用于智能手机镜头环喷砂处理的治具的制作方法

文档序号:12695657阅读:473来源:国知局
用于智能手机镜头环喷砂处理的治具的制作方法与工艺

本实用新型涉及一种用于智能手机镜头环喷砂处理的治具,涉及喷砂治具领域。



背景技术:

手机零部件经常需要表面改性处理来改善外观和功能要求,例如阳极氧化、PVD、电泳等。为获得高质量涂层,需要在表面改性处理之前对零部件进行喷砂处理,以提高涂层与基体的结合强度。手机零部件一般精密而微小,以独立单元进行喷砂几乎是不可能的,而且喷砂效率极低。所以,手机零部件大多是料带形式完成各工艺,最终落料。 喷砂治具在结构上并没有太大差异,主要区别在底板与盖板的连接、料带的定位问题上。传统治具多采用螺钉连接,并把料带定位过死,尽管喷砂质量较好,但拆卸不变,极大地限制了喷砂效率。料带定位以两侧边定位,对底板结构要求更好,不利于降低成本。



技术实现要素:

本实用新型目的是提供一种用于智能手机镜头环喷砂处理的治具,该用于智能手机镜头环喷砂处理的治具,采用磁铁连接底板与盖板,拆卸换料不需任何工具,极为方便,效率高;料带通过定位销定位,成本低廉。

为达到上述目的,本实用新型采用的技术方案是:一种用于智能手机镜头环喷砂处理的治具,包括盖板、底板和磁铁,所述磁铁分别相对应镶嵌于盖板和底板上,所述底板上表面具有若干供定位的定位销,所述盖板上开有若干个供定位销嵌入的定位孔,所述盖板与底板之间通过至少2对定位孔和定位销连接;

所述磁铁为可卸取的梯形体,所述底板上开有若干均匀排列的取手位,一料带定位销固定于底板上,所述盖板上开有相互平行的喷砂池。

上述技术方案中进一步改进的方案如下:

1. 上述方案中,所述定位孔形状为圆形,所述定位销形状为圆柱体,此定位孔和定位销的数目相等。

2. 上述方案中,所述取手位数目为8~9个。

3. 上述方案中,所述喷砂池数目为2个。

4. 上述方案中,所述料带定位销数目为2~6个。

5. 上述方案中,所述取手位数目为9个。

由于上述技术方案运用,本实用新型与现有技术相比具有下列优点:

1. 本实用新型用于智能手机镜头环喷砂处理的治具,所述磁铁分别相对应镶嵌于盖板和底板上,且磁铁为可卸取的梯形体,采用可卸取的磁铁连接盖板和底板,夹持料带,方便料带的拆卸换取,提高工作效率,减少劳动成本。

2. 本实用新型用于智能手机镜头环喷砂处理的治具,所述底板上表面具有若干供定位的定位销,所述盖板上开有若干个供定位销嵌入的定位孔,所述盖板与底板之间通过至少2对定位孔和定位销连接,用以精确固定盖板和底板的位置,从而提高对料带定位的准确性。

3. 本实用新型用于智能手机镜头环喷砂处理的治具,所述底板上开有若干均匀排列的取手位,一料带定位销固定于底板上,操作灵活,拆卸方便,并且可以提高料带固定的准确性。

附图说明

附图1为本实用新型用于智能手机镜头环喷砂处理的治具结构示意图一;

附图2为本实用新型用于智能手机镜头环喷砂处理的治具结构示意图二;

附图3为本实用新型用于智能手机镜头环喷砂处理的治具结构示意图三;

附图4为本实用新型用于智能手机镜头环喷砂处理的治具结构示意图四。

以上附图中:1、盖板;2、底板;3、磁铁;4、定位孔;5、定位销;6、取手位;7、料带定位销;8、喷砂池。

具体实施方式

下面结合附图及实施例对本实用新型作进一步描述:

实施例1:包括盖板1、底板2和磁铁3,所述磁铁3分别相对应镶嵌于盖板1和底板2上;所述底板2上表面具有若干供定位的定位销5,所述盖板1上开有若干个供定位销5嵌入的定位孔4,所述盖板1与底板2之间通过至少2对定位孔4和定位销5连接;

所述磁铁3为可卸取的梯形体,所述底板2上开有若干均匀排列的取手位6,一料带定位销7固定于底板2上,所述盖板1上开有相互平行的喷砂池8。

上述定位孔4形状为圆形,所述定位销5形状为圆柱体,此定位孔4和定位销5的数目相等;上述取手位6数目为8~9个。

实施例2:包括盖板1、底板2和磁铁3,所述磁铁3分别相对应镶嵌于盖板1和底板2上;所述底板2上表面具有若干供定位的定位销5,所述盖板1上开有若干个供定位销5嵌入的定位孔4,所述盖板1与底板2之间通过至少2对定位孔4和定位销5连接;

所述磁铁3为可卸取的梯形体,所述底板2上开有若干均匀排列的取手位6,一料带定位销7固定于底板2上,所述盖板1上开有相互平行的喷砂池8。

上述喷砂池8数目为2个;上述料带定位销7数目为2~6个;上述取手位6数目为9个。

采用用于智能手机镜头环喷砂处理的治具时,采用磁铁连接底板与盖板,拆卸换料不需任何工具,极为方便,效率高;料带通过定位销定位,成本低廉。

上述实施例只为说明本实用新型的技术构思及特点,其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本实用新型的内容并据以实施,并不能以此限制本实用新型的保护范围。凡根据本实用新型精神实质所作的等效变化或修饰,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

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