本发明涉及一种蚀刻装置及显示装置的制造方法。
背景技术：
：：随着信息通信技术的飞跃发展和市场的扩大，平板显示元件(flatpaneldisplay)作为显示元件备受瞩目。这种平板显示元件(flatpaneldisplay)有液晶显示装置(liquidcrystaldisplay)、等离子体显示装置(plasmadisplaypanel)、有机发光二极管显示器(organiclightemittingdiodedisplay)等。其中，有机发光二极管显示器(oleddisplay)由于具有较快的响应速度、比现有的液晶显示装置(lcd)低的功耗、轻量性、不需要额外的背光(backlight)装置而可以制成超薄型、高亮度等的非常优异的优点，作为下一代显示元件备受瞩目。这种有机发光二极管显示器(oleddisplay)可以通过图案(pattern)形成工艺、有机薄膜沉积工艺、蚀刻工艺、封装工艺以及粘贴沉积有有机薄膜的基板和经封装工艺的基板的附着工艺等而生产为产品。另外，在各种工艺中，蚀刻工艺是一种通过在基板的表面蚀刻不需要部分而获得所需的模样的工艺。技术实现要素：本发明提供一种蚀刻装置，该蚀刻装置通过使激光照射单元位于真空腔室上部，不会受到从对象基板分离并向真空腔室下部下落的颗粒的影响，从而增加蚀刻工艺的效率。本发明提供一种利用蚀刻装置的显示装置的制造方法，该蚀刻装置通过使激光照射单元位于真空腔室上部，不会受到从对象基板分离并向真空腔室下部下落的颗粒的影响，从而增加蚀刻工艺的效率。本发明的问题不限于上面提到的问题，本领域技术人员根据以下的记载应能清楚理解未提到的其他技术问题。用于解决上述问题的本发明的一实施例的蚀刻装置包括：真空腔室，作为在内部对对象基板执行蚀刻工艺的真空腔室，在上表面设有透光窗；基板移送单元，设置在所述真空腔室的内部，并且在下部安置所述对象基板；以及至少一个激光模块，设置在所述真空腔室的外部，并且包括激光照射单元，所述激光照射单元通过所述透光窗向所述真空腔室的内部照射激光束(laserbeam)来执行所述蚀刻工艺。所述激光模块可进一步包括第一光学系统、第二光学系统以及扫描器，所述第一光学系统及所述第二光学系统通过改变所述激光照射单元射出的激光束的路径来将激光束传递给所述扫描器，所述扫描器朝向所述对象基板射出所述激光束。所述第一光学系统可包括用于反射所述激光束的第一镜部，所述第二光学系统可包括用于反射所述激光束的第二镜部。所述基板移送单元可包括工作台单元和夹紧单元，所述对象基板安置在所述夹紧单元的下表面上。所述夹紧单元可包括贯穿所述夹紧单元的至少一个光束透过用孔。所述工作台单元可包括工作台上板及工作台下板，所述工作台上板包括：框架形状的上板边缘部；以及上板窗口，由所述上板边缘部包围且用于使所述激光束透过。所述工作台下板可包括：下板边缘部，设置在第一方向的两侧；下板台阶部，设置在与所述第一方向交叉的第二方向的两侧；以及下板连接部，连接所述下板边缘部和所述下板台阶部，在所述下板边缘部与所述下板台阶部之间具有台阶。所述下板台阶部可位于所述下板边缘部的上部。所述蚀刻装置可进一步包括光学系统平台，所述光学系统平台设置在所述真空腔室的外部并包围所述真空腔室。所述光学系统平台可包括：下部支撑台，设置在所述真空腔室的下部；上部架桥，设置在所述真空腔室的上部；以及平台连接部，连接所述下部支撑台和所述上部架桥。所述激光模块可设置在所述上部架桥上。所述蚀刻装置可进一步包括检查用光学单元，所述检查用光学单元设置在所述真空腔室的内部且用于检查所述对象基板。所述检查用光学单元可位于对象基板的下部。用于解决上述问题的本发明的一实施例的显示装置的制造方法包括以下步骤：向真空腔室的内部放入对象基板，所述真空腔室在上表面设有透光窗，所述对象基板包括多个像素和设置在每个所述像素中的发光元件；移送所述对象基板，并并将其安装在基板移送单元的下部；以及通过所述透光窗向所述对象基板照射设置在所述真空腔室的外部的激光照射单元射出的激光束(laserbeam)，对所述对象基板执行蚀刻工艺。所述基板移送单元可由工作台单元及夹紧单元构成，所述夹紧单元包括贯穿所述夹紧单元的至少一个光束透过用孔，在所述夹紧单元的下表面上安置所述对象基板。所述工作台单元可包括工作台上板及工作台下板，所述工作台上板包括：框架形状的上板边缘部；以及上板窗口，由所述上板边缘部包围且用于使激光束透过。所述工作台下板可包括：下板边缘部，设置在第一方向的两侧；下板台阶部，设置在与所述第一方向交叉的第二方向的两侧；以及下板连接部，连接所述下板边缘部和所述下板台阶部，在所述下板边缘部与所述下板台阶部之间具有台阶。所述下板台阶部可位于所述下板边缘部的上部。该方法可进一步包括对所述对象基板执行蚀刻后对所述对象基板进行检查的步骤，检查对象基板的检查用光学单元可在经过所述下板台阶部的下部的同时，通过所述下板边缘部之间。蚀刻所述对象基板的步骤可进一步包括：形成贯穿所述对象基板的一部分的孔的步骤。其他实施例的具体内容包括在详细说明及附图中。本发明可以提供一种蚀刻装置，该蚀刻装置通过使激光照射单元位于真空腔室上部，不会受到从对象基板分离并向真空腔室下部下落的颗粒的影响，从而增加蚀刻工艺的效率。本发明可以提供一种利用蚀刻装置的显示装置的制造方法，该蚀刻装置通过使激光照射单元位于真空腔室上部，不会受到从对象基板分离并向真空腔室下部下落的颗粒的影响，从而增加蚀刻工艺的效率。实施例的效果不限于以上例示的内容，本说明书包括更加多样的效果。附图说明图1是本发明的一实施例的蚀刻装置的立体图。图2是沿图1的ii-ii'线剖切的剖视图。图3是本发明的一实施例的光学系统平台的立体图。图4是放大图示图2的a区域的放大图。图5是放大图示图2的b区域的放大图。图6是放大图5的c区域的放大图。