技术特征：
技术总结
提供一种表面缺陷难以发生，可形成平滑的表面的镀膜的磁盘用铝合金坯体和磁盘用铝合金基片。磁盘用铝合金坯体和磁盘用铝合金基片中，含有Mg：3.5～6.2质量％，并在满足Ti：0.0005～0.0020质量％、V：0.0005～0.0020质量％、Zr：0.0002～0.0020质量％、以及关系式：Ti+V+Zr≤0.0020质量％的范围内，含有Ti、V和Zr之中的至少一种，余量由Al和不可避免的杂质构成，表面的Al－(Ti,V,Zr)系金属间化合物的绝对最大长度为1μm以下。
技术研发人员：寺田佳织;梅田秀俊
受保护的技术使用者：株式会社神户制钢所
技术研发日：2017.09.26
技术公布日：2018.04.10