本实用新型涉及一种新型均匀易控真空镀膜装置，属于镀膜技术领域。
背景技术：
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真空镀膜是一种由物理方法产生薄膜材料的技术，在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上，真空镀膜的功能是多方面的，这也决定了其应用场合非常丰富，总体来说，真空镀膜的主要功能包括赋予被镀件表面高度金属光泽和镜面效果，在薄膜材料上使膜层具有出色的阻隔性能，提供优异的电磁屏蔽和导电效果。
现阶段的真空镀膜技术已经发展的相当成熟，真空镀膜的方法也多种多样，但是还是存在一定的弊端，不能够很好的保证镀膜的均匀性，因此在一些精密的镀件上，容易产生误差，造成损失，因此针对这些不足，我们需要对现有技术进行革新。
技术实现要素：
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针对上述问题，本实用新型要解决的技术问题是提供一种新型均匀易控真空镀膜装置。
本实用新型的新型均匀易控真空镀膜装置，它包含真空室、真空吸管、真空泵、氮气管、加热坩埚、坩埚支撑架、电加热丝、金属原材料、磁感线圈、引导仓、磁感金属柱、真空镀膜件和镀膜件连接杆，真空室左下角通过真空吸管与真空泵连接，真空室右下角设有氮气管，真空室内部设有加热坩埚，加热坩埚由坩埚支撑架支撑，加热坩埚上设有电加热丝，加热坩埚内设有金属原材料，金属原材料下侧设有磁感线圈，加热坩埚上侧设有引导仓，引导仓上设有磁感金属柱，引导仓上侧设有真空镀膜件，真空镀膜件上侧设有镀膜件连接杆。
作为优选，所述的真空室的顶端为圆弧顶。
作为优选，所述的加热坩埚下侧设有延伸出去的原料筒。
作为优选，所述的引导仓和真空镀膜件之间设有绝缘塞。
作为优选，所述的磁感金属柱和镀膜件连接杆上均设有磁感线圈。
本实用新型的有益效果：它采用对蒸发原材料进行电磁处理，使内部的电子转移到一端，蒸发后的金属粒子带正点，然后同样利用电磁原理让镀件带正电，让蒸发出来的粒子悬浮在真空层内积累一段时间，然后改变镀件的电性，让粒子均匀的吸附在其表面，从而达到镀膜均匀的目的。
附图说明：
为了易于说明，本实用新型由下述的具体实施及附图作以详细描述。
图1为本实用新型的结构示意图。
1-真空室；2-真空吸管；3-真空泵；4-氮气管；5-加热坩埚；6-坩埚支撑架；7-电加热丝；8-金属原材料；9-磁感线圈；10-引导仓；11-磁感金属柱；12-真空镀膜件；13-镀膜件连接杆。
具体实施方式：
如图1所示，本具体实施方式采用以下技术方案：它包含真空室1、真空吸管2、真空泵3、氮气管4、加热坩埚5、坩埚支撑架6、电加热丝7、金属原材料8、磁感线圈9、引导仓10、磁感金属柱11、真空镀膜件12和镀膜件连接杆13，真空室1左下角通过真空吸管2与真空泵3连接，真空室1右下角设有氮气管4，真空室1内部设有加热坩埚5，加热坩埚5由坩埚支撑架6支撑，加热坩埚5上设有电加热丝7，加热坩埚5内设有金属原材料8，金属原材料8下侧设有磁感线圈9，加热坩埚5上侧设有引导仓10，引导仓10上设有磁感金属柱11，引导仓10上侧设有真空镀膜件12，真空镀膜件12上侧设有镀膜件连接杆13。
其中，所述的真空室1的顶端为圆弧顶，可以当真空室1内吸为真空时，增加真空室1所能承受的压力，防止外壁收到损坏；所述的加热坩埚5下侧设有延伸出去的原料筒，可以让原料可以通过原料筒随时加入，同时防止原料的下部也被融化，增加本装置的适应性；所述的引导仓10和真空镀膜件12之间设有绝缘塞，可以防止引导仓10和真空镀膜件12之间发生串电，影响使用；所述的磁感金属柱11和镀膜件连接杆13上均设有磁感线圈9，可以对引导仓10和真空镀膜件12加上电性。
本具体实施方式采用真空蒸发镀膜法进行镀膜，首先对金属原料8上的磁感线圈9通电，让其产生磁性，负电子堆积在下端，上端待蒸发的为正电离子，然后开始利用电加热丝7进行加热让金属原料3的上端开始蒸发，同时对磁感金属柱11和镀膜件连接杆13上的磁感线圈9进行通电，让引导仓10和真空镀膜件12产生正电极与游离金属粒子排斥，让金属粒子悬浮堆积，一段时间后改变镀膜件连接杆13上的磁感线圈9的电流方向，让真空镀膜件12电极发生变化，从而将游离的金属粒子吸附在表面形成镀膜，达到均匀镀膜的目的。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。