图7是本发明的一实施例的经结合的基板移动单元和对象基板及检查用光学单元的立体图。图8是图7的侧视图。图9是示出本发明的一实施例的工作台单元、夹紧单元及对象基板之间的结合关系的分解立体图。图10是本发明的一实施例的夹紧单元的立体图。图11是从上部观察本发明的一实施例的蚀刻装置的俯视图。图12是沿图11的xii-xii'线剖切的剖视图。图13是示出利用本发明的一实施例的蚀刻装置的显示装置的制造方法的顺序图。图14至图16是示出利用本发明的一实施例的蚀刻装置的显示装置的制造方法的剖视图。图17是利用本发明的一实施例的蚀刻装置制造的显示装置的立体图。图18是沿图17的xviii-xviii'线剖切的剖视图。图19是本发明的另一实施例的蚀刻装置的立体图。图20是沿图19的xx-xx'线剖切的剖视图。图21是本发明的又一实施例的蚀刻装置的剖视图。具体实施方式参照附图的同时参照详细后述的实施例，本发明的优点、特征及实现这些的方法将会变得清楚。但本发明并不限定于以下公开的实施例，而是以彼此不同的各种形式实现，本实施例只是为了使本发明的公开完整且向本发明所属
技术领域：
：的技术人员完整地告知发明的范围而提供的，本发明只由权利要求的范围所限定。所谓元件(elements)或层在另一元件或层“上(on)”包括该元件或层直接在另一元件或层上的情况和中间设置有其他层或其他元件的情况。在说明书全文中相同的附图标记表示相同的结构要素。虽然第一、第二等用于描述各种结构要素，但毋庸置疑这些结构要素并不限于这些术语。这些术语只是用于将一个结构要素与其他结构要素区别开。因此，下面提到的第一结构要素在本发明的技术思想内当然也可以是第二结构要素。下面，参照附图对具体实施例进行说明。图1是本发明的一实施例的蚀刻装置的立体图。图2是沿图1的ii-ii'线剖切的剖视图。参照图1及图2，本发明的一实施例的蚀刻装置10可包括：真空腔室100，在内部对对象基板执行蚀刻工艺；激光光学系统200，设置在真空腔室100的外部，通过向真空腔室100内的对象基板照射(irradiation)激光束l(laserbeam)而执行蚀刻工艺；以及光学系统平台300，设置有所述激光光学系统200。在真空腔室100的内部可设置有工作台单元120、夹紧单元130、颗粒捕集单元140及检查用光学单元150。虽然未图示，但对象基板20可通过机械臂(robotarm)等从真空腔室100的外部被移送到真空腔室100的内部。移送到真空腔室100的内部的对象基板20可与夹紧单元130及工作台单元120固定(attach)。在对象基板20上设置有夹紧单元130，在夹紧单元130上设置有工作台单元120。即，夹紧单元130可位于对象基板20与工作台单元120之间。在附图中，第一方向dr1表示被光学系统平台300的平台连接部330覆盖一部分的真空腔室100的侧面所延伸的方向，第二方向dr2表示未被光学系统平台300的平台连接部330覆盖的真空腔室100的侧面所延伸的方向。此外，第三方向dr3表示真空腔室100的厚度方向。第一方向dr1和第二方向dr2彼此垂直交叉，第三方向dr3是与第一方向dr1及第二方向dr2所处的平面交叉的方向，与第一方向dr1及第二方向dr2均垂直交叉。除非有其他定义，否则在本说明书中以第三方向dr3为基准表示的“上部”、“上表面”及“上侧”是指以对象基板20为基准的夹紧单元130侧，“下部”、“下表面”及“下侧”是指以对象基板20为基准的夹紧单元130的相反侧。如图1及图2所示，真空腔室100是箱(box)型结构物，在真空腔室100内部可对对象基板20进行蚀刻工艺。即，真空腔室100可提供对对象基板20进行蚀刻工艺的空间。在真空腔室100的一侧壁面上可设置有供基板出入的闸阀110。在真空腔室100的上表面上设置有第一腔室窗口101a及第二腔室窗口101b。第一腔室窗口101a及第二腔室窗口101b是可以使特定波长的激光束l通过的透光窗，来自设置在真空腔室100外部的激光照射单元的激光束l可以通过真空腔室100的第一腔室窗口101a及第二腔室窗口101b入射到真空腔室100的内部。在本实施例中，在真空腔室100的上表面上可设置有多个腔室窗口。此外，在真空腔室100的上表面上可进一步设置有腔室窗口保护部(未图示)，该腔室窗口保护部具备遮蔽第一腔室窗口101a及第二腔室窗口101b的保护窗口(未图示)。并且，虽然未图示，但在真空腔室100的底面上可进一步设置有检查用腔室窗口(未图示)。检查用腔室窗口(未图示)是与第一腔室窗口101a及第二腔室窗口101b同样可以使特定波长的激光束l通过的窗口，通过真空腔室100内部的激光束l可以通过检查用腔室窗口(未图示)传递到设置在真空腔室100外部的激光输出测定单元(未图示)。在真空腔室100的内部可设置有基板移送单元stu。基板移送单元stu在真空腔室100的内部移送基板。基板移送单元stu包括：夹紧单元130，用于固定(attach)装载到真空腔室100内部的对象基板20；工作台单元120，设置在夹紧单元130的上表面上；以及工作台移动单元(未图示)。工作台单元120在夹紧单元130及对象基板20结合到工作台单元120的下部的状态下进行移动或旋转，从而可以调整待进行蚀刻工艺的对象基板20的位置及方向。由此，可以使从激光照射单元射出的激光束l到达对象基板20的所需区域。在所述工作台单元120的下表面上可设置有夹紧单元130，夹紧单元130用于安置装载到真空腔室100的内部的基板。夹紧单元130设置在工作台单元120的下部并可以与对象基板20的上表面部接触，并且可以使对象基板20与工作台单元120结合。在本实施例中，夹紧单元130可使用静电夹盘(electrostaticchuck，esc)，但并不限于此，可以固定基板的各种夹紧装置可用作夹紧单元130。