本实用新型涉及光学器件技术领域，尤其涉及一种光学晶体研磨抛光机用辅助控制装置。
背景技术：
在加工光学零件时需要对光学零件进行研磨、抛光，研磨、抛光是加工光学零件的关键加工工序。现有技术中通常是采用通用的光学抛光机对平面光学零件进行研磨抛光，抛光时下抛光盘在光学抛光机主动转轴的驱动下自动旋转，上抛光盘在光学抛光机往复摆杆的驱动下围绕下抛光盘中心相对转动，同时上抛光盘在抛光摩擦时也跟随自转，使固定在下抛光盘上的光学零件在上抛光盘压力下不断被研磨，从而使光学零件逐渐被抛光。
由于现有的这些光学抛光机结构较为简易，生产时研磨抛光过程都是依靠操作人员主观控制，研磨抛光过程中的研磨抛光压力、下抛光轮的转速以及持续抛光时间都是操作人员各自依靠经验调整的，这些研磨抛光工艺参数没有被有效收集、监控和提炼优化，导致不同的操作人员生产的光学零件存在较大的差异，不利于进一步优化改进研磨抛光生产工序、提高改善研磨抛光质量。
技术实现要素：
为克服现有技术的不足，本实用新型提供了一种管理方便、操作使用可靠、有利于精益生产的光学晶体研磨抛光机用辅助控制装置。
本实用新型为达到上述技术目的所采用的技术方案是：一种光学晶体研磨抛光机用辅助控制装置，包括设于光学抛光机上的一个辅助操作装置，所述辅助操作装置中设有一个控制器、一个转速检测传感器和一个压力检测传感器，所述转速检测传感器与光学抛光机上的主动转轴相连，所述压力检测传感器设于光学抛光机的上抛光盘与连接杆之间，所述转速检测传感器和压力检测传感器再与所述控制器的输入端相连，所述控制器中设有操作按钮和显示屏，所述控制器中设有能够根据转速检测传感器和压力检测传感器触发计时的计时器，所述控制器中还设有连接所述转速检测传感器、压力检测传感器和计时器的数据储存装置；存储在数据储存装置中的数据能够导入计算机系统中进行汇总和分析，从而能够提炼、优化研磨抛光工艺参数，有利于逐步完善研磨操作规程，提高研磨抛光质量。
所述辅助操作装置还连接有一个研磨膏自动添加装置，所述研磨膏自动添加装置中设有研磨膏存储料筒，所述研磨膏存储料筒的底部设有自动控制阀门，所述自动控制阀门与所述控制器控制相连；实现自动添加研磨膏，能够进一步精细化研磨。
所述控制器中设有声光报警装置；当转速检测传感器和压力检测传感器检测到的数据超出设定范围时，能够发出声光报警提示操作者进行调整。
本实用新型的有益效果是：采用上述结构，通过设置一个与光学抛光机相连的专用辅助操作装置，辅助操作装置中设置控制器、转速检测传感器和压力检测传感器，能够实时检测研磨抛光的转速、压力和抛光时间，检测的数据存在控制器中的数据储存装置中，并能够通过数据储存装置把这些数据导入计算机系统中进行汇总和分析，从而能够方便管理人员提炼、优化研磨抛光工艺参数，有利于逐步完善研磨操作规程使研磨抛光质量尽量一致。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明。其中：
图1是本实用新型光学晶体研磨抛光机用辅助控制装置的结构示意图。
具体实施方式
为详细说明本实用新型的技术内容、构造特征、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图详细说明。
请参阅图1所示，本实用新型光学晶体研磨抛光机用辅助控制装置包括设于光学抛光机上的一个辅助操作装置1，所述辅助操作装置1中设有一个控制器11、一个转速检测传感器12和一个压力检测传感器13，所述转速检测传感器12与光学抛光机上的主动转轴相连，所述压力检测传感器13设于光学抛光机的上抛光盘与连接杆之间，所述转速检测传感器12和压力检测传感器13再与所述控制器11的输入端相连，所述控制器11中设有操作按钮111和显示屏112，所述控制器11中设有能够根据转速检测传感器12和压力检测传感器13触发计时的计时器113，所述控制器11中还设有连接所述转速检测传感器12、压力检测传感器13和计时器113的数据储存装置114。
所述辅助操作装置1还连接有一个研磨膏自动添加装置2，所述研磨膏自动添加装置2中设有研磨膏存储料筒21，所述研磨膏存储料筒21的底部设有自动控制阀门22，所述自动控制阀门22与所述控制器11控制相连。
所述控制器11中设有声光报警装置115。
以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。