技术总结
本实用新型涉及一种光学装置及激光切割设备。光学装置包括壳体；多个透镜组，设于壳体内，且多个透镜组沿光学装置的光轴依次排布，多个透镜组中的至少一个透镜组为活动透镜组；以及调节件，设于壳体上，且调节件与壳体在光轴上的位置相对固定，转动调节件至少能够控制一个活动透镜组沿光轴往返移动，以校正经多个透镜组后入射至加工材料内部的激光于会聚时所产生的球差。通过转动调节件以改变透镜组之间的相对距离，改变进入透镜组的光线的折射方向，使进入材料中的光束聚焦于一点，而不是形成面积较大的弥散斑，从而减小球差，提升聚焦区域中光束的功率密度，使材料中的光束聚焦区域能够更易形成改质层，提升切割效果及切割效率。
技术研发人员：杨赫;范小贞;柳啸;杨深明;李福海;陈畅;曹园德;卢建刚;尹建刚;高云峰
受保护的技术使用者：大族激光科技产业集团股份有限公司
技术研发日：2019.04.18
技术公布日：2020.02.11