关于对工作台单元120及夹紧单元130的详细说明将在后面描述。并且，虽然未图示，但在真空腔室100的内部可进一步设置有工作台移动单元(未图示)，该工作台移动单元与工作台单元120连接并支撑工作台单元120。工作台移动单元(未图示)可包括：工作台用导轨(未图示)，与工作台单元120连接并引导工作台单元120的移动；以及驱动部(未图示)，通过电磁力使工作台单元120移动。驱动部(未图示)包括工作台用第二磁性体(未图示)，该工作台用第二磁性体以与设置于工作台单元120的工作台用第一磁性体(未图示)相互作用而对工作台单元120产生利用电磁力的推进力的方式沿工作台用导轨(未图示)的长度方向设置。工作台用第一磁性体由永久磁铁形成，工作台用第二磁性体由电磁铁形成。在对象基板20的下部可设置有颗粒捕集单元140。在利用激光照射单元的蚀刻工艺时，颗粒捕集单元140可以捕集从对象基板20分离的颗粒p。即，通过捕集从对象基板20分离的颗粒p可以防止所述颗粒p堆积在腔室内部，并且可以维持真空腔室100的内部状态，以在真空腔室100内部可以顺畅地进行蚀刻工艺。在真空腔室100的内部可设置有检查用光学单元150。检查用光学单元150设置在真空腔室100的下侧并检查基板。在真空腔室100的外部可设置有光学系统平台300。为了对光学系统平台300进行详细说明，进一步参照图3。图3是本发明的一实施例的光学系统平台的立体图。在图3中图示了蚀刻装置10的光学系统平台300。光学系统平台300可包括：下部支撑台310，位于真空腔室100的下部并支撑真空腔室100；上部架桥320，位于真空腔室100的上部并设置有激光模块；以及平台连接部330，位于真空腔室100的侧面并连接所述下部支撑台310和所述上部架桥320。即，光学系统平台300的下部支撑台310、上部架桥320及平台连接部330可包围真空腔室100。此外，下部支撑台310、上部架桥320及平台连接部330可分别独立形成并结合，但并不限于此，也可以一体形成。光学系统平台300可由花岗岩(granite)等形成，但并不限于此。光学系统平台300的下部支撑台310位于真空腔室100的下部，并且执行支撑真空腔室100的作用，可包括如激光输出检查单元(未图示)的额外的结构。下部支撑台310的俯视形状可与真空腔室100的俯视形状大致相似，但并不限于此。光学系统平台300的平台连接部330可从下部支撑台310突出并向上部延伸。向上部延伸的平台连接部330可覆盖真空腔室100的侧面。平台连接部330的下侧可与下部支撑台310的侧面中的一部分结合，平台连接部330在第一方向dr1上的宽度可小于与平台连接部330连接的下部支撑台310的第二方向dr2的两侧面在第一方向dr1上延伸的长度。并且，平台连接部330的下部可与所述两侧面的中央部结合，但并不限于此。平台连接部330的上侧可与光学系统平台300的上部架桥320的下表面结合，平台连接部330可起到支撑上部架桥320的作用。光学系统平台300的上部架桥320可与平台连接部330的上侧连接，并且设置在真空腔室100的上侧。上部架桥320可与真空腔室100隔开规定距离设置，但并不限于此。上部架桥320可覆盖真空腔室100的上侧一部分，上部架桥320在第一方向dr1上延伸的宽度可小于真空腔室100的上表面在第一方向dr1上延伸的宽度。上部架桥320可位于真空腔室100的上表面的中央附近，但并不限于此。在光学系统平台300的下部支撑台310的下表面及平台连接部330的第二方向dr2的外侧可包括由规定图案形成的多个槽。但并不限于此，例如，在下部支撑台310的下表面上可包括多个三角形形状的第一槽图案hp1，在平台连接部330的外侧面上可包括由三角形形状和四边形形状构成的第二槽图案hp2。通过使下部支撑台310及平台连接部330包括第一槽图案hp1及第二槽图案hp2，可以减少光学系统平台300的整体重量来使蚀刻装置10的移动及组装容易，并且可以减少形成光学系统平台300所需的材料来降低材料成本。并且，即使下部支撑台310及平台连接部330包括第一槽图案hp1及第二槽图案hp2，也由于在各多个槽之间留有维持规定厚度的部分，因此可以维持对光学系统平台300的振动的刚性。因此，设置在光学系统平台300的上部架桥320上的激光模块即使从外部被传递振动也不会晃动，可以向对象基板20的所需区域传递激光束l。在光学系统平台300的上部架桥320上可设置有激光光学系统200。为了详细说明激光光学系统200及激光束l的路径，参照图4及图5。图4是放大图示图2的a区域的放大图。图5是放大图示图2的b区域的放大图。参照图1至图5，激光光学系统200可包括第一激光模块200a及第二激光模块200b。激光光学系统200可位于真空腔室100的上部，并且与真空腔室100隔开规定距离。此外，激光光学系统200设置在位于真空腔室100内的对象基板20、夹紧单元130及工作台单元120的上部，在激光光学系统200与对象基板20之间可设置有工作台单元120和夹紧单元130。第一激光模块200a可设置在上部架桥320的第一方向dr1的一侧边上，第二激光模块200b可设置在上部架桥320的第一方向dr1的另一侧边上。第一激光模块200a和第二激光模块200b分别可以是两个以上的多个。多个第一激光模块200a可分别维持规定距离并在第二方向dr2上隔开设置，多个第二激光模块200b可分别维持规定距离并在第二方向dr2上隔开设置。在本发明的一实施例的蚀刻装置10中，第一激光模块200a及第二激光模块200b被图示为在上部架桥320的第一方向dr1的一侧及另一侧分别设置为四个，但并不限于此。