本实用新型涉及抛光设备技术领域,特别是一种大平面圆盘自动抛光机。
背景技术:
目前,针对大平面工件的抛光作业,主要采用人工使用小型抛光机慢慢一处处地抛光,工作效率低下,且工件各处的抛光力度不均匀,抛光质量得不到保障,急需一种针对大平面设计的大平面抛光机。
技术实现要素:
本实用新型旨在至少在一定程度上解决相关技术中的上述技术问题之一。为此,本实用新型提出一种大平面圆盘自动抛光机。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:
大平面圆盘自动抛光机,包括工作台和环绕工作台间隔均匀设置的多组抛光机构,所述工作台包括中心可转动的圆盘、圆盘上均匀设置的多个抛光头和驱动圆盘自转的第一电机,所述抛光机构包括抛光臂、安装于抛光臂上的固定座、固定座上的第二电机和由第二电机驱动的抛光轮。
作为上述技术方案的改进,所述第二电机通过皮带带动抛光轮转动。
作为上述技术方案的进一步改进,所述抛光臂顶端还设置有可驱动固定座在抛光臂上上下滑动的第三电机。
进一步,所述抛光机构安装在一滑槽上,并可在滑槽上左右滑动,滑槽一侧设有驱动抛光机构滑动的第四电机。
进一步,所述抛光轮可被替换为砂带轮。
进一步,所述抛光头通过液压底座安装于圆盘上,所述液压底座可带动抛光头前后、左右摇摆。
进一步,还包括用于控制整个系统工作的PLC系统。
本实用新型的有益效果是:本实用新型的大平面圆盘自动抛光机采用在可转动的圆盘上设置抛光头,并在四周设置多组抛光机构,工件装夹完成后,可由圆盘带动进行各类粗抛、精抛或砂研作业,空间利用率高,工作效率高,特别适用于规则与不规则的量大产品的表面处理。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
图1是本实用新型俯视图;
图2是本实用新型正视剖视图。
具体实施方式
参照图1至图2,本实用新型的一种大平面圆盘自动抛光机,包括工作台1和环绕工作台1间隔均匀设置的多组抛光机构2,所述工作台1包括中心可转动的圆盘11、圆盘11上均匀设置的多个抛光头12和驱动圆盘11自转的第一电机13,所述抛光机构2包括抛光臂21、安装于抛光臂21上的固定座22、固定座22上的第二电机23和由第二电机23驱动的抛光轮24,优选,所述第二电机23通过皮带带动抛光轮24转动,所述抛光臂21顶端还设置有可驱动固定座22在抛光臂21上上下滑动的第三电机25,所述抛光机构2安装在一滑槽3上,并可在滑槽3上左右滑动,滑槽3一侧设有驱动抛光机构2滑动的第四电机31,可使抛光轮24相对于工作台1前后、上下移动,调整抛光轮24与工作台1之间的间隙,提高对各类不规则工件的通用性,并且当抛光轮(24)上的布轮由于磨损而减小与工件的接触时,可补偿抛光轮(24)与工件间的间隙,保证抛光力度的一致,确保抛光精度。
进一步的,所述抛光轮24可被替换为砂带轮26,可在工件的粗抛、精抛结束后,对工价进行砂研处理;所述抛光头12通过液压底座安装于圆盘11上,所述液压底座可带动抛光头12前后、左右摇摆,保证抛光过程中360度无死角;还包括用于控制整个系统工作的PLC系统,采用PLC控制整个系统,自动化程度高,工作更精确。
以上具体结构和尺寸数据是对本实用新型的较佳实施例进行了具体说明,但本实用新型创造并不限于所述实施例,熟悉本领域的技术人员在不违背本实用新型精神的前提下还可做出种种的等同变形或替换,这些等同的变形或替换均包含在本申请权利要求所限定的范围内。