技术总结
本发明公开了一种双氧水稳定剂及双氧水蚀刻液，属于金属蚀刻领域。该双氧水稳定剂中同时含有醇羟基和醚键，且该双氧水稳定剂中碳原子的个数为3-12。本发明提供的具有如上结构双氧水稳定剂，将其用于双氧水体系的金属蚀刻液中时，其能够明显抑制过氧化氢的分解，且利用含该双氧水稳定剂的蚀刻液进行蚀刻，蚀刻后的金属材料表面不会残留金属，利于提高蚀刻的均一性。可见，本发明实施例提供的双氧水稳定剂不仅能提高双氧水体系蚀刻液的使用稳定性和保质期，且利于保证双氧水体系蚀刻液的蚀刻效果。
技术研发人员：高晓义;刘翘楚;季冬晨;苏双峰;胡正山;胡杭剑
受保护的技术使用者：上海飞凯光电材料股份有限公司
文档号码：201510937359
技术研发日：2015.12.15
技术公布日：2017.06.23