第一激光模块200a可包括：第一激光照射单元210a，用于射出激光束l；第一光学系统220a和第二光学系统230a，用于改变射出的激光束l的路径；以及第一扫描器240a，用于将从第一激光照射单元210a接收的激光束l传递到对象基板20的所需位置上。第二激光模块200b可包括：第二激光照射单元210b，用于射出激光束l；第三光学系统220b和第四光学系统230b，用于改变激光束l的路径；第二扫描器240b，用于将从第二激光照射单元210b接收的激光束l传递到对象基板20的所需位置上。由于蚀刻装置10具备可以射出激光束l的第一激光模块200a及第二激光模块200b，因此蚀刻装置10可以通过向对象基板20的更多区域照射激光束l来进行蚀刻或剥离。并且，即使第一激光模块200a和第二激光模块200b中的一部分不能正常工作，如果剩余部分正常工作，则可以通过对象基板20的移动来向对象基板20的所需部分照射激光束l。即，可以较少受到第一激光模块200a或第二激光模块200b的故障影响。其结果，通过在光学系统平台300的上部架桥320的第一方向dr1的一侧及另一侧分别设置第一激光模块200a及第二激光模块200b，可以提高工艺效率。如上所述，第一激光模块200a和第二激光模块200b由实质上相同的结构构成，所述结构可以起到实质上相同的作用。即，以下在没有另行说明时以第一激光模块200a为基准进行说明，当然所述说明也可以适用于第二激光模块200b。第一激光照射单元210a可射出可以蚀刻对象基板20的激光束l。第一激光照射单元210a朝向第一光学系统220a射出所述激光束l。第一激光照射单元210a可设置在上部架桥320的上表面上。第一光学系统220a可以将从第一激光照射单元210a射出的激光束l的路径改变为朝向第二光学系统230a。即，第一光学系统220a可改变向第一方向dr1传递的激光束l的路径来引导激光束l朝向第三方向dr3的下侧。第一光学系统220a可被设置为沿第一方向dr1与第一激光照射单元210a隔开规定距离。第二光学系统230a可以将从第一光学系统220a接收的激光束l的路径改变为朝向第一扫描器240a。即，第二光学系统230a可改变向第三方向dr3的下侧传递的激光束l的路径来引导激光束l朝向第一方向dr1的另一侧。第二光学系统230a可被设置在第一光学系统220a的下部并与第一光学系统220a隔开规定距离。为了改变如上所述的激光束l的路径，在第一光学系统220a中可设置有用于反射激光束l的第一镜部(未图示)，在第二光学系统230a中也可设置有用于反射激光束l的第二镜部(未图示)。在本实施例中，第一镜部(未图示)及第二镜部(未图示)可具备一个或多个激光用反射镜。本实施例的第一光学系统220a及第二光学系统230a中的至少一个可包括角度调节部(未图示)，该角度调节部用于调节第一镜部(未图示)或第二镜部(未图示)的设置角度。角度调节部(未图示)包括：旋转轴(未图示)，可旋转地设置在第一光学系统220a和/或第二光学系统230a的内部并结合第一镜部(未图示)和/或第二镜部(未图示)；以及操作部(未图示)，连接到旋转轴(未图示)并使旋转轴(未图示)旋转。用户可以通过操作部(未图示)使旋转轴(未图示)旋转来调节第一镜部和/或第二镜部(未图示)的设置角度。这种角度调节部(未图示)通过调节第二镜部(未图示)的设置角度来调节向第一扫描器240a反射的激光束l的反射角度。如此，本实施例的第一光学系统220a和/或第二光学系统230a，由于具备可以调节第一镜部(未图示)和/或第二镜部(未图示)的设置角度的角度调节部(未图示)，因此即使从第一激光照射单元210a射出的激光束l的射出角度发生改变，也可以通过调节从第一光学系统220a和/或第二光学系统230a反射的激光束l的反射角度来向第一扫描器240a简便地传递激光束l。第一扫描器240a可以通过第一光学系统220a及第二光学系统230a接收从第一激光照射单元210a射出的激光束l，并且可以改变接收的激光束l的路径。第一扫描器240a朝向下部射出接收的激光束l，所述激光束l通过真空腔室100的第一腔室窗口101a向真空腔室100内部入射。接着，入射到真空腔室100内部的激光束l可以通过工作台单元120及夹紧单元130到达对象基板20。即，第一扫描器240a起到调节激光束l以使激光束l到达对象基板20的所需位置的作用。第一扫描器240a可与第二光学系统230a隔开规定距离，并且位于第二光学系统230a的第一方向dr1的另一侧。此外，第一扫描器240a可设置在光学系统平台300的上部架桥320的下部。即，第一扫描器240a可设置在光学系统平台300的上部架桥320与真空腔室100之间。第一扫描器240a可沿第三方向dr3与真空腔室100的第一腔室窗口101a重叠。到达对象基板20的激光束l可以蚀刻对象基板20。随着蚀刻对象基板20，颗粒p可能从对象基板20剥离，所述颗粒p可以因重力而朝向真空腔室100的下部下落。下面，为了对对象基板20进行详细说明而参照图6。图6是放大图5的c区域的放大图。图6图示对象基板20的层叠结构。参照图6，对象基板20可包括下部部件21、显示面板22、触摸部件23、偏光部件24及覆盖窗25，可按顺序层叠下部部件21、显示面板22、触摸部件23、偏光部件24及覆盖窗25。在各层叠部件之间可设置如粘附层或粘结层的至少一个结合部件来结合相邻的层叠部件。但并不限于此，在各层之间也可进一步设置有其他层，也可省略各层叠部件中的一部分。显示面板22是用于显示画面或影像的面板，作为显示面板22的例子，不仅可包括有机发光显示面板(oled)、无机发光显示面板(inorganicel)、量子点发光显示面板(qed)、微型led显示面板(micro-led)、纳米led显示面板(nano-led)、等离子体显示面板(pdp)、场发射显示面板(fed)、阴极射线显示面板(crt)等的自发光显示面板，还可包括液晶显示面板(lcd)、电泳显示面板(epd)等的受光显示面板。以下，作为显示面板以有机发光显示面板为例进行说明，除非需要特别区分，否则将简单地将应用到以上实施例的有机发光显示面板简称为显示面板22。但是，实施例并不限于有机发光显示面板，在共享技术思想的范围内也可应用上述列举的或本
