渐变色基板制备装置及渐变色基板制备方法与流程

本发明涉及电子技术领域，尤其涉及一种渐变色基板制备装置及渐变色基板制备方法。

背景技术：

玻璃盖板(Cover Glass，CG)在电子产品中应用非常广泛，但是直接在玻璃盖板上形成精度很高的色彩渐变效果比较困难。目前，渐变效果一般多以喷涂等工艺来实现，将有色液态涂料喷到玻璃基板表面，通过控制喷涂角度，实现涂层厚度不均，来达到颜色的渐变。也有采用双色喷涂，在同一个玻璃基板上喷涂两种不同颜色或者光泽的涂料。但是，由于玻璃基板与涂料的表面张力，容易在边缘积油，效果不理想，喷涂时对喷枪角度的要求较高，涂料的浪费较严重，渐变分界面的控制比较困难。

技术实现要素：

本发明提供了一种渐变色基板制备装置，所述渐变色基板制备装置包括真空镀膜室、第一安装部、第二安装部、驱动部及挡板，所述真空镀膜室用于收容所述第一安装部、所述第二安装部及所述挡板，所述第一安装部用于安装待镀膜的基板，所述基板包括相对设置的第一表面及第二表面，第二安装部用于安装镀膜源，所述镀膜源邻近所述基板的所述第一表面设置，所述镀膜源用于提供镀膜材料，所述驱动部用于驱动所述真空镀膜室旋转，所述挡板设置在所述基板及所述镀膜源之间，所述挡板包括至少一个遮挡单元，所述遮挡单元的不同部位的宽度不同，所述遮挡单元用于对所述镀膜源发出的所述镀膜材料进行非均匀遮挡，以在所述第一表面形成厚度线性变化的光学膜层。

其中，所述真空镀膜室包括侧壁、顶部、底部及阀门，所述侧壁一端连接所述顶部，所述侧壁的另一端连接所述底部，所述顶部与所述底部相对设置，所述侧壁、所述顶部、所述底部及所述阀门形成一收容空间，所述第一安装部、所述第二安装部及所述挡板设置在所述收容空间内，通过所述阀门可对所述收容空间进行抽真空。

其中，所述第一安装部的形状与所述顶部的形状相同。

其中，所述第一安装部为弧面。

其中，所述镀膜源包括第一镀膜源及第二镀膜源，所述第一镀膜源用于提供第一折射率镀膜材料，所述第二镀膜源用于提供第二折射率镀膜材料，其中，所述第一折射率镀膜材料的折射率小于所述第二折射率镀膜材料的折射率，所述渐变色基板制备装置还包括切换部，所述切换部用于控制所述第一镀膜源及所述第二镀膜源交替发射所述第一折射率镀膜材料及所述第二折射率镀膜材料。

其中，所述遮挡单元包括相对设置的第一端及第二端，所述遮挡单元的宽度自所述第一端向所述第二端线性减小，所述光学膜层包括相对设置的第三端及第四端，其中，所述第三端与所述第一端相对应，所述第四端与所述第二端相对应，所述光学膜层的厚度自所述第三端向所述第四端线性增大。

相较于现有技术，本发明的渐变色基板制备装置中通过设置包括至少一个遮挡单元的挡板，且所述遮挡单元的不同部位的宽度不同，所述遮挡单元用于对镀膜源发出的镀膜材料进行非均匀遮挡，以在所述基板的所述第一表面形成厚度线性变化的光学膜层，从而使得所述基板呈现渐变色。且所述光学膜层的厚度变化呈现线性或者近似线性的变化，渐变色效果较好。

本发明还提供了一种渐变色基板制备方法，所述渐变色基板制备方法包括：

提供一挡板，并将所述挡板固定在真空镀膜室内，所述挡板包括至少一个遮挡单元，所述遮挡单元的不同部位的宽度不同；

将待镀膜的基板装置于所述真空镀膜室内，所述基板包括相对设置的第一表面及第二表面；

将镀膜源安装在真空镀膜室内，所述镀膜源用于提供镀膜材料，所述镀膜源邻近所述基板的所述第一表面设置；

对所述真空镀膜室进行抽真空；

驱动所述真空镀膜室，所述挡板对所述镀膜源发出的镀膜材料进行非均匀遮挡，以在所述第一表面形成光学膜层。

其中，所述步骤“将镀膜源安装在真空镀膜室内，所述镀膜源用于提供镀膜材料，所述镀膜源邻近所述基板的所述第一表面设置”包括：

将第一镀膜源及第二镀膜源安装在所述真空镀膜室内，所述第一镀膜源用 于提供第一折射率镀膜材料，所述第二镀膜源用于提供第二折射率镀膜材料，其中，所述第一折射率镀膜材料的折射率小于所述第二折射率材料镀膜材料的折射率；

