技术特征：
技术总结
本发明提供金属膜蚀刻液组合物、显示装置用阵列基板的制造方法，上述金属膜蚀刻液组合物的特征在于，包含A)过氧化氢、B)含氟化合物、C)四唑系化合物、D)一分子中具有氮原子和羧基的水溶性化合物、E)硫酸盐化合物和F)多元醇型表面活性剂，上述四唑系化合物由通式1表示。R1为独立地选自由具有卤素原子、氰基、羟基或胺基中的任一个取代基的取代的或非取代的、C1～C12的脂肪族烃基、‑R2‑O‑R3、‑NO2、‑COOR4、C6～C12的芳香族烃基组成的组中的取代基，上述R2为作为(CH2)n且n为0～6的整数的亚烷基，上述R3为作为C1～C6的脂肪族烃基的取代基，上述R4为C1～C6的脂肪族烃基。通式1
技术研发人员：金兑勇;金炼卓;梁圭亨
受保护的技术使用者：东友精细化工有限公司
技术研发日：2017.12.29
技术公布日：2018.07.10