技术领域：
：公知的其他显示面板。显示面板22可包括基板sub1、缓冲层sub2、半导体层act、第一绝缘层221、第一栅极导电层230、第二绝缘层222、第二栅极导电层240、第三绝缘层223、数据导电层250、第四绝缘层224、阳极电极260、包括暴露阳极电极260的开口部的堤岸层226、设置在堤岸层226的开口部内的发光层270、设置在发光层270和堤岸层226上的阴极电极280以及设置在阴极电极280上的薄膜封装层290。虽然上述各层可由单一膜形成，但也可由包括多个膜的层叠膜形成。在各层之间也可进一步设置有其他层。基板sub1可以支撑设置在其上的各层。基板sub1也可由高分子树脂等的绝缘物质或者如玻璃或石英等的无机物质构成。在基板sub1上设置有缓冲层sub2。缓冲层sub2可包括硅氮化物、硅氧化物或硅氧氮化物等。在缓冲层sub2上设置有半导体层act。半导体层act构成像素的薄膜晶体管的沟道。在半导体层act上设置有第一绝缘层221。第一绝缘层221可以是具有栅极绝缘功能的第一栅极绝缘膜。在第一绝缘层221上设置有第一栅极导电层230。第一栅极导电层230可包括像素px(参见图17)的薄膜晶体管的栅电极gat、与该栅电极gat连接的扫描线、及维持电容器第一电极ce1。在第一栅极导电层230上可设置有第二绝缘层222。第二绝缘层222可以是层间绝缘膜或第二栅极绝缘膜。在第二绝缘层222上设置有第二栅极导电层240。第二栅极导电层240可包括维持电容器第二电极ce2。在第二栅极导电层240上设置有第三绝缘层223。第三绝缘层223可以是层间绝缘膜。在第三绝缘层223上设置有数据导电层250。数据导电层250可包括像素px的薄膜晶体管的第一电极sd1和第二电极sd2。薄膜晶体管的第一电极sd1和第二电极sd2可通过贯穿第三绝缘层223、第二绝缘层222及第一绝缘层221的第一接触孔与半导体层210的源区及漏区电连接。在数据导电层250上设置有第四绝缘层224。第四绝缘层224覆盖数据导电层250。第四绝缘层224可以是过孔层。在第四绝缘层224上设置有阳极电极260。阳极电极260可以是设置在每个像素px中的像素电极。阳极电极260可通过贯穿第四绝缘层224的第二接触孔与薄膜晶体管的第二电极sd2连接。阳极电极260可具有层叠如氧化铟锡(indium-tin-oxide：ito)、氧化铟锌(indium-zinc-oxide：izo)、氧化锌(zincoxide：zno)、氧化铟(induimoxide：in2o3)等的功函数高的物质层以及如银(ag)、镁(mg)、铝(al)、铂(pt)、铅(pd)、金(au)、镍(ni)、钕(nd)、铱(ir)、铬(cr)、锂(li)、钙(ca)或它们的混合物等的反射性物质层而成的层叠膜结构，但并不限于此。功函数高的层可设置在比反射性物质层高的层，从而靠近发光层270设置。阳极电极260可具有ito/mg、ito/mgf、ito/ag、ito/ag/ito的多层结构，但并不限于此。在阳极电极260上可设置有堤岸层226。堤岸层226可被设置在阳极电极260上，并且包括暴露阳极电极260的开口部。可通过堤岸层226及其开口部划分发光区域和非发光区域。在堤岸层226上可设置有间隔件227。间隔件227可起到维持与设置在上部的结构物之间的间隔的作用。在暴露堤岸层226的阳极电极260上设置有发光层270。发光层270可包括有机物质层。发光层270的有机物质层包括有机发光层，并且可进一步包括空穴注入/传输层和/或电子注入/传输层。在发光层270上可设置有阴极电极280。阴极电极280可以是不区分像素px而整体设置的公共电极。阳极电极260、发光层270及阴极电极280可构成有机发光元件。阴极电极280可包括如li、ca、lif/ca、lif/al、al、mg、ag、pt、pd、ni、au、nd、ir、cr、baf、ba或它们的化合物或混合物(例如，ag与mg的混合物等)的功函数小的物质层。阴极电极280可进一步包括设置在上述功函数小的物质层上的透明金属氧化物层。在阴极电极280的上部设置有薄膜封装层290，薄膜封装层290包括第一无机膜291、第一有机膜292及第二无机膜293。在薄膜封装层290的端部，第一无机膜291和第二无机膜293可彼此相接。第一有机膜292可被第一无机膜291和第二无机膜293密封。第一无机膜291及第二无机膜293分别可包括硅氮化物、硅氧化物或硅氧氮化物等。第一有机膜292可包括有机绝缘物质。在显示面板22上可设置有触摸部件23。触摸部件23可以感测触摸输入。如图所示，触摸部件23可被提供为与显示面板22不同的面板或膜并附着在显示面板22上，但也可在显示面板22的内部以触摸层的形态提供。在触摸部件23上可设置有偏光部件24。偏光部件24使通过的光偏振。偏光部件24可起到减少外部光反射的作用。在触摸部件23上可设置有覆盖窗25。覆盖窗25起到覆盖显示面板22来进行保护的作用。覆盖窗25可由透明物质构成。覆盖窗25例如可包括玻璃或塑料。在显示面板22的下部可设置有下部部件21。下部部件21可起到遮光作用。即，下部部件21可以阻断光从外部朝向显示面板22进入。并且，下部部件21可执行遮光功能以外的冲击吸收功能等。