而降低了因切割过程中损坏胎架而增加的生产成本。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。