所述步骤“驱动所述真空镀膜室，所述挡板对所述镀膜源发出的镀膜材料进行非均匀遮挡，以在所述第一表面形成光学膜层”包括：

驱动所述真空镀膜室，控制所述第一镀膜源及所述第二镀膜源交替发射所述第一折射率镀膜材料及第二折射率镀膜材料，在所述第一镀膜源及所述第二镀膜源交替发射所述第一折射率镀膜材料及所述第二折射率镀膜材料时，分别采用所述挡板对所述第一折射率镀膜材料及所述第二折射率镀膜材料进行非均匀遮挡，以在所述第一表面形成多层膜结构的厚度线性变化的所述光学膜层。

其中，在所述步骤“驱动所述真空镀膜室，所述挡板对所述镀膜源发出的镀膜材料进行非均匀遮挡，以对所述第一表面形成光学膜层”之后，所述渐变色基板制备方法还包括：

在所述镀膜层上通过丝印或者镀金属膜的方式对设置有所述镀膜层的所述第一表面进行遮盖。

其中，当在所述镀膜层上通过丝印的方式对设置有所述镀膜层的所述第一表面进行遮盖时包括：在所述镀膜层上通过网版丝印油墨的方式形成一层遮盖层；接着，对所述遮盖层进行烘干。

其中，所述遮挡单元包括相对设置的第一端及第二端，所述遮挡单元的宽度自所述第一端向所述第二端线性减小，所述光学膜层包括相对设置的第三端及第四端，其中，所述第三端与所述第一端相对应，所述第四端与所述第二端相对应，所述光学膜层的厚度自所述第三端向所述第四端线性增大。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明一较佳实施方式的渐变色基板制备装置的结构示意图。

图2为本发明一较佳实施方式的切换部的结构示意图。

图3为本发明图2中的切换部在一种状态下的工作示意图。

图4为本发明图2中的切换部在另一种状态下的工作示意图。

图5为本发明一较佳实施方式的挡板的结构示意图。

图6为本发明一较佳实施方式的渐变色基板的制备方法的流程图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

请参阅图1，图1为本发明一较佳实施方式的渐变色基板制备装置的结构示意图。所述基板可以为但不仅限于为玻璃基板。所述渐变色基板制备装置10用于制备颜色渐变的基板。所述渐变色基板制备装置10包括真空镀膜室110、第一安装部120、第二安装部130、驱动部140及挡板150。所述真空镀膜室110用于收容所述第一安装部120、所述第二安装部130及所述挡板150。所述第一安装部120用于安装待镀膜的基板20，所述基板20包括相对设置的第一表面210和第二表面220。所述第二安装部130用于安装镀膜源30，所述镀膜源30邻近所述基板20的所述第一表面210设置，所述镀膜源30用于提供镀膜材料。所述驱动部140用于驱动所述真空镀膜室110旋转，所述挡板150设置在所述基板20及所述镀膜源30之间，所述挡板150包括至少一个遮挡单元151，所述遮挡单元151的不同部位的宽度不同，所述遮挡单元151用于对所述镀膜源30发出的所述镀膜材料进行非均匀遮挡，从而在所述第一表面210上形成厚度线性变化的光学膜层。

所述真空镀膜室110包括侧壁111、顶部112、底部113和阀门114。所述侧壁111一端连接所述顶部112，所述侧壁111的另一端连接所述底部113，所述顶部112和所述底部113相对设置，所述侧壁111、所述顶部112、所述底部113及所述阀门114形成一收容空间。在本实施方式中所述侧壁111为柱状，所述顶部112为弧面，所述顶部112的弧面的顶点远离所述侧壁111的一端设置。所述第一安装部120、所述第二安装部130及所述挡板150设置在所述收容空间内，通过所述阀门114可对所述收容空间进行抽真空。所述阀门114可以设置 在所述侧壁111上，也可以设置在所述顶部112，或者设置在所述底部113上，在本发明中，对所述阀门114的设置位置不做限定。

所述第一安装部120用于安装待镀膜的基板20，优选地，所述第一安装部120的形状与所述顶部112的形状相同。所述第一安装部120为弧面。所述第一安装部120为弧面可以增加安装待镀膜的基板20的数量。