显示面板22可朝向上部射出光，但不限于此。即，在从显示面板22射出的光的路径上可设置有夹紧单元130、工作台单元120及射出激光的激光光学系统200。用于蚀刻对象基板20的激光束l可以从对象基板20的上部朝向对象基板20传递，并且对对象基板20的层叠部件中的至少一部分进行蚀刻或剥离(lift-off)。在该过程中，颗粒(particle)p可能从蚀刻或剥离的层叠部件剥离。从对象基板20剥离而分离的颗粒p朝向对象基板20的下部下落。即，通过将射出激光束l的第一激光模块200a设置在对象基板20的上部，从而不会在激光束l传递的路径上层叠从对象基板20剥离的颗粒p。由此，即使持续进行蚀刻工艺，用于蚀刻对象基板20的激光束l也不会受到从对象基板20剥离的颗粒p的影响。即，由于可以防止因颗粒p导致的激光束l的折射、经时变化及能量密度变化等，因此可以防止实际加工的区域的加工质量下降，并且可以防止蚀刻工艺的效率下降。如上所述，激光束l可以贯穿工作台单元120和夹紧单元130到达对象基板20。此外，为了判断是否在对象基板20的所需位置上进行蚀刻工艺，可设置检查用光学单元150。以下，为了说明工作台单元120、夹紧单元130及检查用光学单元150之间的关系而参照图7至图9。图7是本发明的一实施例的经结合的基板移动单元和对象基板及检查用光学单元的立体图。图8是图7的侧视图。图9是表示本发明的一实施例的工作台单元、夹紧单元及对象基板之间的结合关系的分解立体图。参照图7至图9，可依次设置有对象基板20、夹紧单元130及工作台单元120，在对象基板20的下部可设置有检查用光学单元150。工作台单元120的工作台上板121在俯视上可被形成为矩形形状，可由上板边缘部121a及被上板边缘部121a包围的上板窗口121b构成。上板边缘部121a可被形成为中央开放的框架形状，在上述开放的中央附近可设置有上板窗口121b。上板窗口121b的形状可与工作台上板121的形状相应，但并不限于此。从对象基板20的上部传递的激光束l可以透过工作台上板121的上板窗口121b并向工作台上板121的下部传递。工作台下板122可设置在工作台单元120的工作台上板121的下部。工作台下板122可由下板边缘部122a、下板台阶部122b及下板连接部122c构成。工作台下板122在俯视图上可被形成为中央开放的矩形的框架形状。此外，工作台下板122可在下板边缘部122a与下板台阶部122b之间具有台阶。即，下板边缘部122a和下板台阶部122b可具有彼此不同的高度，下板边缘部122a和下板台阶部122b通过下板连接部122c连接。如果进行详细说明，则下板边缘部122a可位于工作台下板122的第二方向dr2的两侧，下板边缘部122a沿第一方向dr1延伸，并且在第二方向dr2上具有规定的宽度。下板边缘部122a可在上板边缘部121a的下部与上板边缘部121a隔开规定的间隔。下板边缘部122a的第二方向dr2的宽度可大于上板边缘部121a的第二方向dr2的宽度，但并不限于此。下板台阶部122b可位于工作台下板122的第一方向dr1的两侧，下板台阶部122b沿第二方向dr2延伸，并且在第一方向dr1上具有规定的宽度。下板台阶部122b和下板边缘部122a可具有彼此不同的高度，下板台阶部122b可相较于下板边缘部122a位于上部。下板台阶部122b可位于工作台上板121的第一方向dr1的两侧边的外侧，下板台阶部122b可具有与工作台上板121相同的高度，但并不限于此。下板连接部122c可在下板边缘部122a与下板台阶部122b之间连接下板边缘部122a和下板台阶部122b。下板连接部122c可从下板边缘部122a的第一方向dr1的一侧及另一侧末端朝向下板边缘部122a的上部突出。下板连接部122c可在第一方向dr1上具有规定的宽度，下板连接部122c的第一方向dr1的宽度可与下板台阶部122b的第一方向dr1的宽度相同。如上所述，下板台阶部122b和下板边缘部122a可具有相当于下板边缘部122a及下板连接部122c的第三方向dr3的厚度之和的高度差。检查用光学单元150可经过下板台阶部122b的下部的同时，经过第二方向dr2两侧的下板连接部122c及下板边缘部122a之间。由此，可以减少检查用光学单元150与对象基板20之间的距离。由于检查用光学单元150与对象基板20之间的距离减少，因此可以使用工作距离(workingdistance)小的高分辨率透镜来检查对象基板20，并且可以提高对象基板20的检查精密度。如果进行详细说明，则检查用光学单元150可以通过由下板台阶部122b与下板边缘部122a的高度差形成的空间，该空间即为在下板台阶部122b的下部中两个下板连接部122c之间的空间。此时，由于检查用光学单元150可以穿过工作台下板122的两个下板边缘部122a之间，因此可以缩减位于工作台上板121和夹紧单元130的下表面上的对象基板20与检查用光学单元150之间的距离。即，尽管使用高分辨率透镜的检查用光学单元150的工作距离较小，也由于检查用光学单元150可以经过由如上所述的下板台阶部122b和下板边缘部122a的高度差形成的空间，因此可以获得高分辨率透镜所需的工作距离。由此，可以使用利用高分辨率透镜的检查用光学单元150，并且可以更精密地检查对象基板20。夹紧单元130可被设置在工作台单元120的下表面上，在所述夹紧单元130的下表面上可固定有对象基板20。为了详细说明夹紧单元130，参照图10至图12。图10是本发明的一实施例的夹紧单元的立体图。图11是从上部观察本发明的一实施例的蚀刻装置的俯视图，图12是沿图11的xii-xii'线剖切的剖视图。