技术特征：
技术总结
本发明提供密封膜形成装置和密封膜形成方法，能够稳定地形成阻隔性高的密封膜。具体而言，该密封膜形成装置具备：第一减压腔室4，其对基材W进行容纳；覆盖膜形成部2，其利用湿法工艺将覆盖膜材料供给至第一减压腔室4内所容纳的基材W而形成覆盖膜93；第二减压腔室5，其对基材W进行容纳；被减压的减压输送路6，其是基材W从第一减压腔室4到第二减压腔室5的输送路径；以及密封膜形成部3，其利用干法工艺将密封膜材料供给至形成在第二减压腔室5内所容纳的基材W上的覆盖膜93而形成密封膜90。
技术研发人员：山下雅充;中北和德;山本清人
受保护的技术使用者：东丽工程株式会社
技术研发日：2016.07.19
技术公布日：2018.03.27