在本实施方式中，所述镀膜源30包括第一镀膜源310及第二镀膜源320。所述第一镀膜源310用于提供第一折射率镀膜材料，所述第二镀膜源320用于提供第二折射率镀膜材料，其中，所述第一折射率镀膜材料的折射率小于所述第二折射率镀膜材料的折射率。所述第一折射率镀膜材料可以为氧化硅(SiO₂)、氟化硅等，所述第二折射率镀膜材料可以为氮化硅(Si₃N₄)、氧化钛、氧化锆、氧化锌、氧化铌等。相应地，本发明的渐变色基板制备装置10还包括一切换部160，所述切换部160用于控制所述第一镀膜源310及所述第二镀膜源320交替发射所述第一折射率镀膜材料及所述第二折射率镀膜材料。请一并参阅图2、图3和图4，图2为本发明一较佳实施方式的切换部的结构示意图；图3为本发明图2中的切换部在一种状态下的工作示意图；图4为本发明图2中的切换部在另一种状态下的工作示意图。在图3中，所述切换部160开启所述第一镀膜源310，且遮蔽所述第二镀膜源320，此时，所述第一镀膜源310发射所述第一折射率镀膜材料，所述第二镀膜源320不发射所述第二折射率镀膜材料，所述基板20的所述第一表面210上形成一层厚度线性变化的第一折射率镀膜材料。接着，在图4中，所述切换部160开启所述第二镀膜源320，且关闭所述第一镀膜源310，此时，所述第一镀膜源310不发射第一折射率镀膜材料，所述第二镀膜源320发射第二折射率镀膜材料，所述基板20的所述第一表面210上接着形成一层厚度线性变化的第二折射率镀膜材料。且在所述基板20的所述第一表面210上形成的厚度线性变化的第二折射率镀膜材料中厚度较厚的部位对应上一层在所述第一表面210上形成的厚度线性变化的第一折射率薄膜材料中厚度较厚的部位；所述基板20的所述第一表面210上形成的厚度线性变化的第二折射率薄膜材料中厚度较薄的部位上对应上一层在所述第一表面210上形成的厚度线性变化的第一折射率薄膜材料中厚度较薄的部位。经过反复几次，最终在所述基板20的所述第一表面210上形成一层第一折射率镀膜材料及第二折射率镀膜材料间隔设置的且厚度线性变化的光学膜层。厚度较厚部分的光学膜层的颜色较 深且亮度较亮，厚度较薄部分的光学膜层的颜色较浅且亮度相对较暗，由于所述基板20的所述第一表面210上形成了厚度线性变化的光学膜层，因此，从视觉上来看，所述基板20的第一表面210上形成的光学膜层的颜色和亮度为渐变的。

在本实施方式中，所述驱动部140一部分位于所述真空镀膜室110内且与所述第一安装部120固定连接，优选地，所述驱动部140与所述第一安装部120固定连接时，搜索驱动部140的一端设置在所述弧面安装部120的顶部；所述驱动部140的另一部分位于所述真空镀膜室110外，所述驱动部140用于接收外部驱动装置的驱动，并在外部驱动装置的驱动下旋转，所述驱动部140的旋转进而带动所述第一安装部120旋转。

请一并参阅图5，图5为本发明一较佳实施方式的挡板的结构示意图。所述挡板150包括多个遮挡单元151，所述遮挡单元151包括相对设置的第一端1511及第二端1512，所述遮挡单元151的宽度自所述第一端1511向所述第二端1512线性减小。相应地，形成的所述光学膜层也包括相对设置的第三端及第四端，其中，所述第三端与所述第一端1511相对应，所述第四端与所述第二端1512相对应，所述光学膜层的厚度自所述第三端向所述第四端线性增大。所述挡板150的制备方法可以为但不仅限于将一用于制作挡板150的板材进行裁剪，以形成如图5所示的挡板150。制作所述挡板150的板材可以为但不仅限于为钢板。

在本实施方式中，所述挡板150可以设置在所述侧壁111上，且所述挡板150倾斜设置，以使得部位基板20位于所述挡板150与所述侧壁111形成的夹角之间。

相较于现有技术，本发明的渐变色基板制备装置10中通过设置包括至少一个遮挡单元151的挡板150，且所述遮挡单元151的不同部位的宽度不同，所述遮挡单元151用于对镀膜源30发出的镀膜材料进行非均匀遮挡，以在所述基板20的所述第一表面210形成厚度线性变化的光学膜层，从而使得所述基板20呈现渐变色。且所述光学膜层的厚度变化呈现线性或者近似线性的变化，渐变色效果较好。

下面结合图1至图5对本发明渐变色基板的制备方法的流程图进行介绍。请参阅图6，图6为本发明一较佳实施方式的渐变色基板的制备方法的流程图。所述渐变色基板的制备方法包括但不进行于以下步骤。