在图11及图12中，为了便于说明，只图示夹紧单元130、光学系统平台300的上部架桥320、第一激光模块200a的第一扫描器240a及第二激光模块200b的第二扫描器240b。参照图7至图12，夹紧单元130可被设置在工作台单元120的工作台上板121的下表面上，并且可被设置在工作台下板122的两个下板边缘部122a之间及两个下板台阶部122b之间。夹紧单元130可包括多个光束透过用孔bhl。所述光束透过用孔bhl可被夹紧单元130包围，并且在厚度方向上贯穿夹紧单元130。在本发明的一实施例中图示出在第一方向dr1上可以相互隔开排列有八个光束透过用孔bhl并且在第二方向dr2上相互隔开排列有四个光束透过用孔bhl，从而总计32个光束透过用孔bhl被设置在夹紧单元130上，但并不限于此，光束透过用孔bhl的数量及位置可以是多种多样。但是，沿第二方向dr2排列的光束透过用孔bhl的数量可与沿第二方向dr2排列的第一激光模块200a和/或第二激光模块200b的数量相同。在进行蚀刻工艺的过程中，夹紧单元130可以沿第一方向dr1移动，随着夹紧单元130的移动，夹紧单元130的光束透过用孔bhl与第一扫描器240a及第二扫描器240b可在第三方向dr3上重叠，第一扫描器240a及第二扫描器240b的位置可与夹紧单元130的光束透过用孔bhl的位置相互对应。并且，设置在夹紧单元130上的光束透过用孔bhl可均与设置在夹紧单元130的上表面上的工作台上板121的上板窗口121b重叠。由此，透过工作台上板121的上板窗口121b的激光束l可以通过夹紧单元130的光束透过用孔bhl并到达设置在夹紧单元130的下表面上的对象基板20。因此，尽管对象基板20安置在工作台单元120及夹紧单元130的下部，并且从工作台单元120、夹紧单元130及对象基板20的上部传递激光束l，从工作台单元120及夹紧单元130的上部传递的激光束l也可以贯穿工作台单元120及夹紧单元130到达对象基板20。以下，参照图13至图15，对利用所述蚀刻装置10的显示装置的制造方法进行说明。图13是示出利用本发明的一实施例的蚀刻装置的显示装置的制造方法的顺序图。图14至图16是示出利用本发明的一实施例的蚀刻装置的显示装置的制造方法的剖视图。参照图13至图16，首先，准备待蚀刻的对象基板20(s01)，并且将所述对象基板20插入到真空腔室100内(s02)。在将所述对象基板20从真空腔室100外部向真空腔室100内部移送时，可使用机械臂(robotarm)，但并不限于此。接着，插入到真空腔室100内的对象基板20被移送到包括工作台单元120及夹紧单元130的基板移送单元stu的下部，并且被安置在夹紧单元130的下表面上(s03)。在真空腔室100内，对象基板20被安置在基板移送单元stu的夹紧单元130的下表面上并被移送到激光光学系统200的下部。移送到激光光学系统200下部的对象基板20及基板移送单元stu通过工作台单元120被旋转，从而可以与激光光学系统200的第一扫描器240a及第二扫描器240b对准并使激光束l照射到对象基板20的所需部分。接着，激光束l被照射到与第一扫描器240a及第二扫描器240b对准的对象基板20上，从而对象基板20被蚀刻或剥离(s04)。可以从设置在光学系统平台300上的激光照射单元射出激光束l，所述激光束l可以通过第一光学系统220a及第二光学系统230a改变路径并朝向第一扫描器240a。朝向第一扫描器240a的激光束l的路径可以在第一扫描器240a内再次改变，从而传递方向被改变为朝向对象基板20，即朝向下部方向。对象基板20可以沿第一方向dr1移动，由此即使激光光学系统200被固定，激光束l也可以通过对象基板20的移动而到达对象基板20的所需区域。朝向对象基板20的激光束l可通过工作台单元120及夹紧单元130到达对象基板20。激光束l可被调节为具有特定波长，在对象基板20中蚀刻的层叠部件可根据该波长而不同。可根据特定波长，蚀刻或剥离对象基板20的层叠部件中的至少一部分。可根据蚀刻工艺仅剥离层叠部件中的一个部件，但并不限于此，不仅可蚀刻对象基板20的层叠部件中由特定波长剥离的一部分层叠部件，而且还可一同蚀刻设置在所述一部分层叠部件的下部的其他层叠部件。接着，由激光束l蚀刻或剥离后的对象基板20可再次向第一方向dr1的一侧移动。随着对象基板20的移动，对象基板20可经过设置在真空腔室100的底面上的检查用光学单元150的上部。在对象基板20经过检查用光学单元150的上部时，检查用光学单元150可检查对象基板20的蚀刻或剥离的区域(s05)。以下，参照图17及图18，对可以利用本发明的一实施例的蚀刻装置10制造的显示装置进行说明。图17是利用本发明的一实施例的蚀刻装置制造的显示装置的立体图。图18是沿图17的xviii-xviii'线剖切的剖视图。参照图17及图18，显示装置30可通过有效区域aar显示画面或影像，包括有效区域aar的各种装置可包含在显示装置30中。显示装置30的例子并不限于此，可包括如智能电话、手机、平板电脑、个人数字助理(personaldigitalassistant，pda)、便携式多媒体播放器(pmp，portablemultimediaplayer)、电视、游戏机、手表电子设备、头戴式显示器、个人计算机监视器、笔记本电脑，汽车导航仪、汽车仪表盘、数码相机、摄录像机、户外广告牌、电子屏、各种医疗装置、各种检查装置、冰箱或洗衣机等的包括有效区域aar的各种家电产品、物联网装置等。显示装置30包括有效区域aar和非有效区域nar。显示装置30的有效区域aar可包括显示区域。此外，在显示装置30具备触摸功能时，作为实现触摸输入感测的区域的触摸区域也可包含在有效区域aar中。非有效区域nar可包围有效区域aar的周边。