1.一种用于激光加工系统的设备(100、600)，其包括：
光学元件(110、610)，所述光学元件布置在所述设备的射束路径中；和
温度探测器组件(115、620)，所述温度探测器组件具有探测器元件矩阵，所述探测器元件矩阵配置成用于测量所述光学元件(110、610)的二维温度分布。
2.根据权利要求1所述的设备(100、600)，其中，所述温度探测器组件(115、620)包括至少一个热电堆。
3.根据权利要求1或2所述的设备(100)，还包括：
至少一个加热装置(120)，所述加热装置布置在所述光学元件(110)上，用于给所述光学元件(110)供应热能。
4.根据权利要求3所述的设备(100)，其中，所述至少一个加热装置(120)布置在所述光学元件(110)的边缘区域处，用于给所述边缘区域供应热能。
5.根据权利要求3或4所述的设备(100)，其中，所述至少一个加热装置具有多个加热元件(122)，尤其其中所述多个加热元件(122)形成由多个部段组成的加热环。
6.根据权利要求3或4所述的设备(100)，其中，所述至少一个加热装置包括单独的加热环(400)。
7.根据权利要求3至6中任一项所述的设备(500)，其中，所述至少一个加热装置(520)包括：
基部(524)；和
多个热源(522)，所述热源布置在所述基部(524)上。
8.根据权利要求3至7中任一项所述的设备(500)，其还具有热耦合元件(530)，用于将所述热源(524)与所述光学元件(510)热耦合。
9.根据权利要求7或8所述的设备(500)，其中，所述热源(522)是电阻。
10.根据权利要求3至9中任一项所述的设备(500)，其还包括用于所述光学元件(510)的保持部(540)，其中，所述保持部(540)布置在所述至少一个加热装置(520)和所述光学元件(510)之间并且配置成用于提供所述光学元件(510)和所述至少一个加热装置(520)之间的热接触。
11.根据权利要求3至10中任一项所述的设备(100)，其还包括控制装置(130)，所述控制装置(130)配置成用于控制所述至少一个加热装置(120)，使得所述光学元件(110)具有预定的温度分布。
12.根据权利要求11所述的设备(100)，其中，所述控制装置(130)配置成用于通过供应热能来调节所述光学元件(110)的焦点。
13.根据权利要求1至12中任一项所述的设备(100)，其还包括驱动装置(630)和控制装置(640)，所述驱动装置配置成用于沿着光学轴线调节所述光学元件(610)的位置，所述控制装置用于控制所述驱动装置(630)，以通过基于所测量的温度分布调节所述光学元件(610)的位置来调节所述光学元件(610)的焦点。
14.根据权利要求1至13中任一项所述的设备(100、600)，其中，所述光学元件包括透镜、透镜系统、聚焦透镜、准直透镜、发散透镜、射束成形光学器件、防护玻璃和分束器中的至少一个。
15.一种激光加工系统(900)，其包括：
用于提供激光射束的激光源；和
根据权利要求1至14中任一项所述的设备，其中，光学元件布置在所述激光加工系统(900)的射束路径中。
16.一种用于调节激光加工系统中的光学元件(110、610)的焦点位置的方法，其包括：
借助探测器元件矩阵测量所述光学元件(110、610)的二维温度分布。
17.根据权利要求16所述的方法，其还包括选择性地加热所述光学元件(110)的边缘区域，以调节焦点位置。
18.根据权利要求16或17所述的方法，其还包括：
通过选择性地加热，为所述光学元件(110)提供基本均匀的温度分布。
19.根据权利要求16至18中任一项所述的方法，其还包括基于所测量的温度分布来沿着光学轴线调节所述光学元件(610)的位置。