1.一种抛光装置，用于对玻璃盖板的通孔进行抛光处理，其特征在于：所述抛光装置包括抛光机构和支撑机构；
所述支撑机构包括工件台，所述工件台用于固定具有待抛光通孔的玻璃盖板；
所述抛光机构包括抛光毛刷和抛光驱动组件，所述抛光毛刷可伸入与所述玻璃盖板的通孔中；所述抛光驱动组件在抛光毛刷位于通孔中时，可带动所述抛光毛刷旋转对待抛光盖板玻璃的通孔进行抛光。
2.如权利要求1所述的抛光装置，其特征在于：所述支撑机构还包括滑轨组件以及滑轨驱动件，所述滑轨组件包括第一滑轨和第二滑轨；
所述工件台与第一滑轨固定连接，所述第一滑轨和所述第二滑轨滑动配合，所述滑轨驱动件驱动第一滑轨进而驱动工作台在第一方向上位移。
3.如权利要求2所述的抛光装置，其特征在于：所述支撑机构还包括升降组件，所述升降组件与第二滑轨连接，带动第二滑轨在第二方向上位移，所述第二方向与第一方向垂直。
4.如权利要求1所述的抛光装置，其特征在于：所述抛光机构还包括抛光齿轮和抛光转轴，所述抛光毛刷和抛光齿轮分别与抛光转轴两端连接；
所述抛光驱动组件与所述抛光齿轮通过齿轮传动啮合，带动抛光毛刷以抛光转轴为轴线旋转。
5.如权利要求4所述的抛光装置，其特征在于：所述抛光齿轮为斜齿轮。
6.如权利要求1所述的抛光装置，其特征在于：还包括真空吸附装置，工件台上设置有吸附孔，所述吸附孔与真空吸附装置连通设置。
7.如权利要求6所述的抛光装置，其特征在于：所述工件台上设置有缓冲垫，所述缓冲垫上开设有与所述吸附孔相连通的吸附槽，且所述吸附槽为多条，在缓冲垫表面呈等间距布置。
8.如权利要求7所述的抛光装置，其特征在于：所述吸附槽包括两条U形的吸附子槽，所述吸附子槽相互隔离独立，在缓冲垫表面呈“回”字形布置。
9.如权利要求1所述的抛光装置，其特征在于：工件台上边缘区域设置排水口，所述排水口朝上的开口为倒梯形结构。
10.如权利要求9所述的抛光装置，其特征在于：还包括废液处理机构，所述废液处理机构包括导水管，过滤层以及集水槽，所述导水管与排水口连通，经排水口出来的废液经导水管引入过滤层，经过滤层过滤后进入集水槽。