非有效区域nar可包括不实现显示的非显示区域。非有效区域nar可包围有效区域aar的所有边，但并不限于此，在有效区域aar的四边中的至少一部分附近也可不设置非有效区域nar。显示装置30的边框区域可由非有效区域nar构成。显示装置30可包括至少一个孔hle。孔hle沿显示装置30的厚度方向与光学元件重叠设置，起到使光透过到光学元件的受光部的作用。孔hle可被设置在有效区域aar的内部，但并不限于此。孔hle可以是物理上贯穿的贯穿孔。孔hle可以物理贯穿下部部件21、显示面板22、触摸部件23及偏光部件24。随着孔hle物理贯穿所述层叠部件，从形成有孔hle的区域去除所述部件，可以改善该区域的光透射率。显示装置30可进一步包括包含受光部的光学元件ops。作为包含受光部的光学元件ops的例子，可列举照相机、透镜(聚光镜或光路引导镜等)、红外线传感器、虹膜识别传感器、照度传感器等的光学传感器等。光学元件ops的受光部的一部分或全部可位于孔hle内。显示装置30外部的光可通过覆盖窗25并通过覆盖窗25下部的孔hle入射到受光部。在覆盖窗25呈现出高透射率时，外部光可以通过上述光路到达光学元件ops的受光部而没有大的损失。以下，对蚀刻装置10的另一实施例进行说明。在以下实施例中，对与已说明的实施例相同的结构省略或简化说明，以区别为主进行说明。图19是本发明的另一实施例的蚀刻装置的立体图。图20是沿图19的ⅹⅹ-ⅹⅹ'线剖切的剖视图。参照图19及图20，本实施例的蚀刻装置10_1与图1的实施例的区别在于，本实施例的蚀刻装置10_1不仅包括第一激光模块200a及第二激光模块200b，还包括第三激光模块200c(包括第三激光照射单元210c、第五光学系统220c、第六光学系统230c和第三扫描器240c)和第四激光模块200d(包括第四激光照射单元210d、第七光学系统220d、第八光学系统230d和第四扫描器240d)。如果进行具体说明，则本实施例的激光光学系统200可进一步包括第一至第四激光模块200a、200b、200c、200d。此外，光学系统平台300可包括第一上部架桥320a和第二上部架桥320b，第一上部架桥320a和第二上部架桥320b被平台连接部330支撑，并且通过平台连接部330与下部支撑台310物理连接。第一激光模块200a和第二激光模块200b可被设置在第一上部架桥320a上，第三激光模块200c和第四激光模块200d可被设置在第二上部架桥320b上。第一激光模块200a可被设置在第一上部架桥320a的第一方向dr1的一侧，第二激光模块200b可被设置在第一上部架桥320a的第一方向dr1的另一侧。第三激光模块200c可被设置在第二上部架桥320b的第一方向dr1的一侧，第四激光模块200d可被设置在第二上部架桥320b的第一方向dr1的另一侧。第一至第四激光模块200a、200b、200c、200d分别可以是两个以上的多个，并且可以在第二方向dr2上相互隔开设置。在该情况下，射出可以蚀刻或剥离对象基板20的激光束l的第一至第四激光模块200a、200b、200c、200d也被设置在对象基板20的上部，从第一至第四激光模块200a、200b、200c、200d射出的激光束l朝向对象基板20的上部射出。因此，从对象基板20剥离的颗粒p朝向对象基板20的下部下落，因此激光束l不会受到颗粒p的影响，可以防止蚀刻工艺的效率降低。并且，由于进一步设置有第三激光模块200c和第四激光模块200d，可以同时蚀刻或剥离对象基板20的更多区域，从而可以增加蚀刻工艺的效率。图21是本发明的又一实施例的蚀刻装置的剖视图。参照图21，本实施例的蚀刻装置10_2与图2的实施例的区别在于，本实施例的蚀刻装置10_2不仅可包括设置在对象基板20的上部的第一激光模块200a和第二激光模块200b，还可进一步包括设置在对象基板20的下部的下部激光模块350。如果进行具体说明，则本实施例的蚀刻装置10_2可进一步包括下部激光模块350，下部激光模块350设置在对象基板20的下部的同时，设置在真空腔室100的外部。下部激光模块350可被设置在光学系统平台300的下部支撑台310上。此外，蚀刻装置10_2的真空腔室100可在真空腔室100的底面进一步包括下部腔室窗口101c。所述下部腔室窗口101c位于下部激光模块350的上部，可以使从下部激光模块350射出的激光束l入射到真空腔室100的内部。即，从下部激光模块350射出的激光束l可以通过下部腔室窗口101c进入真空腔室100的内部。设置在对象基板20的下部的下部激光模块350可在第三方向dr3上与设置在对象基板20的上部的第一激光模块200a和第二激光模块200b不重叠。由此，可以防止下部激光模块350与第一激光模块200a及第二激光模块200b彼此干涉。在该情况下，射出可以蚀刻或剥离对象基板20的激光束l的第一激光模块200a及第二激光模块200b也被设置在对象基板20的上部，从第一激光模块200a及第二激光模块200b射出的激光束l朝向对象基板20的上部射出。因此，从对象基板20剥离的颗粒p朝向对象基板20的下部下落，因此激光束l不会受到颗粒p的影响，可以防止蚀刻工艺的效率降低。并且，由于在对象基板20的下部也设置有下部激光模块350，因此可以更加精密地蚀刻或剥离对象基板20的下侧，从而可以提高蚀刻工艺的可靠性。以上参照附图对本发明的实施例进行了说明，但本发明所属
技术领域：
：的技术人员应能理解在不改变本发明的技术思想或必要特征时可以以其他具体形式实施。因此，应理解为以上所述的实施例在所有方面上为示例性的，而不是限定性的。附图标记说明10：蚀刻装置20：对象基板30：显示装置100：真空腔室200：激光光学系统300：光学系统平台。当前第1页12当前第1页12