步骤S101，提供一挡板150，并将所述挡板150固定在所述真空镀膜室110内，所述挡板150包括至少一个遮挡单元151，所述遮挡单元151的不同部位的宽度不同。

具体地，所述真空镀膜室110包括侧壁111、顶部112、底部113和阀门114。所述侧壁111一端连接所述顶部112，所述侧壁111的另一端连接所述底部113，所述顶部112和所述底部113相对设置，所述侧壁111、所述顶部112、所述底部113及所述阀门114形成一收容空间。在本实施方式中所述侧壁111为柱状，所述顶部112为弧面，所述顶部112的弧面的顶点远离所述侧壁111的一端设置。所述第一安装部120、所述第二安装部130及所述挡板150设置在所述收容空间内，通过所述阀门114可对所述收容空间进行抽真空。所述阀门114可以设置在所述侧壁111上，也可以设置在所述顶部112，或者设置在所述底部113上，在本发明中，对所述阀门114的设置位置不做限定。在本实施方式中，所述挡板150可以设置在所述侧壁111上，且所述挡板150倾斜设置，以使得部位基板20位于所述挡板150与所述侧壁111形成的夹角之间。

所述挡板150包括多个遮挡单元151，所述遮挡单元151包括相对设置的第一端1511及第二端1512，所述遮挡单元151的宽度自所述第一端1511向所述第二端1512线性减小。所述挡板150的制备方法可以为但不仅限于将一用于制作挡板150的板材进行裁剪，以形成如图5所示的挡板150。制作所述挡板150的板材可以为但不仅限于为钢板。

步骤S102，将待镀膜的基板20设置在所述真空镀膜室110内，所述基板20包括相对设置的第一表面210及第二表面220。具体地，在本实施方式中，将待镀膜的基板20设置在所述真空镀膜室110的第一安装部120上。所述第一安装部120的形状与所述顶部112的形状相同。所述第一安装部120为弧面。所述第一安装部120为弧面可以增加安装待镀膜的基板20的数量。所述基板20可以为但不仅限于为玻璃基板。

步骤S103，将镀膜源30安装在所述真空镀膜室110内，所述镀膜源30用于提供镀膜材料，所述镀膜源30邻近所述基板20的所述第一表面210设置。优选地，在此步骤中，包括：将第一镀膜源210及第二镀膜源320安装在所述真空镀膜室110内，所述第一镀膜源310用于提供第一折射率镀膜材料，所述第二镀膜源320用于提供第二折射率镀膜材料，其中，所述第一折射率镀膜材 料的折射率小于所述第二折射率材料镀膜材料的折射率。

步骤S104，对所述真空镀膜室110进行抽真空。

步骤S105，驱动所述真空镀膜室110，所述挡板150对所述镀膜源30发出的镀膜材料进行非均匀遮挡，以在所述第一表面210上形成光学膜层。优选地，在此步骤中，包括：驱动所述真空镀膜室110，控制所述第一镀膜源310及所述第二镀膜源320交替发射所述第一折射率镀膜材料及第二折射率镀膜材料，在所述第一镀膜源310及所述第二镀膜源320交替发射所述第一折射率镀膜材料及所述第二折射率镀膜材料时，分别采用所述挡板150对所述第一折射率镀膜材料及所述第二折射率镀膜材料进行非均匀遮挡，以在所述第一表面形成多层膜结构的厚度线性变化的所述光学膜层。

所述驱动部140一部分位于所述真空镀膜室110内且与所述第一安装部120固定连接，优选地，所述驱动部140与所述第一安装部120固定连接时，搜索驱动部140的一端设置在所述弧面安装部120的顶部；所述驱动部140的另一部分位于所述真空镀膜室110外，所述驱动部140用于接收外部驱动装置的驱动，并在外部驱动装置的驱动下旋转，所述驱动部140的旋转进而带动所述第一安装部120旋转。

步骤S106，在所述镀膜层上通过丝印或者镀金属膜的方式对设置有镀膜层的所述第一表面210进行遮盖。具体地，在所述镀膜层上通过网版丝印油墨(白色、黑色、彩色均可)的方式形成一层遮盖层；接着，对所述遮盖层进行烘干。在其他实施方式中，也可以通过真空磁控溅射，或者真空离子束政法等方式在设置有镀膜层的所述第一表面210上镀制铝、铜、铬、银等金属层以对所述第一表面210进行遮盖。

以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非限制，尽管参照较佳实施例对本发明进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本发明的技术方案进行修改或等同替换，而不脱离本发明技术方案的精神和范围。